專利名稱：利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法，特別是涉及一種不用拆卸工程間內(nèi)部部件就可以對電極進行清洗，從而縮短停機時間的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法。


圖1為已有技術(shù)的等離子體連續(xù)蒸鍍裝置縱向剖視圖。如圖1所示，工程間1的內(nèi)部設(shè)有上部電極2和下部電極3，上部電極2和下部電極3之間保持一定間距；工程間1的一側(cè)設(shè)有開卷機5，開卷機5將帶狀材料4連續(xù)提供給工程間1；工程間1的另一側(cè)設(shè)有卷繞機6，卷繞機6用于卷取提供給工程間1內(nèi)上部電極2和下部電極3之間經(jīng)過蒸鍍的帶狀材料4。開卷機5設(shè)置在開卷間7內(nèi)，而卷繞機6則設(shè)置在卷繞間8內(nèi)，開卷機5和卷繞機6的附近設(shè)有可引導(dǎo)帶狀材料4的引導(dǎo)輪9。另外，工程間1的下部一側(cè)設(shè)有進氣管10，而另一側(cè)設(shè)有排氣管11。當(dāng)施加電源時，開卷機5開始旋轉(zhuǎn)，并將帶狀材料4提供給工程間1的內(nèi)部；提供給工程間1內(nèi)部的帶狀材料4經(jīng)過上部電極2和下部電極3之間后由卷繞機6連續(xù)卷繞。在此狀態(tài)下，將工作氣體通過進氣管10提供給工程間1的內(nèi)部，而后利用圖中未示出的泵通過排氣管11進行排氣而使工程間1的內(nèi)部保持在一定壓力下，在上部電極2和下部電極3以及帶狀材料4上施加直流電源以便在上部電極2、下部電極3和帶狀材料4之間形成等離子體，從而在移動的帶狀材料4表面蒸鍍上高分子聚合膜。但是具有這種結(jié)構(gòu)的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置經(jīng)過長時間連續(xù)作業(yè)后會在電極上附著上碳化物，因而必須定期對電極進行清洗。清洗時必須停止作業(yè)，將電極拆卸下來并利用刷洗或砂磨等物理手段進行清洗，然后重新將電極進行組裝，這樣無疑會導(dǎo)致停機時間過長。
為了達到上述目的，本發(fā)明提供的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法包括向工程間內(nèi)部注入發(fā)泡六甲基二硅氧烷的階段；向設(shè)置在工程間內(nèi)部的上部電極、下部電極以及材料上施加直流電源的階段；和剝離附著在上部電極、下部電極表面上碳化物的階段。
本發(fā)明的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法是利用向工程間內(nèi)部提供發(fā)泡六甲基二硅氧烷的方法來剝離附著在上部電極、下部電極表面上的碳化物而無需將電極進行拆卸，這樣不僅可節(jié)省清洗時間，而且清洗過程比較簡單，并且提高了生產(chǎn)效率。
圖1為已有技術(shù)的等離子體連續(xù)蒸鍍裝置縱向剖視圖。
圖2為本發(fā)明利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置結(jié)構(gòu)圖。
氣體載體一般采用氬氣、氫氣、氧氣、氦氣、氮氣等非反應(yīng)氣體。氣體載體輸送到貯槽123后可使儲藏在其內(nèi)部的六甲基二硅氧烷122進行發(fā)泡，然后提供給工程間1。供氣管125上設(shè)有流量調(diào)節(jié)器126和閥門127，流量調(diào)節(jié)器126可調(diào)節(jié)氣體的流量，而閥門127則可控制供氣管125的開閉。另外，為給上部電極2、下部電極3提供直流電壓而設(shè)置了圖中未示出的直流電源和可使開卷機105和卷繞機107旋轉(zhuǎn)的電機。當(dāng)接通電源時，通過圖中未示出電機的驅(qū)動可使開卷機105和卷繞機107均按照逆時針方向旋轉(zhuǎn)。纏繞在開卷機105上的帶狀材料4經(jīng)過設(shè)置在工程間1內(nèi)部的上部電極2和下部電極3之間，然后連續(xù)纏繞在卷繞機107上。在此狀態(tài)下，通過進氣管110注入工作氣體，并利用泵112從排氣管111向外排氣，這樣可使工程間1的內(nèi)部保持在一定壓力之下。將直流電源電壓施加到上部電極2、下部電極3和帶狀材料4上，這時可在上部電極2、下部電極3和帶狀材料4之間產(chǎn)生等離子體，工作氣體被激發(fā)并在帶狀材料4的表面蒸鍍形成高分子膜。經(jīng)過一段時間的使用，上部電極2和下部電極3的表面就會附著上碳化物，這時應(yīng)停下開卷機105和卷繞機107，并切斷進氣管110以防止工作氣體流入工程間1內(nèi)部。然后打開供氣管125上的閥門127以將儲氣罐124內(nèi)的氣體載體提供給貯槽123，這時儲藏在貯槽123內(nèi)的六甲基二硅氧烷122就會被發(fā)泡，并通過連接管121流入到工程間1的內(nèi)部。同時，在上部電極2、下部電極3和帶狀材料4上施加直流電源，則在上部電極2、下部電極3和帶狀材料4之間產(chǎn)生等離子體，這時，附著在上部電極2和下部電極3表面的碳化物就會被剝離。在泵112的作用下，被剝離的碳化物通過排氣管111向外部排出。經(jīng)過一定時間的清洗作業(yè)之后，重新旋轉(zhuǎn)開卷機105和卷繞機107，將帶狀材料4供應(yīng)到工程間1的內(nèi)部而繼續(xù)對帶狀材料4進行等離子體蒸鍍作業(yè)。
權(quán)利要求
1.一種利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法，其特征在于所述的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法包括向工程間(1)內(nèi)部注入發(fā)泡六甲基二硅氧烷(122)的階段；向設(shè)置在工程間(1)內(nèi)部的上部電極(2)、下部電極(3)以及材料(4)上施加直流電源的階段；和剝離附著在上部電極(2)、下部電極(3)表面上碳化物的階段。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法，其特征在于所述的六甲基二硅氧烷(122)是通過氣體載體以發(fā)泡狀態(tài)提供給工程間(1)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法，其特征在于所述的氣體載體是氬氣、氫氣、氧氣、氦氣和氮氣等非反應(yīng)氣體中的一種。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法。其包括向工程間內(nèi)部注入發(fā)泡六甲基二硅氧烷的階段；向設(shè)置在工程間內(nèi)部的上部電極、下部電極以及材料上施加直流電源的階段；和剝離附著在上部電極、下部電極表面上碳化物的階段。本發(fā)明的利用等離子體的高分子膜連續(xù)蒸鍍裝置清洗方法是利用向工程間內(nèi)部提供發(fā)泡六甲基二硅氧烷的方法來剝離附著在上部電極、下部電極表面上的碳化物而無需將電極進行拆卸，這樣不僅可節(jié)省清洗時間，而且清洗過程比較簡單，并且提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號C23C16/50GK1473954SQ0212915
公開日2004年2月11日 申請日期2002年8月19日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月19日
發(fā)明者吳定根, 曹川壽, 尹東植 申請人:樂金電子(天津)電器有限公司