一種等離子切割平臺的制作方法
【技術領域】
[0001 ] 本實用新型涉及一種等離子切割平臺。
【背景技術】
[0002]在工業(yè)生產中，金屬熱切割一般有火焰切割、等離子切割、激光切割等，其中等離子切割的切割范圍更廣、效率更高。而精細等離子切割技術在材料的切割表面質量方面已接近了激光切割的質量，但成本卻遠低于激光切割。等離子切割在節(jié)約材料、提高勞動生產率等方面顯示出巨大優(yōu)勢。因此等離子切割在工業(yè)切割中得到廣泛的應用。
[0003]但是在金屬的等離子切割過程中會產生大量煙塵和粉塵，如:乙醛、金屬氧化物、硫化物、碳氫化合物等。這些煙塵在空氣中飛揚，對工人的健康和整個環(huán)境都是有害的，可能導致許多職業(yè)病的出現(xiàn)，嚴重的會產生并發(fā)癥導致死亡；同時還會導致生態(tài)不平衡，破壞生態(tài)環(huán)境等，因而切割機煙塵的治理也越來越迫切。等離子切割除塵方法主要為兩種:干式處理法和濕式處理法。濕式處理法的工作原理是在切割平臺下設置水箱，工件置于水中完成切割作業(yè)，用水來捕捉切割過程中產生的煙塵，從而達到凈化環(huán)境的目的?，F(xiàn)有的濕式處理法缺點如下:1.水箱是開放的，切割中產生的金屬氧化物沉到水箱底部，容易板結，清掃困難；2.—般水箱的深度都有500mm，切割過程中，如有小工件掉到平臺下面，不容易取出來；3.水箱的水位不能調整，需要清理水箱里的金屬氧化物時，要將水全部抽干、更換，浪費水資源。
【實用新型內容】
[0004]為了克服現(xiàn)有技術的不足，本實用新型提供一種等離子切割平臺，水箱的水位可以快速升降，清潔方便，節(jié)約水資源。
[0005]本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是:
[0006]—種等離子切割平臺，包括有水箱，所述水箱中設置有高度小于水箱深度的工件支撐架，所述水箱下部設置有封閉的儲水箱，所述儲水箱與水箱之間設置有連通兩者的通水管，所述通水管豎向設置并且其下端口靠近儲水箱的內底面，所述儲水箱連接有通氣管，所述通氣管上設置有氣路閥門。
[0007]作為上述技術方案的改進，所述水箱的深度至少為50cm，所述工件支撐架的高度為 25cm0
[0008]作為上述技術方案的進一步改進，所述通水管設置在貼近水箱側壁的位置。
[0009]進一步，所述通水管的上端口設置有濾網。
[0010]進一步，所述通水管的上端口在側壁上設置出水孔，所述出水孔的下沿與水箱的底面齊平。
[0011]進一步，所述通水管采用Φ 32X3.5mm的鐵管。
[0012]本實用新型的有益效果是:水先儲存在儲水箱中，打開氣路閥門，壓縮空氣從通氣管進入儲水箱，壓縮空氣將儲水箱中的水通過通水管壓到水箱中，水位達到要求后，關閉氣路閥門即可進行等離子切割工作；等離子切割工作完成后，打開氣路閥門排走儲水箱中的壓縮空氣，水就從水箱回流到儲水箱中，方便工人清潔水箱中的金屬氧化物以及取出意外掉落水箱的小工件，操作簡單、快捷，另外水箱里面的水經常上下流動，不會變成死水，可以循環(huán)使用，節(jié)約水資源。本實用新型結構簡單實用，實施簡單，成本低，適于大范圍推廣。
【附圖說明】
[0013]下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步說明。
[0014]圖1是本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0015]1.參照圖1，一種等離子切割平臺，包括有水箱1，所述水箱1中設置有高度小于水箱1深度的工件支撐架6，所述水箱1下部設置有封閉的儲水箱2，所述儲水箱2與水箱1之間設置有連通兩者的通水管3，所述通水管3豎向設置并且其下端口靠近儲水箱2的內底面，所述儲水箱2連接有通氣管4，所述通氣管4上設置有氣路閥門5。工作原理如下:操作人員打開氣路閥門5，壓縮空氣通過通氣管4進入儲水箱2，儲水箱2里面的水受到上方壓縮空氣的壓力就會通過通水管3流入水箱1，水箱1的水位達到要求后，關閉氣路閥門5，水位就保持在一個水平面上不變，此時就可以把需要切割的工件放到工件支撐架6進行等離子切割，利用水來捕捉切割過程中產生的煙塵，從而達到凈化環(huán)境的目的；切割完成后，操作人員打開排氣路閥門5，排走儲水箱2中的壓縮空氣，水箱1內的水再重力作用下回流到儲水箱2，待水全部回流到儲水箱2后，關閉排氣閥，操作人員就可以方便地清潔水箱中的金屬氧化物以及取出意外掉落水箱的小工件，操作簡單、快捷，另外儲水箱2里面的水經常上下流動，不會變成死水，可以循環(huán)使用，節(jié)約水資源。優(yōu)選的，所述通水管3采用Φ32Χ3.5mm的鐵管，一個標準的大氣壓=0.lMPa=760mm汞柱=10.336m水柱。也就是說，一個標準的大氣壓(一公斤壓力的壓縮空氣)就能將水柱上升到10米高，而我們常用的壓縮空氣壓力是0.SMPa，相當于可以將水柱上升到80米高。氣體流動的速度公式如下:，其中，P表示為壓力(Pa)、P表示為密度(kg/ m3)、V表示為速度(m/s)，已知使用的壓縮空氣壓力為0.8MPa，空氣的密度為1.29kg/ m3，可根據公式計算得流速V=1114m/s。而我們選用的管子規(guī)格是Φ32Χ3.5mm，管子的內徑是25mm。根據流量公式:L=VA，其中，L表示為流量(m3 /s)、V表示為速度(m/s)、A表示為橫截面積(m2 )，可以計算出空氣的流量是:L=3.1415X0.0125X0.0125X1114=0.55 m3 /s=33 m3/min，一般的用水量在 10 m3 一下，將儲水箱 2 里面的水排出來所用的時間不到1分鐘，耗時極短，便于提高生產效率。
[0016]在本實施例中，優(yōu)選的，所述水箱1的深度至少為50cm，所述工件支撐架6的高度為25cm，采用上述尺寸，保證工件在水下進行等離子切割而且水箱1的深度便于清潔操作。
[0017]在本實施例中，優(yōu)選的，所述通水管3設置在貼近水箱1側壁的位置。優(yōu)選的，所述通水管3的上端口設置有濾網。采用上述結構，通水管3設置在貼近水箱1側壁的位置遠離切割位置，再加上濾網防止切割過程中產生的金屬氧化物掉入儲水箱2。
[0018]在本實施例中，優(yōu)選的，所述通水管3的上端口在側壁上設置出水孔301，所述出水孔301的下沿與水箱1的底面齊平。采用上述結構，可使水箱1中的水完全回流到儲水箱2，節(jié)約水資源，便于清潔。
[0019]以上所述，只是本實用新型的較佳實施方式而已，但本實用新型并不限于上述實施例，只要其以任何相同或相似手段達到本實用新型的技術效果，都應落入本實用新型的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種等離子切割平臺，其特征在于:包括有水箱(1)，所述水箱(1)中設置有高度小于水箱(1)深度的工件支撐架(6 )，所述水箱(1)下部設置有封閉的儲水箱(2 )，所述儲水箱(2 )與水箱(1)之間設置有連通兩者的通水管(3 )，所述通水管(3 )豎向設置并且其下端口靠近儲水箱(2 )的內底面，所述儲水箱(2 )連接有通氣管(4)，所述通氣管(4)上設置有氣路閥門(5)。2.根據權利要求1所述的一種等離子切割平臺，其特征在于:所述水箱(1)的深度至少為50cm，所述工件支撐架(6)的高度為25cm。3.根據權利要求1所述的一種等離子切割平臺，其特征在于:所述通水管(3)設置在貼近水箱(1)側壁的位置。4.根據權利要求3所述的一種等離子切割平臺，其特征在于:所述通水管(3)的上端口設置有濾網。5.根據權利要求4所述的一種等離子切割平臺，其特征在于:所述通水管(3)的上端口在側壁上設置出水孔(301)，所述出水孔(301)的下沿與水箱(1)的底面齊平。6.根據權利要求1所述的一種等離子切割平臺，其特征在于:所述通水管(3)采用Φ32Χ3.5mm 的鐵管。
【專利摘要】本實用新型公開了一種等離子切割平臺，包括有水箱，所述水箱中設置有高度小于水箱深度的工件支撐架，所述水箱下部設置有封閉的儲水箱，所述儲水箱與水箱之間設置有連通兩者的通水管，所述通水管豎向設置并且其下端口靠近儲水箱的內底面，所述儲水箱連接有通氣管，所述通氣管上設置有氣路閥門。本實用新型的等離子切割平臺可以快速水箱升降的水位，清潔方便，節(jié)約水資源。
【IPC分類】B23K10/00, B23K37/00
【公開號】CN204954144
【申請?zhí)枴緾N201520647993
【發(fā)明人】李海生
【申請人】江門市博盈焊接工程有限公司
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2015年8月25日