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激光蝕刻設備及使用激光蝕刻設備進行激光蝕刻的方法與流程

文檔序號:12834225閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
提供了激光蝕刻設備及使用激光蝕刻設備進行激光蝕刻的方法。所述激光蝕刻設備包括腔室、激光端口、激光發(fā)射器、顆粒捕捉器和旋轉(zhuǎn)窗口模塊。腔室被構(gòu)造為容納基底。激光端口在向下的方向上設置在腔室下面。激光發(fā)射器被構(gòu)造為將激光通過激光端口發(fā)射到設置在腔室之內(nèi)的基底。顆粒捕捉器設置在腔室之內(nèi)并且包括設置在激光端口上方的主體。開口形成為穿過主體。開口被構(gòu)造為使激光經(jīng)由該開口穿過。旋轉(zhuǎn)窗口模塊包括旋轉(zhuǎn)窗口和被構(gòu)造為驅(qū)動旋轉(zhuǎn)窗口的驅(qū)動部。旋轉(zhuǎn)窗口設置在顆粒捕捉器與激光端口之間。

技術(shù)研發(fā)人員:李東勛
受保護的技術(shù)使用者:三星顯示有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.03.06
技術(shù)公布日:2017.10.31
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