專利名稱：用于多屏幕的等離子體顯示面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種多屏幕等離子體顯示面板(PDP)及其制造方法，更具 體而言，涉及一種多屏幕PDP及其制造方法，在所述多屏幕PDP中接縫區(qū) 域被最小化，從而能夠穩(wěn)定地保證屏幕的連續(xù)性。
背景技術(shù)：
顯示設(shè)備的尺寸正變得越來越大，等離子體顯示面板(PDP)在這方面 也不例外。然而，僅使用一個玻璃基板增加PDP的尺寸有一定的限制。所 以，最近，除了一種多屏幕等離子體顯示面板，其中具有預定尺寸的多個 PDP被連續(xù)組裝。
這種多屏幕PDP具有的優(yōu)勢是所述多屏幕PDP的顯示區(qū)域被延伸，并 且各個PDP能夠被單獨控制以顯示不同屏幕。
然而，由于所述多屏幕PDP通過組裝多個PDP構(gòu)成的，在PDP的連 接處即接縫區(qū)域，沒有圖像形成，所以，屏幕的連續(xù)性被降低。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是為了解決前面提到的問題而構(gòu)思的。因此，本發(fā)明的一個 目的是提供一種PDP,其中接縫區(qū)域被最小化，從而可穩(wěn)定地保證屏幕的 連續(xù)性，還提供一種制造其的方法。
依據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種PDP，其包括前基板和后基板；在 所述前和后基板的側(cè)表面上形成的密封層；在所述密封層上形成的側(cè)電極； 以及在所述后基板的后表面和所述前基板和后基板的側(cè)表面上形成的功能 層。
依據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種制造PDP的方法，該方法包括以 下步驟將前基板和后基板堆疊并層壓在一起并在所述前和后基板的側(cè)表 面上形成密封層；通過所述密封層將前和后基板密封在一起；拋光該密封層；在密封層上形成側(cè)電極；在后基板的后表面以及前基板和后基板的側(cè) 表面上形成防潮層；在所述防潮層上形成絕緣層；在所述絕緣層上形成EMI (電磁干擾)屏蔽層；在所述EME屏蔽層上形成保護層。
依據(jù)本發(fā)明，通過拋光所述密封層和簡化功能層的構(gòu)造，PDP中的接 縫區(qū)域能夠被最小化，因此能穩(wěn)定地保證屏幕的連續(xù)性。
本發(fā)明的上述目的和其它目的、特征和優(yōu)點將從下面的詳細描述結(jié)合 附圖得到更清楚地理解，其中
圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案的PDP的透視圖； 圖2是沿著圖1中的A-A'線PDP的截面圖； 圖3是沿著圖1中的B-B'線PDP的截面圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案闡明制造PDP過程的流程圖；以及 圖5-11是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案闡明制造PDP方法的截面圖。
具體實施例方式
在下文，根據(jù)本發(fā)明的實施方案參考附圖將詳細描述PDP及其制造方法。
圖1是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案的PDP的透視圖，以及圖2和3是 分別沿著圖1中的A-A'線和B-B'線PDP的截面圖。
如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案的PDP100通過組裝多個PDP 單元200形成。由于多個PDP單元200被組裝，在PDP單元的連接處存在 接縫區(qū)域S。
所述PDP 200單元的結(jié)構(gòu)將在下面描述。如圖2和3所示，所述PDP 單元200的基本構(gòu)造為前面板210和后基板220順序堆疊并層壓在一起。 盡管在這些附圖中沒有顯示，通過制造過程，在所述前基板210上形成掃 描電極、維持電極、介電層、保護層等，在所述后基板220上形成尋址電 極、介電層、肋片(rib)、磷光層等。在圖2中，在前基板210上形成內(nèi) 前電極211，和在前基板210的側(cè)表面上形成第一側(cè)前電極212。內(nèi)前電極 211、外前電極221和第一側(cè)前電極212是和所述掃描電極和維持電極的任一個具有相同功能的電極。在前基板210的前表面上進一步形成光學膜230。 以供參考，在后基板220的后表面上可以進一步形成外介電層222。 將前和后基板210和220之間的內(nèi)部空間與外部環(huán)境隔離的密封層201
形成在前和后基板210和220的側(cè)表面上。具有與內(nèi)前電極211、外前電極
221和第一側(cè)前電極212相同功能的第二側(cè)前電極202形成在所述密封層
201上。
在前和后基板210和220被組裝在一起以及在前和后基板210和220 的側(cè)表面上形成密封層201和第二側(cè)前電極202時，在后基板220的后表 面以及前和后基板210和220的側(cè)表面上形成功能層，使得暴露的外前電 極221和第二側(cè)前電極202得到保護，以及前和后基板210和220的堆疊 和層壓狀態(tài)被穩(wěn)定保持，與外部物理環(huán)境隔離。
具體而言，所述功能層包括防潮層240、絕緣層250、 EMI屏蔽層260 和保護層270。防潮層240形成在后基板220的后表面以及前和后基板210 和220的側(cè)表面上。防潮層240用來保護外前電極221和第二側(cè)前電極202， 換句話說，保護維持、總線和尋址電極，來防止第二側(cè)前電極202因為吸 收濕氣而遷移，以及防止第二側(cè)前電極202和EMI屏蔽層260電短路。防 潮層240可以由丙烯酸樹脂(acryl)、聚氨酯和環(huán)氧樹脂中的任一種或它 們的組合來形成。
絕緣層250形成在防潮層240上以防止外前電極221和第二側(cè)前電極 202被電短路。
EMI屏蔽層260形成在絕緣層250上用來屏蔽從后基板220的后表面 以及前和后基板210和220的側(cè)表面產(chǎn)生的電磁干擾。優(yōu)選的是，EMI屏 蔽層260由高電導率的金屬材料形成。EMI屏蔽層260中使用的材料可包 括Ag、 Cu、 Pt、 Au和Al中的任一種或其組合。
保護層270形成在EMI屏蔽層260上，基本功能是用來保護包括前和 后基板210和220的PDP單元受到外部物理碰撞以及使EMI屏蔽層260與 外界電絕緣。保護層270可采用與防潮層240相同或不同的材料形成。具 體而言，保護層270可以由丙烯酸樹脂、聚氨酯和環(huán)氧樹脂中的任一種或 它們的組合來形成。
在前述圖2的結(jié)構(gòu)中，形成在前基板210上的內(nèi)前電極211，即掃描和維持電極，朝向外邊。圖3是形成在后基板220上的內(nèi)后電極211a，即朝向外邊的尋址電極的截面圖，其中通過形成在后基板220的側(cè)面的側(cè)后電極212a以及外后電極221a，內(nèi)后電極211a朝向外邊，與內(nèi)前電極211不同。圖3的結(jié)構(gòu)與圖2相同，除了通過側(cè)后電極212a和外后電極221a，內(nèi)后電極211a朝向外邊。所以，在這里省略詳細的描述。為了參考，如圖3所示，形成在前和后基板的側(cè)表面上的側(cè)電極被細分為第一和第二側(cè)前電極和側(cè)后電極。
根據(jù)本發(fā)明的實施方案，PDP的結(jié)構(gòu)在上面被描述。下面，根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案描述PDP的制造方法。圖4是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案闡明制造PDP過程的流程圖，圖5-11是根據(jù)本發(fā)明的這個實施方案闡明所述PDP的制造方法的截面圖，其中顯示了形成前電極(掃描和維持電極)的方法。
如圖4和5所示，在完成準備過程(S401)后，將前基板和后基板210和220堆疊和層壓在一起(S402)，并在前和后基板210和220的側(cè)表面上形成密封層201。前和后基板210和220通過所述密封層密封在一起。這里，在準備過程中如上所述，在前基板210上形成掃描電極、維持電極、介電層、保護層等。在圖5中，在所述前基板210上形成內(nèi)前電極211，和在前基板210的側(cè)表面上形成第一側(cè)前電極212。所述內(nèi)前電極211、外前電極221和所述第一側(cè)前電極212是與所述掃描電極和維持電極之一具有相同功能的電極。為了參照，可在后基板220的后表面上進一步形成外介電層222。
所述密封層201涂布在前和后基板210和220的側(cè)表面上，然后對該密封層進行拋光(S403)。通過拋光密封層201的過程，密封層201的厚度被減少。從而，可減少接縫區(qū)域。
在完成拋光密封層201的過程后，在所述拋光的密封層201上形成第二側(cè)前電極202 (S404)。所述第二側(cè)前電極202是與上面描述的內(nèi)前電極211、外前電極221和第一側(cè)前電極212相同的電極。第二側(cè)前電極202是
掃描電極和維持電極的任一種。
此后，將光學膜230涂布在前基板210的整個表面上(S405)。之后，在后基板220的后表面以及前和后基板210和220的側(cè)表面上形成防潮層
7240 (S406)。具體而言，可以通過用浸漬方法、分配方法、噴涂方法的任 一種或其組合涂布用于防潮層240的材料，然后使用紫外線輻射、熱處理、 自然干燥的任一種或其組合固化所述材料來形成防潮層240。這里，所述用 于防潮層240的材料是丙烯酸樹脂、聚氨酯和環(huán)氧樹脂中的任一種。
使用所述方法形成的防潮層240用來保護外前電極221和第二側(cè)前電 極202，即維持、總線和尋址電極，來防止第二側(cè)前電極202和外前電極 221因為吸收濕氣而遷移，以及防止EMI屏蔽層260與所述電極電短路。
之后，涂布在前基板210的整個表面上的光學膜230被切割成合適尺 寸，然后在防潮層240上形成絕緣層250 (S407)。絕緣層250用來防止外 前電極221和第二側(cè)前電極202與EMI屏蔽層260電短路。
此后，在絕緣層250上形成EMI屏蔽層260 (S408) 。 EMI屏蔽層260 用來屏蔽由后基板220的后表面以及前和后基板210和220的側(cè)表面產(chǎn)生 的電磁干擾。優(yōu)選的是，EMI屏蔽層260由具有高電導率并且不與其它成 分化學反應(yīng)的材料形成。優(yōu)選所述材料可包括Ag、 Cu、 Pt、 Au、 Al、 Pb、 Cr、 Bi的任一種或其組合。
可以通過用浸漬方法、分配方法、噴涂方法、刷涂方法的任一種或其 組合來涂布EMI屏蔽材料，然后使用紫外線輻射、熱處理、自然干燥的任 一種或其組合固化所述EMI屏蔽材料來形成EMI屏蔽層260。這里，EMI 屏蔽層260與光學膜230層壓，以及從所述光學膜230收集的電磁波通過 經(jīng)EMI屏蔽層260連接到后基板220的后表面的外接地來消除。
最后，最后在EMI屏蔽層上形成保護層270 (S409)。保護層270可 采用與構(gòu)成防潮層240相同的材料形成，以及形成防潮層240的方法可以 用來形成保護層270。也就是說，可以通過用浸漬方法、分配方法、噴涂方 法、刷涂方法的任一種或其組合涂布EMI屏蔽材料，然后使用紫外線輻射、 熱處理、自然干燥的任一種或其組合固化所述EMI屏蔽材料來形成所述保 護層。
如上所述，在前電極，也就是，掃描和維持電極的制圖，以及功能層 的構(gòu)造方面描述了制造PDP的方法。省略在后電極，也就是，尋址電極的 制圖，以及功能層的構(gòu)造方面對制造PDP的方法的描述。因為后基板的結(jié) 構(gòu)僅與前基板略微不同，但是后基板電極在形成功能層上與前電極相同。工業(yè)實用性
本發(fā)明涉及一種PDP及其制造方法，更具體而言，涉及一種PDP，其
中接縫區(qū)域被最小化，從而可穩(wěn)定地保證屏幕的連續(xù)性；以及其制造方法。
權(quán)利要求
1、通過組裝多個等離子體顯示面板(PDP)單元形成的多屏幕PDP，其中每一個PDP單元包括順序堆疊和層壓在一起的前基板和后基板；在所述前基板和后基板的側(cè)表面上形成的密封層；在所述密封層上形成的側(cè)電極；以及在所述后基板的后表面以及前基板和后基板的側(cè)表面上形成的功能層。
2、 如權(quán)利要求1所述的多屏幕PDP，其中所述功能層包括防潮層、絕緣層、電磁干擾(EMI)屏蔽層和保護層。
3、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP,其中所述防潮層沿所述后基板的后表面以及前和后基板的側(cè)表面形成。
4、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP,其中所述絕緣層防止形成在所述防潮層上的側(cè)電極與所述EMI屏蔽層電短路。
5、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP，其中所述EMI屏蔽層形成在所述絕緣層上以屏蔽電磁干擾。
6、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP，其中所述保護層形成在所述EMI屏蔽層上以保護PDP受到外部物理碰撞。
7、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP,其中所述EMI屏蔽層由Ag、 Cu、Pt、 Au、 Al、 Pb、 Cr、 Ni中的任一種或它們的組合形成。
8、 如權(quán)利要求2所述的多屏幕PDP，其中所述防潮層和所述保護層由丙烯酸樹脂、聚氨酯和環(huán)氧樹脂中的任一種或它們的組合形成。
9、 一種通過制造多個PDP單元并將它們組裝在一起來制造多屏幕PDP的方法，其中制造所述PDP單元的方法包括以下步驟將前基板和后基板堆疊和層壓在一起并在所述前和后基板的側(cè)表面上形成密封層；拋光所述密封層；在所述密封層上形成側(cè)電極；在所述后基板的后表面以及前和后基板的側(cè)表面上形成防潮層；在所述防潮層上形成絕緣層；在所述絕緣層上形成EMI屏蔽層；以及在所述EMI屏蔽層上形成保護層。
10、 如權(quán)利要求9所述的方法，其中所述防潮層、EMI屏蔽層和保護層是如下形成的使用浸漬方法、分配方法、噴涂方法、刷涂方法中的任一種或其組合涂布材料，然后使用紫外線輻射、熱處理、自然干燥的任一種或其組合固化所述材料。
11、 如權(quán)利要求9所述的方法，該方法在所述密封層上形成側(cè)電極的步驟和形成所述防潮層的步驟之間還包括在所述前基板的整個表面上涂布光學膜的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種等離子體顯示面板(PDP)及其制造方法，在所述等離子體顯示面板中接縫區(qū)域被最小化，從而能穩(wěn)定地保證屏幕的連續(xù)性。通過組裝多個PDP單元形成的所述PDP中，每個PDP單元包括前基板和后基板；在所述前和后基板的側(cè)表面上形成的密封層；在所述密封層上形成的側(cè)電極；以及在所述后基板的后表面以及前和后基板的側(cè)表面上形成的功能層。
文檔編號H01J17/49GK101681775SQ200880012460
公開日2010年3月24日 申請日期2008年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月20日
發(fā)明者張海成, 李在烈 申請人:歐麗安等離子顯示器株式會社