專利名稱：平面發(fā)光裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明有關于平面發(fā)光裝置，尤其關于運用于顯示器的背 光模塊。
背景技術：
圖1顯示一習知的側燈式背光模塊1，是將包含燈管反射罩12及冷陰極管13的發(fā)光源設置于導光板11的側邊，光線 進入導光板11后經(jīng)由印刷的反射網(wǎng)點lla，將光線均勻反射， 且部分光線經(jīng)由反射片15均勻反射，再經(jīng)由光學膜片14的擴 散、聚光作用，而形成一均勻光源。此種方式的背光模塊，須 在導光板底部設置印刷網(wǎng)點將光線導出，而在其表面需覆蓋各 式光學膜片，例如菱鏡片、擴散片等，方能使發(fā)光輝度趨于一 致，除成本昂貴外，更有可視角度及均齊度不佳的問題。另一已知技術，如圖2所示的直下式背光模塊2，是將包 含冷陰極管22及燈管固定座總成24的發(fā)光源直接設置于發(fā)光 區(qū)域，并配合反射片23及擴散板21而形成均勻光源，其中燈 管固定座總成24將冷陰極管22固定于背板25上，背板25 朝向冷陰極管22的表面則設置反射片23，可提供大量光源以 提升輝度；然由于直接設置于發(fā)光區(qū)域，其前方需預留較大的 空間，并以一透光率較低且具一強度(指片材抗繞曲的能力)的 聚合物薄板遮蓋，再放置擴散組件將光線擴散，以避免發(fā)光不 均勻情形，并提供一表面強度。依此習知技術，輝度雖得以大幅提升，但為避免光線擴散 不均問題，及顧及強度需求，所使用的透光率較低且具一強度 的聚合物薄板，已將絕大部分光線遮蔽，導致需要更多發(fā)光源 才能提供正常使用的輝度，進而產(chǎn)生耗電與散熱問題
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種平面發(fā)光裝置，其包含一紫外線(uv)光 源及一具有螢光體的光學膜片，藉由紫外線(uv)光源發(fā)出的 紫外線(uv)光線來激發(fā)光學膜片的螢光體，將紫外線(uv)光 線轉(zhuǎn)換成可視光線，形成一均勻發(fā)光的平面光源。本發(fā)明的一目的是藉由紫外線(uv)光源，其所發(fā)出的紫 外線(uv)光線可激發(fā)具有螢光體的光學膜片，發(fā)出均勻一致 的平面光，使發(fā)光效率在各視野角度，均能一致，使可視的視 野角更加寬廣。本發(fā)明的一目的是藉由紫外線(uv)光源，其所發(fā)出的紫 外線(uv)光線可激發(fā)具有螢光體的光學膜片，發(fā)出均勻一致的平面光，使發(fā)光面各角落發(fā)光效率一致，而提升其均齊度。 本發(fā)明的另一目的是藉由紫外線(uv)光源，其所發(fā)出的 紫外線(uv)光線可激發(fā)具有螢光體的光學膜片，使其發(fā)出均 勻一致的平面光線，而無須較多發(fā)光源來產(chǎn)生正常使用的輝 度，可改善習知耗電與散熱問題。
圖1為側燈式背光模塊側面示意圖； 圖2為直下式背光模塊立體示意圖；圖3為本發(fā)明紫外線(UV)側燈式背光模塊實施例示意圖； 圖4為本發(fā)明紫外線(UV)直下式背光模塊實施例示意圖； 圖5為本發(fā)明平面式紫外線(UV)背光模塊實施例示意圖。圖號+兌明1 側燈式背光模塊 11 導光板lla 反射網(wǎng)點 12 燈管反射罩13 冷陰極管 14 光學膜片15 反射片 2 直下式背光模塊21擴散板22冷陰極管23反射片24燈管固定座總成25背板3側燈式背光模塊31導光板31a反射網(wǎng)點32燈管反射罩33紫外線(UV)冷陰極管34螢光擴散片35銀反射片4直下式背光模塊41螢光擴散片42紫外線(UV)冷陰極管43銀反射片44燈管固定座總成45背板51高分子紫外線(uv)薄膜51a基片51b正電極層51c負電極層51d電洞注入層51e電洞傳遞層51f高分子發(fā)光層51g電子傳輸層52螢光擴散片具體實施方式
為了讓本發(fā)明的上述的目的、功能特征、和優(yōu)點能更明確 被了解，下文將本發(fā)明以較佳的實例，并配合所附圖式，作詳細i兌明如下；本發(fā)明的發(fā)光裝置可應用于側燈式背光模塊或直下式背 光模塊，其發(fā)光裝置包含有 一可發(fā)出紫外線(UV)光線的紫 外線(UV)光源；以及一光學膜片，其光學膜片具有一螢光體，膜片的螢光體，以將紫外線(UV)光線轉(zhuǎn)換成具至少一特定波 長的光線，該波長可為400至760nm的可^L光線，以形成一 發(fā)光源。請參照圖3,是本發(fā)明的發(fā)光裝置應用于側燈式背光模塊 3的第一實施例，具有一導光板31,于導光板31底部以例如 印刷方式形成多個反射網(wǎng)點31a,并于下方則再設置一銀反射 片35;導光板31上表面則放置一螢光擴散片34。在導光板 31其側邊設有燈管反射罩32,反射罩32內(nèi)部設置至少一個紫 外線(紫外線(UV))光源可以為紫外線(UV)冷陰極管33。當紫 外線(UV)冷陰極管33通電后，可激發(fā)出紫外線(UV)光線，經(jīng) 由導光板31的導引及反射網(wǎng)點31a的反射，以激發(fā)螢光擴散 片34,發(fā)出均勻的例如白光的可視光，且銀反射片35可將自 導光板31射出的朝向非發(fā)光面的紫外線(UV)光線予以反射回 導光板31,再射向螢光擴散片34，而形成一均勻平面光源。如圖4所示，是本發(fā)明的發(fā)光裝置應用于直下式背光模塊 4的第二實施例，其具有一螢光擴散片41，其下設置至少一紫 外線(UV)光源可以為紫外線(UV)冷陰極管42,其兩端設有燈 管固定座總成44將紫外線(UV)冷陰極管42固定于背板45上， 背板45朝向冷陰極管42的表面則設置一銀反射片43，在紫 外線(UV)冷陰極管42通電發(fā)出紫外線(UV)光線后，可激發(fā)螢 光擴散片41發(fā)出均勻的例如白光的可視光，且銀反射片43 可將紫外線(UV)冷陰極管42射出的朝向非發(fā)光面的紫外線 (UV)光線予以反射至螢光擴散片41,而形成一均勻平面光源。依第三實施例的背光模塊，如圖5所示，該背光模塊包含 高分子紫外線(UV)薄膜51以及螢光擴散片52，其中高分子紫 外線(UV)薄膜51包含基片51a、正電極層51b以及負電極層 51c,其中正電極層51b可為一層薄而透明具導電性質(zhì)的銦化 物(ITO)所構成，負電極層51c可為金屬復合材料所構成， 于兩電極間設置電洞注入層51d、電洞傳遞層51e、高分子發(fā) 光層51f以及電子傳輸層51g。當施加適當?shù)碾娏髦粮叻肿幼?外線(UV)薄膜51時，正電極層51b會產(chǎn)生電洞，而負電極層 51c則會產(chǎn)生電子，當電洞與電子分別經(jīng)由電洞傳輸層51e及 電子傳遞層51g而傳遞到高分子發(fā)光層51f結合時，電子由不 穩(wěn)定的能階恢復到原始的能階，而釋放多余的能量，以激發(fā)高 分子發(fā)光層51f中包含的有機材料，其一般指共軛高分子材
料，其具有共軛鍵結的分子結構及導電性，以產(chǎn)生紫外線(uv)光線，經(jīng)由正電極層51b射向螢光擴散片52,荄光擴散片52 吸收高分子紫外線薄膜51所發(fā)出的紫外線(UV)光，進而可激 發(fā)螢光擴散片52發(fā)出均勻的可視光線，可視光線的波長范圍 一般是400至760nm。另，高分子紫外線(UV)薄膜51可取代前述圖3所示第一 實施例及圖4所示第二實施例中的紫外線(UV)冷陰極管，以 發(fā)出紫外線(UV)光線。雖然本發(fā)明已利用上述的較佳的實例詳細揭示，然其并非 用以限定本發(fā)明，凡熟習此一發(fā)明的，在不脫離本發(fā)明的精神 和范圍內(nèi)，可作為各種更動及修改，因此本發(fā)明的保護范圍當 視作后附的申請專利范圍所界定者為準。
權利要求
1、一種發(fā)光裝置，其包含一紫外線光源，發(fā)出紫外線光線；以及一光學膜片，其具有一螢光體，其中藉由紫外線光線激發(fā)該光學膜片的螢光體，以將紫外線光線轉(zhuǎn)換成具至少一特定波長的光線，形成一發(fā)光源。
2、 如權利要求1所述的發(fā)光裝置，其中，該發(fā)光裝置 可裝設應用于側燈式背光模塊或直下式背光模塊。
3、 如權利要求2所述的發(fā)光裝置，其中，該側燈式背 光模塊，其包含一導光板；多個反射網(wǎng)點，形成于該導光板底部； 一螢光擴散片，放置于該導光板的上方；以及 一紫外線光源，設置于導光板的一側邊，其中該紫外線 光源發(fā)出紫外線光線經(jīng)由導光板的導引及多個反射網(wǎng)點的 反射，以激發(fā)該螢光擴散片，使螢光擴散片發(fā)出具至少一特 定波長的光線。
4、 如權利要求2所述的發(fā)光裝置，其中，該直下式背 光模塊，其包含一螢光擴散片；以及一紫外線光源，設置于該螢光擴散片的下方，并發(fā)出紫 外線光線激發(fā)該螢光擴散片，使螢光擴散片發(fā)出具至少一特 定波長的光線。
5、 如權利要求4所述的發(fā)光裝置，其中該紫外線光源 固定于一背板上。
6、 如權利要求4所述的發(fā)光裝置，另包含一反射片， 設置于該背板朝向紫外線光源的表面，用以將部分紫外線光 線反射至該螢光擴散片。
7、 如權利要求1、 3或4所述的發(fā)光裝置，其中該紫外 線光源包含至少一紫外線冷陰極管或紫外線薄膜。
8、 如權利要求1、 3或4所述的發(fā)光裝置，其中該具至 少一特定波長的光線是波長為400至760nm的可^L光線。
9、 如權利要求7所述的背光模塊，其中該紫外線薄膜 為高分子紫外線薄膜。
10、 如權利要求7所述的的背光模塊，其中該高分子紫 外線薄膜，依序具有一基片、 一正電極層、 一電洞輸入層、 一電洞傳遞層、 一發(fā)光層、 一電子傳輸層及一負電極層。
11、 如權利要求10所述的背光模塊，其中該發(fā)光層為 高分子發(fā)光層。
全文摘要
一種平面發(fā)光裝置，例如一背光模塊，具有一紫外線(UV)光源及一熒光擴散片，藉由紫外線(UV)光源發(fā)出的紫外線(UV)光線來激發(fā)熒光擴散片，將紫外線(UV)光線轉(zhuǎn)換成可視光線，形成一均勻發(fā)光的平面光源。
文檔編號F21K2/00GK101149131SQ20061015224
公開日2008年3月26日 申請日期2006年9月20日 優(yōu)先權日2006年9月20日
發(fā)明者廖啟文, 曾杞良 申請人:宣茂科技股份有限公司