感光性組合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、觸摸屏、及顯示裝置的制造方法【專利摘要】本發(fā)明提供一種感光性組合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、觸摸屏、及顯示裝置。本發(fā)明的感光性組合物含有：作為成分A的分子內(nèi)具有三個以上的(甲基)丙烯酰基與一個以上的羧基的聚合性單體、作為成分B的分子內(nèi)具有三個以上的(甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w、作為成分C的光聚合引發(fā)劑、及作為成分D的羥甲基化合物，成分A及成分B相對于組合物中的總有機固體成分的總含量為60質(zhì)量％以上，成分A相對于組合物中的成分A及成分B的總含量的含量為10質(zhì)量％～50質(zhì)量％。根據(jù)本發(fā)明可提供一種顯影性優(yōu)異、可獲得密接性及耐汗性優(yōu)異的硬化膜的感光性組合物。【專利說明】感光性組合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、觸摸屏、及顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本發(fā)明涉及一種感光性組合物、硬化膜的制造方法、硬化膜、觸摸屏、觸摸屏顯示裝置、液晶顯示裝置、及有機電致發(fā)光(Electroluminescence，EL)顯示裝置?！?br>背景技術(shù)：
】[0002]液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等平板顯示器(flatpaneldisplay)被廣泛使用。另外，近年來，隨著智能手機（smartphone)或平板(tablet)終端的普及，靜電電容式觸摸屏受到矚目。靜電電容式觸摸屏的傳感器基板通常為如下結(jié)構(gòu):在玻璃上具有氧化銦錫(IndiumTin0xide，IT0)或金屬(銀、鉬、鋁等)經(jīng)圖案化而成的配線，此外在配線的交叉部具有絕緣膜、對IT0及金屬進行保護的保護膜。[0003]作為現(xiàn)有的觸摸屏配線用保護膜，已知有專利文獻1及專利文獻2中所記載的保護膜。[0004][現(xiàn)有技術(shù)文獻][0005][專利文獻][0006][專利文獻1]日本專利第3678922號公報[0007][專利文獻2]日本專利第5201066號公報【
發(fā)明內(nèi)容】[0008]發(fā)明所要解決的課題[0009]本發(fā)明所要解決的課題為提供一種顯影性優(yōu)異、可獲得密接性及耐汗性優(yōu)異的硬化膜的感光性組合物。[0010]另外，本發(fā)明所要解決的另一課題為提供一種使用所述感光性組合物的硬化膜的制造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的觸摸屏、觸摸屏顯示裝置、液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置。[0011]解決問題的技術(shù)手段[0012]本發(fā)明的所述課題是通過以下的〈1>、〈8>、〈9>或〈13>~〈16>中記載的手段而解決。與作為優(yōu)選實施方式的〈2>~〈7>及〈10>~〈12>-起記載于以下。[0013]〈1>一種感光性組合物，含有:作為成分A的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基）丙烯酰基與一個以上的羧基的聚合性單體、作為成分B的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w、作為成分C的光聚合引發(fā)劑、及作為成分D的羥甲基化合物，成分A及成分B相對于組合物中的總有機固體成分的總含量為60質(zhì)量％以上，成分A相對于組合物中的成分A及成分B的總含量的含量為10質(zhì)量％~50質(zhì)量％。[0014]〈2>根據(jù)〈1>所述的感光性組合物，其中成分D相對于組合物中的總有機固體成分的含量為0.1質(zhì)量％~20質(zhì)量％。[0015]〈3>根據(jù)〈1>或〈2>所述的感光性組合物，其中成分D相對于組合物中的總有機固體成分的含量為1質(zhì)量％~10質(zhì)量％。[0016]〈4>根據(jù)〈1>至〈3>中任一項所述的感光性組合物，其還含有聚合抑制劑作為成分E〇[0017]〈5>根據(jù)〈1>至〈4>中任一項所述的感光性組合物，其中成分D為羥甲基三聚氰胺化合物和/或羥甲基脲化合物。[0018]〈6>根據(jù)〈1>至〈5>中任一項所述的感光性組合物，其還含有烷氧基硅烷化合物作為成分F。[0019]〈7>根據(jù)〈1>至〈6>中任一項所述的感光性組合物，其還含有無機粒子作為成分G。[0020]〈8>-種硬化膜的制造方法，其至少依序包括工序1~工序3:[0021]工序1:將根據(jù)〈1>至〈7>中任一項所述的感光性組合物涂布在基板上的涂布工序[0022]工序2:利用光化射線對經(jīng)涂布的感光性組合物的至少一部分進行曝光的曝光工序[0023]工序3:利用水性顯影液對經(jīng)曝光的感光性組合物進行顯影的顯影工序。[0024]〈9>一種硬化膜，其是使根據(jù)〈1>至〈7>中任一項所述的感光性組合物硬化而成。[0025]〈10>根據(jù)〈9>所述的硬化膜，其為層間絕緣膜或保護膜。[0026]〈11>根據(jù)〈9>或〈10>所述的硬化膜，其為觸摸屏配線用保護膜。[0027]〈12>根據(jù)〈9>至〈11>中任一項所述的硬化膜，其為外嵌結(jié)構(gòu)觸摸屏中的配線用保護膜。[0028]〈13>-種觸摸屏，具有根據(jù)〈9>至〈12>中任一項所述的硬化膜。[0029]〈14>一種觸摸屏顯示裝置，具有根據(jù)〈9>至〈12>中任一項所述的硬化膜。[0030]〈15>-種液晶顯示裝置，具有根據(jù)〈9>或〈10>所述的硬化膜。[0031]〈16>-種有機EL顯示裝置，具有根據(jù)〈9>或〈10>所述的硬化膜。[0032]發(fā)明的效果[0033]根據(jù)本發(fā)明可提供一種顯影性優(yōu)異、可獲得密接性及耐汗性優(yōu)異的硬化膜的感光性組合物。[0034]另外，根據(jù)本發(fā)明可提供一種使用所述感光性組合物的硬化膜的制造方法及硬化膜、以及使用所述硬化膜的觸摸屏、觸摸屏顯示裝置、液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置?！靖綀D說明】[0035]圖1表示有機EL顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。且表示底部發(fā)光（bottomemission)型的有機EL顯示裝置中的基板的示意性截面圖，具有平坦化膜4〇[0036]圖2表示液晶顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。且表示液晶顯示裝置中的有源矩陣(activematrix)基板的示意性截面圖，具有作為層間絕緣膜的硬化膜17。[0037]圖3表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。[0038]圖4表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的另一例的構(gòu)成概念圖。[0039]附圖標記說明：[0040]1、16、440:TFT(薄膜晶體管）[0041]2:配線[0042]3、8、280、420:絕緣膜[0043]4:平坦化膜[0044]5:第一電極[0045]6、14、15:玻璃基板[0046]7、18、282:接觸孔[0047]10:液晶顯示裝置[0048]12:背光單元[0049]17:硬化膜[0050]19:1?透明電極[0051]20:液晶[0052]22、122、330:彩色濾光片[0053]110:像素基板[0054]111、127:偏光板[0055]112、123:透明基板[0056]113、370:共通電極[0057]114:絕緣層[0058]115:像素電極[0059]116、121、350:取向膜[0060]120:相向基板[0061]124:相位差膜[0062]125:傳感用檢測電極[0063]126:接著層[0064]130:傳感部[0065]140、400:液晶層[0066]200:下部顯示板[0067]210:第1絕緣基板[0068]220:柵極電極[0069]240:柵極絕緣膜[0070]250:半導體層[0071]260、262:歐姆接觸層[0072]270:源極電極[0073]272:漏極電極[0074]290:像素電極[0075]300:上部顯示板[0076]310:第2絕緣基板[0077]320:遮光構(gòu)件[0078]410:傳感電極[0079]430:驅(qū)動電極【具體實施方式】[0080]以下，對本發(fā)明的內(nèi)容加以詳細說明。以下記載的構(gòu)成要件的說明有時是根據(jù)本發(fā)明的具代表性的實施方式而進行，但本發(fā)明不限定于這種實施方式。此外，本說明書中所謂"~"是以包含其前后所記載的數(shù)值作為下限值及上限值的含意而使用。另外，本發(fā)明中所謂有機EL元件，是指有機電致發(fā)光元件。[0081]本說明書中的基團（原子團）的表述中，未記載經(jīng)取代及未經(jīng)取代的表述包含不具有取代基的基團（原子團），并且也包含具有取代基的基團（原子團）。例如所謂"烷基"，不僅是指不具有取代基的烷基(未經(jīng)取代的烷基），而且也包含具有取代基的烷基(經(jīng)取代的烷基)。[0082]此外，本說明書中，"（甲基）丙烯酸酯"表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，"（甲基)丙烯酸"表示丙烯酸及甲基丙烯酸，"(甲基)丙烯?；?表示丙烯?；凹谆；?。[0083]另外，本發(fā)明中，"質(zhì)量％"與"重量％"為相同含意，"質(zhì)量份"與"重量份"為相同含O[0084]另外，本發(fā)明中，兩個以上的優(yōu)選實施方式的組合為更優(yōu)選的實施方式。[0085]本發(fā)明中，關(guān)于聚合物成分，分子量為由以四氫咲喃(Tetrahydrofuran，THF)作為溶劑的情況的凝膠滲透色譜(Ge1PermeationChromatography，GPC)所測定的聚苯乙稀換算的重量平均分子量。[0086](感光性組合物）[0087]本發(fā)明的感光性組合物（以下也簡稱為"組合物"）含有:作為成分A的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基）丙烯?；c一個以上的羧基的聚合性單體、作為成分B的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯酰基且不具有羧基的聚合性單體、作為成分C的光聚合引發(fā)劑、及作為成分D的羥甲基化合物，并且成分A及成分B相對于組合物中的總有機固體成分的總含量為60質(zhì)量％以上，成分A相對于組合物中的成分A及成分B的總含量的含量為10質(zhì)量％~50質(zhì)量％。[0088]本發(fā)明的感光性組合物還可含有聚合抑制劑、烷氧基硅烷化合物、無機粒子等其他成分。[0089]本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選的是可通過利用堿性顯影液的光刻(photolithography)來進行圖案化。此外，在通過利用堿性顯影液的光刻對本發(fā)明的感光性組合物進行圖案化的情況下，所形成的圖案為感光部作為圖案而殘留的負型圖案。[0090]此外，本發(fā)明中，所謂感光性組合物中的"固體成分"是指將溶劑等揮發(fā)性成分除外的成分。另外，所謂"有機固體成分"，是指從感光性組合物中將溶劑等揮發(fā)性成分及無機粒子等無機成分除外的成分。[0091]具體來說，例示含有以下成分的組合物作為具體的實施方式。[0092]本發(fā)明人等人進行了努力研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，含有所述成分A~成分D且成分A及成分B相對于組合物中的有機固體成分的總含量、以及成分A相對于成分A及成分B的總含量的含量為特定范圍的感光性組合物的顯影性優(yōu)異且所得的硬化膜的耐汗性優(yōu)異，從而完成了本發(fā)明。[0093]本發(fā)明的作用機制并不明確，但如以下那樣進行推測。推斷為通過將作為聚合性單體的成分A及成分B的總含量相對于組合物中的有機固體成分設(shè)為一定以上，可對感光性組合物賦予充分的硬化性。另外，推斷為通過含有成分A而賦予光刻性，另外，通過將成分A相對于成分A及成分B的總含量的的含量設(shè)為特定范圍，可滿足顯影性與硬化膜對基板的密接性這兩者。[0094]進而，推斷為通過含有成分D而硬化膜的耐汗性優(yōu)異。此處，所謂耐汗性，是指在將硬化膜用作觸摸屏的保護膜的情況下，因長期使用而配線有時產(chǎn)生變色，將這種配線的變色得到抑制的情況稱為耐汗性。此外，配線的變色推斷為因如下情況而產(chǎn)生:使用者的汗或汗中的鹽分透過保護膜而與配線接觸，從而配線腐蝕。通過添加成分D來提高耐汗性的機制并不明確，但認為成分D吸附于配線的金屬材料的表面，由此配線受到保護，耐汗性提高。[0095]以下，對本發(fā)明的感光性組合物含有的各成分加以說明。[0096]成分A:分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯酰基與一個以上的羧基的聚合性單體[0097]本發(fā)明的感光性組合物含有分子內(nèi)具有三個以上的（甲基）丙烯酰基與一個以上的羧基的聚合性單體作為成分A。[0098]成分A為分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯酰基與一個以上的羧基的化合物。[0099]成分A可為低分子的化合物，也可為寡聚物，但并非聚合物。即，從硬化膜的硬度的觀點來看，成分A的分子量(在具有分子量分布的情況下為重量平均分子量)為10,000以下，優(yōu)選5，000以下，進而優(yōu)選3，000以下。[0100]成分A在分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；?。分子內(nèi)（一分子內(nèi)）所具有的（甲基)丙烯酰基的個數(shù)優(yōu)選3~15,更優(yōu)選3~10,進而優(yōu)選3~7。[0101]若（甲基)丙烯?；膫€數(shù)為所述范圍內(nèi)，則硬度及反應性優(yōu)異。[0102]成分A只要在一分子內(nèi)合計具有三個以上的丙烯?；?C(=0)-CH=CH2)及甲基丙烯?；?-C(=0)-C(CH3)=CH2)即可，優(yōu)選的是合計具有三個以上的丙烯酰基氧基(-0-C(=o)-ch=ch2)及甲基丙烯酰基氧基(-0-C(=0)-C(CH3)=CH2)。另外，優(yōu)選的是具有三個以上的丙烯?；鼉?yōu)選的是具有三個以上的丙烯酰基氧基。[0103]與甲基丙烯?；啾龋；谟不裕ǚ磻裕﹥?yōu)異的方面優(yōu)選。另外，若為(甲基)丙烯?；趸瑒t從反應性優(yōu)異、合成容易的方面來看優(yōu)選。[0104]成分A在分子內(nèi)（一分子內(nèi)）具有一個以上的羧基。一分子內(nèi)的羧基的個數(shù)優(yōu)選1~6，更優(yōu)選1~3,進而優(yōu)選1或2,特別優(yōu)選1。[0105]若成分A在一分子內(nèi)所具有的羧基的個數(shù)為所述范圍內(nèi)，則顯影性及基材密接性優(yōu)異，因此優(yōu)選。[0106]此外，成分A具有的羧基也可形成鹽。形成鹽的陽離子優(yōu)選有機陽離子性化合物、過渡金屬配位絡(luò)合物陽離子、或金屬陽離子。有機陽離子性化合物可舉出：四級銨陽離子、四級吡啶鑰陽離子、四級喹啉鑰陽離子、磷鑰陽離子、碘鑰陽離子、硫鑰陽離子等。過渡金屬陽離子可例示日本專利第279143號公報中記載的化合物。金屬陽離子可例示:Na+、K+、Li+、Ag+、Fe2+、Fe3+、Cu+、Cu2+、Zn2+、Al3+、Ca2+等。[0107]此外，成分A優(yōu)選的是不具有所述羧基以外的酸基。羧基以外的酸基可例示磺酸基、磷酸基等。若具有羧基以外的酸基，則有時基材密接性降低。[0108]成分A為多羥基化合物與不飽和羧酸的酯，且優(yōu)選的是使羧酸酐與多羥基化合物的未反應的羥基反應而具有酸基(羧基)的聚合性單體，特別優(yōu)選的是多羥基化合物為季戊四醇和/或二季戊四醇。[0109]成分A例如可通過對具有三個以上的（甲基）丙烯?；c羥基的化合物（以下也稱為"羥基多官能（甲基)丙烯酸酯"）加成酸酐而獲得。[0110]羥基多官能（甲基）丙烯酸酯可例示具有四個以上的羥基的多羥基化合物與（甲基)丙烯酸的酯。[0111]具有四個以上的羥基的多羥基化合物優(yōu)選脂肪族多羥基化合物，具體可例示：二甘油、二-三羥甲基乙烷、二-三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丁烷、二-三羥甲基己烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇等。這些化合物中，優(yōu)選季戊四醇、二季戊四醇。[0112]另外，多羥基化合物也可使用所述例示的多羥基化合物的環(huán)氧烷加成物，環(huán)氧烷可例示環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷等。[0113]羥基多官能丙烯酸酷的制造方法只要適當采用眾所周知的方法即可，并無特別限定。具體可例示:在酸性催化劑下將多羥基化合物與（甲基)丙烯酸加熱?攪拌的方法。酸性催化劑可舉出硫酸、對甲苯磺酸及甲磺酸等。另外，反應溫度只要根據(jù)所使用的化合物及目的而適當設(shè)定即可，優(yōu)選70°C~140°C。若為所述溫度范圍內(nèi)，則反應快，且穩(wěn)定地進行反應而抑制雜質(zhì)的生成或凝膠化。[0114]反應時，優(yōu)選的是使用與酯化反應中生成的水的溶解度低的有機溶劑，一面與水共沸一面促進脫水。優(yōu)選的有機溶劑例如可舉出：甲苯、苯及二甲苯等芳香族烴，己烷及庚烷等脂肪族烴，以及甲基乙基酮及環(huán)己酮等酮等。另外，有機溶劑可在反應后通過減壓而蒸饋去除。[0115]另外，為了防止所得的（甲基)丙烯酸酯的聚合，可在反應液中添加聚合抑制劑。這種聚合抑制劑例如可舉出:對苯二酚、對苯二酚單甲醚、2，6-二叔丁基對甲酚及吩噻嗪等。[0116]成分A是通過所述羥基多官能（甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應而獲得。[0117]酸酐可舉出：琥珀酸酐、1-十二烯基琥珀酸酐、馬來酸酐、戊二酸酐、衣康酸酐、鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、甲基六氫鄰苯二甲酸酐、四亞甲基馬來酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、甲基四氫鄰苯二甲酸酐、內(nèi)亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐（endomethylene-tetra-hydrophthalicanhydride)、甲基內(nèi)亞甲基四氫鄰苯二甲酸酐、四氯鄰苯二甲酸酐、四溴鄰苯二甲酸酐及偏苯三甲酸酐等在同一分子內(nèi)具有一個酸酐基的化合物，以及均苯四甲酸酐、鄰苯二甲酸酐二聚物、二苯基醚四羧酸二酐、二苯基砜四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐及1，2,3,4_丁烷四羧酸二酐、二苯基醚四羧酸酐及偏苯三甲酸酐?乙二醇酯（市售品例如有新日本理化(股）制造的商品名理家德(Rikacid)TMEG-lOO)等在同一分子內(nèi)具有兩個酸酐基的化合物。[0118]這些化合物中，優(yōu)選的是在同一分子內(nèi)具有一個酸酐基的化合物。[0119]成分A的制造方法只要按照常規(guī)方法即可。[0120]例如可舉出：使羥基多官能（甲基）丙烯酸酯與羧酸酐在催化劑的存在下、在60°C~110°C下反應1小時~20小時的方法等。該情況的催化劑可舉出:N，N_二甲基芐基胺、三乙胺、三丁胺、三乙二胺、氯化芐基三甲基銨、溴化芐基三乙基銨、溴化四甲基銨、溴化鯨蠟基三甲基銨及氧化鋅等。[0121]成分A優(yōu)選式A-1所表示的化合物或式A-2所表示的化合物。[0122][化1][0123][0124]式A-1中，X1分別獨立地表示丙烯?；趸蚣谆；趸?，W1表示碳數(shù)1~6的亞烷基、碳數(shù)2~6的亞烯基、或亞苯基。[0125]式A-2中，X2分別獨立地表示氫原子、羥基、碳數(shù)1~6的烷基、丙烯?；趸蚣谆；趸嬖谖鍌€的X2中，至少三個為丙烯?；趸蚣谆；趸?，W2表示碳數(shù)1~6的亞烷基、碳數(shù)2~6的亞烯基、或亞苯基。[0126]式A-1中，X1優(yōu)選的是丙烯?；趸0127]式A-1中，W1表示碳數(shù)1~6的亞烷基、碳數(shù)2~6的亞烯基、或亞苯基，碳數(shù)1~6的亞烷基可為直鏈狀、分支狀、環(huán)狀的任一種。所述亞烷基優(yōu)選碳數(shù)2~6,可例示亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基、亞環(huán)己基。[0128]式A-1中，W1優(yōu)選碳數(shù)1~6的亞烷基，更優(yōu)選碳數(shù)2~6的亞烷基，進而優(yōu)選碳數(shù)2或3的亞烷基，特別優(yōu)選亞乙基。[0129]式A-2中，存在五個的X2中，至少三個表示丙烯?；趸蚣谆；趸?，優(yōu)選丙烯酰基氧基。此外，存在五個的X2中，三個~五個為丙烯?；趸蚣谆；趸?，優(yōu)選的是四個~五個為丙烯酰基氧基或甲基丙烯?；趸鼉?yōu)選的是五個為丙烯?；趸蚣谆；趸?。[0130]另外，丙烯?；趸蚣谆；趸酝獾腦2表示氫原子、羥基、或碳數(shù)1~6的烷基。碳數(shù)1~6的烷基可為直鏈狀、分支狀、環(huán)狀的任一烷基。這些基團中，（甲基)丙烯?；趸酝獾腦2優(yōu)選氫原子或碳數(shù)1~4的烷基，更優(yōu)選氫原子、甲基或乙基，進而優(yōu)選氫原子。[0131]式A-2中，W2與式A-1中的W1為相同含意，優(yōu)選范圍也相同。[0132]成分A也可使用上市的產(chǎn)品，例如可舉出東亞合成（股）制造的作為多元酸改性丙烯酸系寡聚物的亞羅尼斯(Aronix)(注冊商標)系列的15101-520、1'0-2349、1'0-2359等。[0133]成分A可單獨使用一種，也可并用兩種以上。[0134]相對于感光性組合物的總有機固體成分，成分A的含量優(yōu)選3質(zhì)量％~60質(zhì)量％，更優(yōu)選3質(zhì)量％~50質(zhì)量％，進而優(yōu)選5質(zhì)量％~40質(zhì)量％，最優(yōu)選10質(zhì)量％~35質(zhì)量％。[0135]此外，本發(fā)明中，所謂感光性組合物中的"固體成分"，是指將有機溶劑等揮發(fā)性成分除外的成分。另外，所謂"有機固體成分"，是指從感光性組合物中將有機溶劑等揮發(fā)性成分及無機粒子等無機成分除外的成分。[0136]另外，本發(fā)明的感光性組合物中，成分A相對于成分A及成分B的總含量的含量為10質(zhì)量％~50質(zhì)量％，更優(yōu)選的是15質(zhì)量％~40質(zhì)量％，進而優(yōu)選的是20質(zhì)量％~30質(zhì)量％。若為所述范圍，則顯影性更優(yōu)異。[0137]成分B:分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w[0138]本發(fā)明的感光性組合物含有分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w作為成分B。[0139]成分B為在分子內(nèi)（一分子內(nèi)）具有三個以上的（甲基）丙烯?；呐c成分A不同的聚合性單體。成分B在分子內(nèi)不具有羧基，優(yōu)選的是也不具有其他酸基，其他酸基可例示磺酸基、磷酸基等。[0140]成分B可為低分子的化合物，也可為寡聚物。即，從硬化膜的硬度的觀點來看，成分B的分子量(在具有分子量分布的情況下為重量平均分子量)為10,000以下，優(yōu)選5，000以下，進而優(yōu)選3,000以下。[0141]成分B所具有的（甲基)丙烯酰基的個數(shù)為三個以上，優(yōu)選3~10,更優(yōu)選3~6。若為所述范圍，則進一步發(fā)揮本發(fā)明的效果。[0142]成分B可適當選擇此種組合物中所應用的化合物而使用，例如可舉出日本專利特開2006-23696號公報的段落0011中記載的成分或日本專利特開2006-64921號公報的段落0031~段落0047中記載的成分中，在分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；某煞?，將這些記載并入到本說明書中。[0143]成分B可優(yōu)選地例示多羥基化合物的（甲基）丙烯酸酯，具體可舉出：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、三（（甲基）丙烯?；趸一┊惽桦逅狨?、三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基)丙烯酸酯環(huán)氧乙烷(E0)改性體、二季戊四醇六（甲基)丙烯酸酯E0改性體等。[0144]成分B也可使用上市的產(chǎn)品，例如可舉出：亞羅尼斯(Aronix)(注冊商標)M-309、亞羅尼斯（41'〇1111)]\1-400、亞羅尼斯（41'〇1111)]\1-405、亞羅尼斯（41'〇1111)]\1-450、亞羅尼斯(Aronix)M_7100、亞羅尼斯（Aronix)M_8030、亞羅尼斯(Aronix)M_8060、亞羅尼斯（Aronix)T0-1382、亞羅尼斯(Aronix)T0-1450(東亞合成（股）制造），卡亞拉得(KAYARAD)TMPTA、卡亞拉得(KAYARAD)DPHA、卡亞拉得(KAYARAD)DPCA-20、卡亞拉得(KAYARAD)DPCA-30、卡亞拉得(KAYARAD)DPCA-60、卡亞拉得(KAYARAD)DPCA-120(日本化藥(股）制造），比斯克(Biscoat)295、比斯克（Biscoat)300、比斯克（Biscoat)360、比斯克（Biscoat)GPT、比斯克（Biscoat)3PA、比斯克(Biscoat)400(大阪有機化學工業(yè)(股)制造)等。[0145]此外，即便為相當于成分B的化合物，相當于后述烷氧基硅烷化合物的化合物也被視為烷氧基硅烷化合物。[0146]〈（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯〉[0147]本發(fā)明中，也可使用（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯作為成分B。[0148]本發(fā)明中可使用的（甲基）丙烯酸氨基甲酸酯可例示使用異氰酸酯與羥基的加成反應而制造的氨基甲酸酯加成聚合性化合物，可例示日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載那樣的丙烯酸氨基甲酸酯類，將這些記載并入到本說明書中。[0149]從硬化膜硬度的觀點來看，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的分子量優(yōu)選500~10,000，更優(yōu)選650~6，000，進而優(yōu)選800~3，000。[0150]通過設(shè)為這種構(gòu)成，而更有效地發(fā)揮本發(fā)明的效果。[0151](甲基)丙烯酸氨基甲酸酷中的（甲基)丙烯酰基氧基（以下也稱為"（甲基）丙烯酰氧基"）可為丙烯?；趸ㄒ韵乱卜Q為丙烯酰氧基）、甲基丙烯?；趸ㄒ韵乱卜Q為甲基丙烯酰氧基)的任一種，也可為兩者，優(yōu)選丙烯?；趸?。[0152](甲基）丙烯酸氨基甲酸酯中的（甲基）丙烯酰氧基的個數(shù)優(yōu)選3以上，更優(yōu)選6以上，進而優(yōu)選10以上。若為所述實施方式，則更有效地發(fā)揮本發(fā)明的效果。[0153]另外，所述（甲基)丙烯酰氧基的個數(shù)的上限并無特別限制，優(yōu)選50以下，更優(yōu)選30以下，進而優(yōu)選20以下。[0154]本發(fā)明的感光性組合物可僅含有一種（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，也可含有兩種以上。[0155](甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中的（甲基)丙烯酰氧基可為丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基的任一種，也可為兩者，優(yōu)選丙烯酰氧基。[0156](甲基)丙烯酸氨基甲酸酯中的氨基甲酸酯鍵的個數(shù)并無特別限制，優(yōu)選1~30,更優(yōu)選1~20,進而優(yōu)選2~10,特別優(yōu)選2~5,最優(yōu)選2或3。[0157](甲基)丙烯酸氨基甲酸酯優(yōu)選的是脂肪族(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯。[0158]另外，（甲基)丙稀酸氨基甲酸酯優(yōu)選的是具有異氰脲酸環(huán)（isocyanuricring)結(jié)構(gòu)。[0159]另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯優(yōu)選的是包含具有一個以上的氨基甲酸酯鍵的核部分、及鍵合在核部分上且具有一個以上的（甲基)丙烯?；哪┒瞬糠值幕衔?，更優(yōu)選的是在所述核部分上鍵合有兩個以上的所述末端部分的化合物，進而優(yōu)選的是在所述核部分上鍵合有兩個~五個所述末端部分的化合物，特別優(yōu)選的是在所述核部分上鍵合有兩個或三個所述末端部分的化合物。[0160](甲基)丙烯酸氨基甲酸酯優(yōu)選的是至少具有下述式Ae-1或式Ae-2所表示的基團的化合物，更優(yōu)選的是至少具有下述式Ae-1所表示的基團的化合物。另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯更優(yōu)選的是具有兩個以上的選自由下述式Ae-1所表示的基團及式Ae-2所表示的基團所組成的組群中的基團的化合物。[0161]另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的所述末端部分優(yōu)選下述式Ae-1或式Ae-2所表示的基團。[0164]式Ae-1及式Ae-2中，R分別獨立地表示丙烯酸基或甲基丙烯酸基，波線部分表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合位置。[0165]另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯優(yōu)選的是至少具有下述式Ac-1或式Ac-2所表示的基團的化合物，更優(yōu)選的是至少具有下述式Ac-1所表示的基團的化合物。[0166]另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酷中的所述核部分優(yōu)選下述式Ac-1或式Ac-2所表示的基團。[0169]式Ac-1及式Ac-2中，L1~L4分別獨立地表示碳數(shù)2~20的二價烴基，波線部分表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合位置。[0170]L1~L4分別獨立地優(yōu)選碳數(shù)2~20的亞烷基，更優(yōu)選碳數(shù)2~10的亞烷基，進而優(yōu)選碳數(shù)4~8的亞烷基。另外，所述亞烷基也可具有分支結(jié)構(gòu)或環(huán)結(jié)構(gòu)，優(yōu)選直鏈亞烷基。[0171]另外，（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯特別優(yōu)選的是式Ac-1或式Ac-2所表示的基團與選自由式Ae-1及式Ae-2所表示的基團所組成的組群中的兩個或三個基團鍵合而成的化合物。[0172]以下例示本發(fā)明中可優(yōu)選地使用的（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯，但本發(fā)明當然不限定于這些化合物。[0179]另外，本發(fā)明中可使用的（甲基)丙烯酸氨基甲酸酯可例示使用異氰酸酯與羥基的加成反應而制造的氨基甲酸酯加成聚合性化合物，可例示日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載那樣的丙烯酸氨基甲酸酷類，將這些記載并入到本說明書中。[0180](甲基）丙烯酸氨基甲酸酯的市售品可例示：可從新中村化學工業(yè)（股）獲取的U-6HA、UA-1100H、U-6LPA、U-15HA、U-6H、U-10HA、U-10PA、UA-53H、UA-33H(均為注冊商標），或可從共榮社化學（股）獲取的UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H，可從巴斯夫(BASF)公司獲取的拉羅莫(Laromer)UA-9048、拉羅莫（Laromer)UA-9050、拉羅莫（Laromer)PR9052，可從大賽璐-奧璐尼克斯（Daicel-Allnex)(股）獲取的艾白克力（EffiCRYL)220、艾白克力(EBECRYL)5129、艾白克力（EBECRYL)8301、艾白克力（EBECRYL)KRM8200、艾白克力(EBECRYL)8200AE、艾白克力（EBECRYL)8452等。[0181]成分B可單獨使用一種，也可并用兩種以上。[0182]相對于感光性組合物的總有機固體成分，成分B的含量優(yōu)選10質(zhì)量％~90質(zhì)量％，更優(yōu)選30質(zhì)量％~85質(zhì)量％，進而優(yōu)選45質(zhì)量％~75質(zhì)量％。[0183]相對于感光性組合物的總有機固體成分，本發(fā)明的感光性組合物中的成分A及成分B的總含量為60質(zhì)量％以上，優(yōu)選65質(zhì)量％以上，更優(yōu)選70質(zhì)量％以上，進而優(yōu)選75質(zhì)量％以上。另外，上限值并無特別限定，優(yōu)選98質(zhì)量％以下，更優(yōu)選95質(zhì)量％以下。若感光性組合物中的成分A及成分B的總含量為所述范圍內(nèi)，則可獲得硬化性優(yōu)異、耐汗性優(yōu)異的硬化膜。[0184]成分C:光聚合引發(fā)劑[0185]本發(fā)明的感光性組合物含有光聚合引發(fā)劑作為成分C。[0186]光聚合引發(fā)劑優(yōu)選的是含有光自由基聚合引發(fā)劑。[0187]本發(fā)明中可使用的光聚合引發(fā)劑為可通過光而引發(fā)、促進聚合的化合物。其中，更優(yōu)選的是光自由基聚合引發(fā)劑。[0188]所謂"光"，只要為可通過其照射而賦予可由成分C產(chǎn)生引發(fā)種的能量的活性能量線，貝并無特別限制，廣泛地包含a射線、y射線、X射線、紫外線(UltraViolet，UV)、可見光線、電子束等。這些中，優(yōu)選的是至少包含紫外線的光。[0189]光聚合引發(fā)劑例如可舉出：肟酯化合物、有機鹵化化合物、氧基二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、安息香化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、茂金屬化合物、六芳基聯(lián)咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、鑰鹽化合物、?；?氧化物)化合物。這些化合物中，從感度的方面來看，優(yōu)選肟酯化合物、六芳基聯(lián)咪唑化合物，更優(yōu)選肟酯化合物。[0190]肟酯化合物可使用：日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特開2001-233842號公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2007-231000號公報、日本專利特開2009-134289號公報、及國際公開第2012/057165號的公報的段落0046~段落0059中記載的化合物。[0191]有機鹵化化合物的例子具體可舉出：若林等人的《日本化學會公報（Bull〇^!11.3〇(3.如口311)》(42、2924(1969))、美國專利第3,905,815號說明書、日本專利特公昭46-4605號公報、日本專利特開昭48-36281號公報、日本專利特開昭55-32070號公報、日本專利特開昭60-239736號公報、日本專利特開昭61-169835號公報、日本專利特開昭61-169837號公報、日本專利特開昭62-58241號公報、日本專利特開昭62-212401號公報、日本專利特開昭63-70243號公報、日本專利特開昭63-298339號公報、M.P.亨特(M.P.Hutt)等人的《雜環(huán)化學期刊（JournalofHeterocyclicChemistry)》（l(No3)，（1970))等中記載的化合物，特別可舉出經(jīng)三鹵化甲基取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。[0192]六芳基聯(lián)咪唑化合物的例子例如可舉出：日本專利特公平6-29285號公報、美國專利第3,479，185號、美國專利第4,311，783號、美國專利第4,622,286號等的各說明書中記載的各種化合物。[0193]酰基膦(氧化物)化合物可例示單?；⒀趸锘衔锛半p?；⒀趸锘衔铮唧w來說，例如可舉出：巴斯夫（BASF)公司制造的艷佳固（Irgacure)819、達羅固(Darocure)4265、達羅固（Darocure)TP0等。[0194]光聚合引發(fā)劑可使用一種或組合使用兩種以上。[0195]相對于組合物中的總固體成分100質(zhì)量份，本發(fā)明的感光性組合物中的光聚合引發(fā)劑的含量優(yōu)選0.5質(zhì)量份~30質(zhì)量份，更優(yōu)選1質(zhì)量份~20質(zhì)量份，進而優(yōu)選1質(zhì)量份~10質(zhì)量份，特別優(yōu)選1.5質(zhì)量份~5質(zhì)量份。[0196]〈增感劑〉[0197]本發(fā)明的感光性組合物中，除了光聚合引發(fā)劑以外，也可添加增感劑。[0198]增感劑吸收光化射線或放射線而成為激發(fā)狀態(tài)。成為激發(fā)狀態(tài)的增感劑可通過與成分C的相互作用而產(chǎn)生電子移動、能量移動、發(fā)熱等作用，而引發(fā)?促進聚合。[0199]本發(fā)明中可使用的典型的增感劑可舉出J.V.克里維洛(J.V.Crivello)的《先進聚合物科技(Adv.inPolymerSci.)》(62,1(1984))中公開的增感劑，具體可舉出：花、花、口丫啶橙、噻噸酮、2-氯噻噸酮、苯并黃素、N-乙烯基咔唑、9,10-二丁氧基蒽、蒽醌、香豆素、酮基香豆素、菲、樟腦醌、吩噻嗪衍生物等。相對于光聚合引發(fā)劑，增感劑優(yōu)選的是以50質(zhì)量％~200質(zhì)量％的比例而添加。[0200]成分D:羥甲基化合物[0201]本發(fā)明的感光性組合物含有羥甲基化合物作為成分D。[0202]羥甲基化合物為分子內(nèi)具有至少一個羥甲基、烷氧基甲基(經(jīng)醚化的甲基）、或酰氧基甲基(經(jīng)酯化的甲基）的化合物。此外，所述羥甲基、烷氧基甲基、或酰氧基甲基具有的氫原子的一部分可被取代為鹵素原子。羥甲基化合物優(yōu)選在分子內(nèi)具有至少一個羥甲基或烷氧基甲基的化合物。[0203]所述羥甲基化合物在分子內(nèi)合計具有一個以上的羥甲基、烷氧基甲基及酰氧基甲基，優(yōu)選具有兩個~十個，更優(yōu)選具有兩個~八個，進而優(yōu)選具有兩個~四個。若一分子中的羥甲基化合物具有的羥甲基、烷氧基甲基及酰氧基甲基的合計數(shù)為所述范圍內(nèi)，則可獲得密接性及耐汗性優(yōu)異的硬化膜，因此優(yōu)選。[0204]所述烷氧基甲基的烷氧基優(yōu)選碳數(shù)1~6,更優(yōu)選碳數(shù)1~4,進而優(yōu)選碳數(shù)1~3,特別優(yōu)選碳數(shù)1或2,最優(yōu)選甲氧基。此外，烷氧基可具有直鏈烷基或分支烷基的任一種，優(yōu)選具有直鏈烷基。[0205]所述酰氧基甲基由R-C(=0)-0-CH2-表示，所述R只要為一價有機基則并無特別限定，可優(yōu)選地例示烷基、芳基，更優(yōu)選烷基。R優(yōu)選碳數(shù)1~20，更優(yōu)選碳數(shù)1~12，進而優(yōu)選碳數(shù)1~6〇[0206]羥甲基化合物可例示羥甲基三聚氰胺化合物、羥甲基胍胺化合物、羥甲基脲化合物、甲階酚醛(resol)樹脂、芳香環(huán)上的氫原子經(jīng)羥甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物等。這些化合物中，羥甲基化合物優(yōu)選羥甲基三聚氰胺化合物、羥甲基胍胺化合物、羥甲基脲化合物、芳香環(huán)上的氫原子經(jīng)羥甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物，更優(yōu)選具有與羥甲基或烷氧基甲基鍵合的氮元素的化合物，進而優(yōu)選羥甲基三聚氰胺化合物、羥甲基胍胺化合物、羥甲基脲化合物，特別優(yōu)選羥甲基三聚氰胺化合物、羥甲基脲化合物，最優(yōu)選羥甲基三聚氰胺化合物。[0207]所述芳香環(huán)上的氫原子經(jīng)羥甲基或烷氧基甲基取代的芳香族化合物可例示日本專利特開2013-064829號公報的段落0136~段落0139中所記載的化合物、日本專利特開平10-0120940號公報的段落0029~段落0036中所記載的化合物。[0208]羥甲基三聚氰胺化合物優(yōu)選以下的式D-1所表示的化合物。[0209][化7][0211]式D-1中，Rdn~Rdl6分別獨立地表示氫原子或下述式d所表示的基團。其中，Rdn~Rdl6的至少一個為下述式d所表示的基團。[0212][化8][0213]-CH2-〇-Rd(d)[0214]式d中，Rd表示氫原子或碳數(shù)1~6的烷基。[0215]Rd所表示的碳數(shù)1~6的烷基可為直鏈狀或分支狀的任一種，優(yōu)選直鏈狀。碳數(shù)為1~6,優(yōu)選碳數(shù)1~4,更優(yōu)選碳數(shù)1~3,進而優(yōu)選碳數(shù)1或2,特別優(yōu)選碳數(shù)1。[0216]式D-1中，優(yōu)選Rdn~Rdl6中的四個~六個為式(1所表示的基團，更優(yōu)選五個或六個為式d所表示的基團，進而優(yōu)選六個全部為式d所表示的基團。[0217]羥甲基胍胺化合物優(yōu)選以下的式D-2所表示的化合物。[0218][化9][0220]式D-2中，Rd21表示氫原子、烷基或芳基，Rd22~Rd25分別獨立地表示氫原子或所述式d所表示的基團。其中，Rd22~Rd25的至少一個為所述式d所表示的基團。[0221]式D-2中，R21所表示的烷基可為直鏈狀、分支狀或環(huán)狀的任一種，優(yōu)選直鏈狀或分支狀，更優(yōu)選直鏈狀。烷基的碳數(shù)優(yōu)選1~6,更優(yōu)選1~4,進而優(yōu)選1~3,特別優(yōu)選甲基或乙基，最優(yōu)選甲基。[0222]式D-2中，R21所表示的芳基優(yōu)選碳數(shù)6~14,更優(yōu)選碳數(shù)6~10,進而優(yōu)選苯基。[0223]式D-2中，R21優(yōu)選氫原子、甲基或苯基，更優(yōu)選氫原子或苯基，進而優(yōu)選苯基。[0224]所述式d中，Rd表示氫原子或碳數(shù)1~6的烷基，優(yōu)選范圍與式D-1相同。[0225]式D-2中，優(yōu)選Rd22~Rd25中的兩個~四個為式d所表示的基團，更優(yōu)選三個或四個為式d所表示的基團，進而優(yōu)選四個全部為式d所表示的基團。[0226]羥甲基脲化合物優(yōu)選以下的式D-3所表示的化合物。[0227][化10][0229]式D-3中，R31及R33分別獨立地表示氫原子或烷基，R32及R34分別獨立地表示氫原子或所述式d所表示的基團，R31與R33可連結(jié)而形成環(huán)，也可進而形成縮合環(huán)。其中，R32及R34的至少任一個為所述式d所表示的基團。[0230]所述式d中，Rd表示氫原子或碳數(shù)1~6的烷基，優(yōu)選范圍與式D-1相同。[0231]式D-3中，R31及R33分別獨立地表示氫原子或烷基，所述烷基可為直鏈狀、分支狀或環(huán)狀的任一種，另外，也可具有取代基。烷基的碳數(shù)優(yōu)選1~8,更優(yōu)選1~6,進而優(yōu)選1~4。[0232]式D-3中，優(yōu)選R31及R33均為氫原子、或連結(jié)而形成環(huán)。在R31與R33連結(jié)而形成環(huán)的情況下，優(yōu)選下述式D-4或式D-5所表示的化合物。此外，式D-5所表示的化合物也被稱為羥甲基甘脲化合物。[0233][化11][0235]式D-4中，Rd41及Rd42分別獨立地表示氫原子或所述式d所表示的基團，Rd43及Rd44表示氫原子或一價有機基，L表示單鍵或二價連結(jié)基。其中，Rd41及Rd42的至少一個表示所述式d所表示的基團。[0236]所述式d中，Rd表示氫原子或碳數(shù)1~6的烷基，優(yōu)選范圍與所述式D-1相同。[0237]式D-4中，優(yōu)選Rd41及Rd42均為式d所表示的基團，更優(yōu)選Rd41及Rd42均為烷氧基甲基，進而優(yōu)選Rd41及Rd42均為甲氧基甲基。[0238]式D-4中，Rd43及Rd44表示氫原子或一價有機基，優(yōu)選一價有機基。一價有機基并無特別限定，優(yōu)選烷基、烷氧基，更優(yōu)選烷氧基。此外，所述烷基及烷氧基的碳數(shù)優(yōu)選1~6，更優(yōu)選1~4，進而優(yōu)選1~3，特別優(yōu)選1或2，最優(yōu)選1。[0239]式D-4中，L表示單鍵或二價連結(jié)基，優(yōu)選單鍵。二價連結(jié)基優(yōu)選亞烷基，亞烷基的碳原子的一部分可被取代為氧原子、羰基、酯鍵等。[0240]式D-5中，Rd51~Rd54表示氫原子或所述式d所表示的基團，Rd51~Rd54的至少一個表示式d所表示的基團。優(yōu)選Rd51~Rd54中的兩個~四個為式d所表示的基團，更優(yōu)選三個或四個為式d所表示的基團，進而優(yōu)選四個全部為式d所表示的基團。[0241]以下例示成分D的優(yōu)選具體例，但本發(fā)明并不限定于這些例示。此外，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基。[0247]成分D也可使用上市的產(chǎn)品，例如可例示：尼卡拉庫（NIKALAC)MX-270、尼卡拉庫(NIKALAC)MW-IOOLM、尼卡拉庫(NIKALAC)MX-280、尼卡拉庫(NIKALAC)MX-290(以上，三和化學(股)制造)等。[0248]成分D的分子量(在具有分子量分布的情況下為重量平均分子量)并無特別限定，優(yōu)選100~1，000,更優(yōu)選100~800,進而優(yōu)選100~500。若成分D的分子量為所述范圍內(nèi)，則分子的運動性高，可獲得耐汗性優(yōu)異的硬化膜，因此優(yōu)選。[0249]成分D可單獨含有一種，也可含有兩種以上。[0250]本發(fā)明的感光性組合物中，成分D相對于感光性組合物中的總有機固體成分的含量優(yōu)選〇.1質(zhì)量％~20質(zhì)量％，更優(yōu)選1質(zhì)量％~10質(zhì)量％，進而優(yōu)選3質(zhì)量％~8質(zhì)量％。若為所述范圍，則可獲得耐汗性更優(yōu)異的硬化膜。[0251]成分E:聚合抑制劑[0252]本發(fā)明的感光性組合物也可含有聚合抑制劑作為成分E。通過含有成分E，而抑制由漏光所致的聚合反應，顯影性優(yōu)異。[0253]所謂聚合抑制劑，是指發(fā)揮以下作用的物質(zhì):對通過曝光或熱而由聚合引發(fā)劑所產(chǎn)生的聚合引發(fā)自由基成分實施供氫(或授氫）、供能(或授能）、供電子(或授電子)等，使聚合引發(fā)自由基失活，抑制聚合引發(fā)。例如可使用日本專利特開2007-334322號公報的段落0154~段落0173中記載的化合物等。[0254]本發(fā)明的感光性組合物中的成分E的含量并無特別限制，相對于感光性組合物的總固體成分，優(yōu)選0.005質(zhì)量％~0.5質(zhì)量％，更優(yōu)選0.01質(zhì)量％~0.5質(zhì)量％。通過調(diào)整聚合抑制劑的調(diào)配量，可提高圖案化性而不損及感度。[0255]聚合抑制劑的種類可優(yōu)選地采用堅硬且不降低感度的化合物。這種聚合抑制劑可舉出：吩噻嗪，氯丙嗪（chlorpromazine)、左美丙嗪（levomepromazine)、氟非那嗪(fluphenazine)、硫利卩達嗪(1:11；[01^(^2；[116)等吩噻嗪衍生物，吩噁嗪，3,7-雙(二乙基氨基）吩噁嗪-5-高氯酸鹽、5-氨基_9_(二甲基氨基)-10_甲基苯并[a]吩噁嗪-7-氯酸鹽、7-(戊氧基)-3H-吩噁嗪-3-酮、5,9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-乙酸鹽、7-乙氧基-3H-吩噁嗪-3-酮等吩嚼嗪衍生物，三-對硝基苯基甲基、二苯基苦味肼基(diphenylpicrylhydrazyl)、加爾萬氧基(galvinoxyl)等穩(wěn)定自由基，醌、苯醌、氯苯醌、2，5-二-氯苯醌、2，6-二-氯苯醌、2，3-二-甲基苯醌、2,5_二-甲基苯醌、甲氧基苯醌、甲基苯醌、四溴苯醌、四氯苯醌、四甲基苯醌、三氯苯醌、三甲基苯醌、戊基醌、戊氧基對苯二酚、2，5-二-叔丁基對苯二酚、2，5-二苯基對苯醌等醌類，a-萘酚、2-硝基-1-萘酚、萘酚、1-硝基-2-萘酚等萘酚類，4-甲氧基苯酚、4-乙氧基苯酚、對苯二酚、苯酚、叔丁基鄰苯二酚、甲基對苯二酚、正丁基苯酚、對苯二酚單丙醚、叔丁基甲酚、對甲酚、2，6-二-叔丁基對甲酚、鄰苯二酚間苯二酚、鄰叔丁基苯酚、2，6-二-對甲氧基苯酚、2,6-二-叔丁基苯酚、2,4-一二-叔丁基苯酚、3,5-二-叔丁基苯酚、3,5-二-叔丁基-4-羥基苯甲酸、N，V-雙-3-(3、5~二_叔丁基-4-羥基苯基)丙酰基六亞甲基二胺、2,2~亞甲基雙(6-叔丁基對甲酚）、3-(4_羥基-3'二-叔丁基苯基)丙酸正十八烷基酯、（4-羥基-3-甲基-5-叔丁基)芐基丙二酸二硬脂酯、2，4，6-三-叔丁基苯酚、1，6-己二醇-雙[3-(3,5_二-叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-雙-[3-(3_叔丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2，2_硫代-二亞乙基-雙-[3_(3，5_二-叔丁基_4_羥基苯基)丙酸酯]、3，9_雙[1，1_二甲基-2-[P-(3-叔丁基-4-羥基-5-甲基苯基）丙酰氧基乙基_2,4,8，10_四氧雜螺[5，5]十一燒、2，2'-亞乙基-雙-(2，4-_叔丁基苯酸）、1，1，3-二-(2-甲基羥基叔丁基苯基）丁烷、1，3，5-三甲基-2，4，6-三-(3，5-二-叔丁基-4-羥基芐基)苯、三(3，5-二-叔丁基-4-羥基芐基)異氰酸酯、三，5~二-叔丁基-V-羥基苯丙酰氧基）乙基]異氰酸酯、三(4-叔丁基_2,6_二-甲基-3-羥基芐基）異氰酸酯、四[亞甲基A'-二-叔丁基-V-羥基苯基)丙酸酯]甲烷等酚類，2,4_二硝基苯酚、鄰硝基苯酚、間硝基苯酚、對硝基苯酚等硝基苯酚類，沒食子酸、沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯、沒食子酸異戊酯等沒食子酸類，亞甲基藍、孔雀綠等色素類，萘基胺、N-亞硝基環(huán)己基胺鹽、二-對氟苯基胺等胺類，鄰苯三酚、單節(jié)醚、苯醌、三苯基膦、氯化亞銅、吩噻嗪、氯醌(chlorani1)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、對甲苯胺、苦味酸、水楊酸甲酯等。[0256]聚合抑制劑特別優(yōu)選的是例示選自由吩噻嗪、吩噁嗪、受阻胺及這些化合物的衍生物所組成的組群中的至少一種，更優(yōu)選的是含有選自由吩噻嗪、吩噁嗪、及這些化合物的衍生物所組成的組群中的至少一種。[0257]吩噻嗪及其衍生物可例示：吩噻嗪、雙-(a-甲基芐基)吩噻嗪、3,7_二辛基吩噻嗪、雙_(a_二甲基芐基）吩噻嗪、氟非那嗪(fluphenazine)、硫利U達嗪（thioridazine)，優(yōu)選吩噻嗪(phenothiazine)〇[0258]吩噁嗪及其衍生物可例示：吩噁嗪、3，7-雙（二乙基氨基）吩噁嗪-5-高氯酸鹽、5-氨基-9-(二甲基氨基)-10_甲基苯并[a]吩噁嗪-7-氯酸鹽、7-(戊氧基)-3H-吩噁嗪-3-酮、5，9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-乙酸鹽、7-乙氧基-3H-吩噁嗪-3-酮，優(yōu)選吩噁嗪。[0259]受阻胺及其衍生物可例示：智瑪索布（CHIMASS0RB)2020FDL、地奴彬（TINUVIN)144、地奴彬(TINUVIN)765、地奴彬(TINUVIN)770(以上為巴斯夫(BASF)公司制造），優(yōu)選地奴彬（TINUVIN)144。[0260]成分F:烷氧基硅烷化合物[0261]本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選含有烷氧基硅烷化合物作為成分F。若使用烷氧基硅烷化合物，則可提高由本發(fā)明的感光性組合物形成的膜與基板的密接性。[0262]烷氧基硅烷化合物只要為具有至少一個烷氧基與硅原子直接鍵合而成的基團的化合物，則并無特別限制，優(yōu)選具有二烷氧基硅烷基和/或三烷氧基硅烷基的化合物，更優(yōu)選具有三烷氧基硅烷基的化合物。[0263]本發(fā)明中可使用的烷氧基硅烷化合物優(yōu)選使基材、例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物、金、銅、鉬、鈦、鋁等金屬與硬化膜的密接性提高的化合物。具體來說，眾所周知的硅烷偶合劑等也有效。優(yōu)選具有乙烯性不飽和鍵的硅烷偶合劑。[0264]硅烷偶合劑例如可舉出：y-氨基丙基三甲氧基硅烷、y-氨基丙基三乙氧基硅烷、y-縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、Y-縮水甘油氧基丙基二烷氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、Y-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷、Y-氯丙基三烷氧基硅烷、y-巰基丙基三烷氧基硅烷、0-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基）乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。這些化合物中，更優(yōu)選Y-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、Y-丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、縮水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷。這些化合物可單獨使用一種或組合使用兩種以上。[0265]市售品可例示信越化學工業(yè)(股）制造的KBM-403或KBM-5103。[0266]相對于感光性組合物的總固體成分，本發(fā)明的感光性組合物中的烷氧基硅烷化合物的含量優(yōu)選〇.1質(zhì)量％~30質(zhì)量％，更優(yōu)選2質(zhì)量％~20質(zhì)量％，進而優(yōu)選3質(zhì)量％~10質(zhì)量％。烷氧基硅烷化合物可僅使用一種，也可含有兩種以上。在含有兩種以上的情況下，優(yōu)選的是合計量成為所述范圍。[0267]成分G:無機粒子[0268]本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選的是含有無機粒子作為成分G。通過含有無機粒子，硬化膜的硬度變得更優(yōu)異。[0269]本發(fā)明中所用的無機粒子的平均粒徑優(yōu)選lnm~200nm，更優(yōu)選5nm~100nm，進而優(yōu)選5nm~50nm。平均粒徑是指利用電子顯微鏡測定任意200個粒子的粒徑并加以算術(shù)平均所得的值。另外，在粒子的形狀并非球形的情況下，將最長的邊設(shè)為直徑。[0270]另外，從硬化膜的硬度的觀點來看，無機粒子的空隙率優(yōu)選的是小于10%，更優(yōu)選的是小于3%，最優(yōu)選的是無空隙。粒子的空隙率為由電子顯微鏡所得的截面圖像的空隙部分與粒子總體的面積比的200個的算術(shù)平均。[0271]無機粒子優(yōu)選的是含有鈹(Be)、鎂(Mg)、鈣(Ca)、鍶（Sr)、鋇(Ba)、鈧(Sc)、釔(Y)、鑭(La)、鈰(Ce)、釓(Gd)、鋱(Tb)、鏑(Dy)、鐿(Yb)、镥(Lu)、鈦(Ti)、鋯(Zr)、鉿(Hf)、鈮(Nb)、鉬(Mo)、鎢(W)、鋅(Zn)、硼(B)、鋁(A1)、硅(Si)、鍺(Ge)、錫(Sn)、鉛(Pb)、銻(Sb)、鉍(Bi)、碲(Te)等的原子的金屬氧化物粒子，更優(yōu)選氧化硅、氧化鈦、鈦復合氧化物、氧化鋅、氧化鋯、銦/錫氧化物、銻/錫氧化物，進而優(yōu)選氧化硅、氧化鈦、鈦復合氧化物、氧化鋯，從粒子的穩(wěn)定性、獲取容易性、硬化膜的硬度、透明性、折射率調(diào)整等觀點來看，特別優(yōu)選氧化硅、氧化鈦、氧化錯。[0272]氧化硅可優(yōu)選地舉出二氧化硅，可更優(yōu)選地舉出二氧化硅粒子。[0273]二氧化硅粒子只要為含有二氧化硅的無機氧化物的粒子，則并無特別問題，優(yōu)選的是含有二氧化硅或其水合物作為主成分(優(yōu)選80質(zhì)量％以上）的粒子。所述粒子也可含有鋁酸鹽作為少量成分(例如小于5質(zhì)量％)。有時作為少量成分而含有的鋁酸鹽可舉出鋁酸鈉、鋁酸鉀等。另外，二氧化硅粒子也可含有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化銨等無機鹽類或氫氧化四甲基銨等有機鹽類。這種化合物的例子可例示膠體二氧化硅。[0274]膠體二氧化硅的分散介質(zhì)并無特別限制，可為水、有機溶劑及這些物質(zhì)的混合物的任一種。這些分散介質(zhì)可單獨使用一種，也可并用兩種以上。[0275]本發(fā)明中，粒子也能以分散液的形式供使用，所述分散液是通過在適當?shù)姆稚┘叭軇┲惺褂们蚰C、棒磨機等混合裝置進行混合?分散而制備。此外，本發(fā)明的感光性組合物中，膠體二氧化硅無需以膠體狀態(tài)而存在。[0276]關(guān)于無機粒子的含量，在調(diào)配無機粒子的情況下，從硬度的觀點來看，相對于感光性組合物的總固體成分，優(yōu)選1質(zhì)量％以上，更優(yōu)選5質(zhì)量％以上，進而優(yōu)選10質(zhì)量％以上。另外，優(yōu)選80質(zhì)量％以下，更優(yōu)選50質(zhì)量％以下，進而優(yōu)選40質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選30質(zhì)量％以下。[0277]無機粒子可僅含有一種，也可含有兩種以上。在含有兩種以上的情況下，優(yōu)選的是其合計量成為所述范圍。[0278]-其他成分-[0279]本發(fā)明的感光性組合物除了所述成分以外，也可含有其他成分。其他成分可使用眾所周知的成分，可優(yōu)選地例示以下表示的各成分。[0280]〈溶劑〉[0281]本發(fā)明的感光性組合物也可含有溶劑。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選的是制備成將作為必需成分的成分A~成分D及所述及后述的任意成分溶解和/或分散在溶劑中而成的組合物。[0282]溶劑優(yōu)選有機溶劑。本發(fā)明的感光性組合物中所使用的有機溶劑可使用眾所周知的溶劑，可例示：乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、丁二醇二乙酸酯類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、醇類、酯類、酮類、酰胺類、內(nèi)酯類等。這些有機溶劑的具體例可參考日本專利特開2009-098616號公報的段落0062。[0283]具體來說，優(yōu)選丙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇二乙醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇單甲醚、1，3_丁二醇二乙酸酯、環(huán)己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、四氫糠醇。[0284]從涂布性的觀點來看，有機溶劑的沸點優(yōu)選100°C~300°C，更優(yōu)選120°C~250°C。[0285]本發(fā)明中可使用的溶劑可單獨使用一種或并用兩種以上。也優(yōu)選的是將沸點不同的溶劑并用。[0286]關(guān)于本發(fā)明的感光性組合物中的溶劑的含量，從調(diào)整為適于涂布的粘度的觀點來看，相對于組合物的總固體成分100質(zhì)量份，所述含量優(yōu)選100質(zhì)量份~3,000質(zhì)量份，更優(yōu)選200質(zhì)量份~2，000質(zhì)量份，進而優(yōu)選250質(zhì)量份~1，000質(zhì)量份。[0287]感光性組合物的固體成分濃度優(yōu)選3質(zhì)量％~50質(zhì)量％，更優(yōu)選20質(zhì)量％~40質(zhì)量％。[0288]感光性組合物的粘度優(yōu)選ImPa?s~200mpa?s，更優(yōu)選2mpa?s~lOOmPa?s，進而優(yōu)選3mpa?s~80mPa?s。粘度例如優(yōu)選的是使用東機產(chǎn)業(yè)(股）制造的RE-80L型旋轉(zhuǎn)粘度計在25°C±0.2°C下進行測定。關(guān)于測定時的旋轉(zhuǎn)速度，粘度小于5mPa?s時優(yōu)選的是以lOOrpm的旋轉(zhuǎn)速度進行測定，粘度為5mPa?s以上且小于lOmPa?s時優(yōu)選的是以50rpm的旋轉(zhuǎn)速度進行測定，粘度為lOmPa?s以上且小于30mPa?s時優(yōu)選的是以20rpm的旋轉(zhuǎn)速度進行測定，粘度為30mpa?s以上時優(yōu)選的是以lOrpm的旋轉(zhuǎn)速度進行測定。[0289]〈粘合劑聚合物〉[0290]從提高分辨性及皮膜特性等觀點來看，本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選含有粘合劑聚合物。[0291]所述粘合劑聚合物優(yōu)選堿顯影性聚合物。[0292]所謂堿顯影性聚合物是指可進行堿顯影的聚合物，且在與堿性水溶液接觸的情況下顯現(xiàn)出溶解性和/或膨潤性的聚合物。[0293]堿顯影性聚合物所具有的堿顯影性基團并無特別限制，可優(yōu)選地舉出羧基或羥基，可更優(yōu)選地舉出羧基。[0294]另外，所述粘合劑聚合物優(yōu)選使用線狀有機聚合物。這種線狀有機聚合物可任意地使用眾所周知的線狀有機聚合物，優(yōu)選丙烯酸系樹脂。線狀有機聚合物是根據(jù)不僅作為皮膜形成劑，而且作為水、弱堿性水或有機溶劑顯影劑的用途而選擇使用。例如若使用水可溶性有機聚合物則可進行水顯影。這種線狀有機聚合物可舉出：在側(cè)鏈上具有羧酸基的自由基聚合物，例如日本專利特開昭59-44615號公報、日本專利特公昭54-34327號公報、日本專利特公昭58-12577號公報、日本專利特公昭54-25957號公報、日本專利特開昭54-92723號公報、日本專利特開昭59-53836號公報、日本專利特開昭59-71048號公報中記載的化合物，即，使具有羧基的單體單獨或共聚合而成的樹臘、將使具有酸酐的單體單獨或共聚合而成的酸酐單元水解或半酯化或半酰胺化而成的樹脂、以不飽和單羧酸及酸酐將環(huán)氧樹脂改性而成的環(huán)氧丙烯酸酯等。[0295]具有羧基的單體可舉出：丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、馬來酸、富馬酸、4-羧基苯乙烯等。[0296]具有酸酐的單體可舉出馬來酸酐等。[0297]另外，可舉出同樣地在側(cè)鏈上具有羧酸基的酸性纖維素衍生物。除此以外，在具有羥基的聚合物上加成環(huán)狀酸酐而成的化合物等有用。[0298]另外，粘合劑聚合物優(yōu)選具有交聯(lián)性基，更優(yōu)選含有具有交聯(lián)性基的結(jié)構(gòu)單元。[0299]所述交聯(lián)性基只要為通過加熱處理而引起硬化反應的基團，則并無特別限定。[0300]交聯(lián)性基優(yōu)選環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁基、-NH-CH2-〇-R(R表示氫原子或碳數(shù)1~20的烷基)所表示的基團或乙烯性不飽和基，更優(yōu)選環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁基。[0301]用于形成具有環(huán)氧基的結(jié)構(gòu)單元的單體的具體例例如可舉出：丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、a_乙基丙烯酸縮水甘油酯、a_正丙基丙烯酸縮水甘油酯、a_正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸_3,4_環(huán)氧丁酯、甲基丙烯酸_3,4_環(huán)氧丁酯、丙烯酸_3,4_環(huán)氧環(huán)己基甲酯、甲基丙烯酸_3,4_環(huán)氧環(huán)己基甲酯、a-乙基丙烯酸-3,4_環(huán)氧環(huán)己基甲酯、鄰乙烯基芐基縮水甘油醚、間乙烯基芐基縮水甘油醚、對乙烯基芐基縮水甘油醚、日本專利第4168443號公報的段落0031~段落0035中記載的含有脂環(huán)式環(huán)氧骨架的化合物等。[0302]用于形成具有氧雜環(huán)丁基的結(jié)構(gòu)單元的單體的具體例例如可舉出日本專利特開2001-330953號公報的段落0011~段落0016中記載的具有氧雜環(huán)丁基的（甲基）丙烯酸酯等。[0303]另外，粘合劑聚合物的聚合中使用的單體具體來說可舉出：苯乙烯、叔丁氧基苯乙稀、甲基苯乙稀、a-甲基苯乙稀、乙酰氧基苯乙稀、甲氧基苯乙稀、乙氧基苯乙稀、氯苯乙稀、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸正丙酯、（甲基)丙烯酸異丙酯、（甲基)丙烯酸芐酯、（甲基)丙烯酸異冰片酯、丙烯腈、乙二醇單乙酰乙酸酯單（甲基)丙烯酸酷等的結(jié)構(gòu)單元。除此此外，可舉出日本專利特開2004-264623號公報的段落0021~段落0024中記載的化合物。[0304]另外，從電特性的觀點來看，粘合劑聚合物優(yōu)選含有源自苯乙烯類或具有脂肪族環(huán)式骨架的單體的結(jié)構(gòu)單元，更優(yōu)選含有源自具有脂肪族環(huán)式骨架的單體的結(jié)構(gòu)單元。這些單體，具體來說可舉出：苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯、a-甲基苯乙烯、（甲基）丙烯酸二環(huán)戊酯、（甲基)丙烯酸環(huán)己酯、（甲基)丙烯酸異冰片酯、（甲基)丙烯酸芐酯等。[0305]進而，關(guān)于粘合劑聚合物，從密接性的觀點來看，優(yōu)選源自（甲基)丙烯酸烷基酯的結(jié)構(gòu)單元。（甲基)丙烯酸烷基酯具體可舉出（甲基)丙烯酸甲酯、（甲基)丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基)丙烯酸正丁酯等，更優(yōu)選（甲基)丙烯酸甲酯。[0306]粘合劑聚合物可單獨含有一種，也可含有兩種以上。[0307]本發(fā)明的感光性組合物中的粘合劑聚合物的含量并無特別限制，相對于感光性組合物的總固體成分而言，優(yōu)選1質(zhì)量％~70質(zhì)量％，更優(yōu)選5質(zhì)量％~60質(zhì)量％，進而優(yōu)選10質(zhì)量％~55質(zhì)量％，特別優(yōu)選20質(zhì)量％~50質(zhì)量％。[0308]〈表面活性劑〉[0309]本發(fā)明的感光性組合物也可含有表面活性劑。[0310]表面活性劑可使用陰離子系、陽離子系、非離子系或兩性的任一種，優(yōu)選的表面活性劑為非離子系表面活性劑。表面活性劑優(yōu)選非離子系表面活性劑，更優(yōu)選氟系表面活性劑。[0311]本發(fā)明中可使用的表面活性劑例如可舉出：作為市售品的美佳法（Megafac)?1420、美佳法（]\^83€3(3汴172、美佳法(]\^83€3(3汗173、美佳法（]\^83€3(3汴176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F183、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法（Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法（Megafac)F781、美佳法（Megafac)F781-F、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)R08、美佳法(Megafac)F_472SF、美佳法(Megafac)BL20、美佳法(Megafac)R_61、美佳法(Megafac)R_90(迪愛生(DIC)(股）制造），弗拉德（Fluorad)FC-135、弗拉德（Fluorad)FC-170C、弗拉德（Fluorad)FC-430、弗拉德(Fluorad)FC_431、諾貝克（Novec)FC_4430(住友3M(股）制造），旭嘉德（AsahiGuard)AG7105、旭嘉德（AsahiGuard)7000、旭嘉德（AsahiGuard)950、旭嘉德(AsahiGuard)7600、沙福?。?11"1〇11)5-112、沙福?。?1^€1〇11)5-113、沙福隆（511"1〇11)5-131、沙福隆(Surflon)S_141、沙福?。⊿urflon)S_145、沙福?。⊿urflon)S_382、沙福?。⊿urflon)SC-101、沙福?。⊿urflon)SC-102、沙福隆（Surflon)SC-103、沙福?。⊿urflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福?。⊿urflon)SC-106(旭硝子（股）制造），艾福拓(Eftop)EF351、艾福拓（Eftop)EF352、艾福拓（Eftop)EF801、艾福拓（Eftop)EF802(三菱材料電子化成（股）制造），福吉特(Ftergent)250(尼奧斯(Neos)(股）制造）。另外，除了所述以外，也可舉出：KP(信越化學工業(yè)(股）制造），寶理弗洛(Polyflow)(共榮社化學（股）制造），艾福拓(Eftop)(三菱材料電子化成（股）制造），美佳法（Megafac)(迪愛生（DIC)(股）制造），弗拉德(Fluorad)(住友3M(股）制造），旭嘉德(AsahiGuard)、沙福?。⊿urfIon)(旭硝子(股）制造），寶理佛斯(P〇lyFox)(歐諾瓦(0MN0VA)公司制造)等的各系列。[0312]另外，表面活性劑也可舉出日本專利特開2014-238438號公報的段落0119~段落0123中所記載的化合物作為優(yōu)選例。[0313]關(guān)于本發(fā)明的感光性組合物中的表面活性劑的含量，在進行調(diào)配的情況下，相對于組合物的總固體成分而言，優(yōu)選0.001質(zhì)量％~5.0質(zhì)量％，更優(yōu)選0.01質(zhì)量％~2.0質(zhì)量％。[0314]界面活性劑可僅含有一種，也可含有兩種以上。在含有兩種以上的情況下，優(yōu)選其合計量成為所述范圍。[0315]〈抗氧化劑〉[0316]本發(fā)明的感光性組合物除了所述成分以外，也可含有抗氧化劑。[0317]關(guān)于抗氧化劑，可含有眾所周知的抗氧化劑。通過添加抗氧化劑，有可防止硬化膜的著色、或可減少由分解所致的膜厚變薄、且耐熱透明性優(yōu)異的優(yōu)點。[0318]這種抗氧化劑例如可舉出：磷系抗氧化劑、酰胺類、酰肼類、受阻酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。這些化合物中，從硬化膜的著色、膜厚變薄的觀點來看，特別優(yōu)選受阻酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑，最優(yōu)選受阻酚系抗氧化劑。這些抗氧化劑可單獨使用一種，也可混合兩種以上。[0319]優(yōu)選的市售品可舉出：艾迪科斯塔波（4(^1^8〖&13)40-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)A0_80(以上為艾迪科(ADEKA)(股）制造），艷佳諾（Irganox)1098(以上為巴斯夫(BASF)公司制造）。[0320]抗氧化劑的含量并無特別限制，相對于感光性組合物的總固體成分，優(yōu)選0.1質(zhì)量％~10質(zhì)量％，更優(yōu)選0.2質(zhì)量％~5質(zhì)量％，進而優(yōu)選0.5質(zhì)量％~4質(zhì)量％。[0321]本發(fā)明的感光性組合物中，也可在不偏離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)含有所述以外的其他化合物(例如含有烷氧基甲基的化合物等）。含有烷氧基甲基的化合物可舉出日本專利特開2011-221494號公報的段落0192~段落0194中記載的化合物。[0322][其他成分][0323]本發(fā)明的感光性組合物中，視需要除了所述化合物以外，也可添加具有環(huán)氧基的化合物、具有氧雜環(huán)丁基的化合物、塑化劑、熱酸產(chǎn)生劑、及酸增殖劑等其他成分。關(guān)于這些成分，例如可使用日本專利特開2014-235216號公報的段落0102~段落0104、日本專利特開2014-235216號公報的段落0106~段落0108、日本專利特開2009-98616號公報、日本專利特開2009-244801號公報中記載的化合物、其他眾所周知的化合物。另外，也可將"高分子添加劑的新展開（日刊工業(yè)新聞（股）)"中記載的各種紫外線吸收劑或金屬鈍化劑等添加到本發(fā)明的感光性組合物中。[0324]〈硬化膜、硬化物及其制造方法〉[0325]本發(fā)明的硬化物為使本發(fā)明的感光性組合物硬化而成的硬化物。所述硬化物優(yōu)選硬化膜。另外，本發(fā)明的硬化膜優(yōu)選通過本發(fā)明的硬化膜的制造方法而得的硬化膜。[0326]本發(fā)明的硬化膜的制造方法只要為使本發(fā)明的感光性組合物硬化而制造硬化膜的方法，則并無特別限制，優(yōu)選依序包括以下的工序1~工序3。[0327]工序1:將本發(fā)明的感光性組合物涂布在基板上的涂布工序[0328]工序2:利用光化射線對經(jīng)涂布的感光性組合物的至少一部分進行曝光的曝光工序[0329]工序3:利用水性顯影液對經(jīng)曝光的感光性組合物進行顯影的顯影工序[0330]另外，本發(fā)明的硬化膜的制造方法更優(yōu)選在以上的工序3之后包括以下的工序4。[0331]工序4:對經(jīng)顯影的感光性組合物進行熱處理的熱處理工序[0332]進而，本發(fā)明的硬化膜的制造方法進而優(yōu)選在以上的工序3之后、工序4之前包括以下的工序3\[0333]工序:對經(jīng)顯影的感光性組合物進一步照射光化射線的工序[0334]所述涂布工序中，優(yōu)選的是將本發(fā)明的感光性組合物涂布在基板上而制成含有溶劑的濕潤膜。可在將感光性組合物涂布到基板上之前，進行堿清洗或等離子體清洗等基板的清洗。進而可在基板清洗后利用六甲基二硅氮烷等對基板表面進行處理。通過進行該處理，有感光性組合物對基板的密接性提高的傾向。[0335]所述基板可舉出:無機基板、樹脂、樹脂復合材料等。[0336]無機基板例如可舉出：玻璃、石英、硅、氮化硅及在像這些基板上蒸鍍鉬、鈦、鋁、銅等而成的復合基板。[0337]關(guān)于樹脂，可舉出包含以下樹臘的基板:聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酷、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚環(huán)烯烴、降冰片烯樹脂、聚氯三氟乙烯等氟樹脂、液晶聚合物、丙烯酸系樹脂、環(huán)氧樹脂、硅酮樹脂、離子聚合物樹脂、氰酸酯樹脂、交聯(lián)富馬酸二酯、環(huán)狀聚烯烴、芳香族聚醚樹脂、馬來酰亞胺-烯烴共聚物、纖維素、環(huán)硫樹脂等合成樹脂。[0338]這些基板很少以所述形態(tài)直接使用，通常根據(jù)最終產(chǎn)品的形態(tài)而形成例如薄膜晶體管(ThinFilmTransistor，TFT)元件那樣的多層積層結(jié)構(gòu)。[0339]另外，在外嵌結(jié)構(gòu)的觸摸屏等那樣的情況下，也可在作為屏而暫且制成的液晶顯不器（LiquidCrystalDisplay，LCD)單元或有機發(fā)光二極管（OrganicLightEmittingDiode，0LED)單元上，應用本發(fā)明的感光性組合物。[0340]本發(fā)明的感光性組合物對通過濺鍍制造出來的金屬膜或金屬氧化物的密接良好，因此基板優(yōu)選的是含有通過濺鍍制造出來的金屬膜。金屬優(yōu)選鈦、銅、鋁、銦、錫、錳、鎳、鈷、鉬、鎢、鉻、銀、釹及這些金屬的氧化物或合金，進而優(yōu)選鉬、鈦、鋁、銅及這些金屬的合金。此外，金屬或金屬氧化物可單獨使用一種，也可并用多種。[0341]對基板的涂布方法并無特別限定，例如可使用噴墨法、狹縫涂布法、噴霧法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法、流延涂布法、狹縫及旋轉(zhuǎn)法、印刷法等方法。[0342]另外，在本發(fā)明的感光性組合物含有溶劑的情況下，本發(fā)明的硬化膜的制造方法優(yōu)選在工序1之后、工序2之前包含從經(jīng)涂布的感光性組合物去除溶劑的溶劑去除工序。[0343]在所述溶劑去除工序中，優(yōu)選的是通過減壓(真空）和/或加熱等從所涂布的所述膜中去除溶劑而在基板上形成干燥涂膜。溶劑去除工序的加熱條件優(yōu)選70°C~130°C且30秒鐘~300秒鐘左右。另外，所述溶劑去除工序中，無需將感光性組合物中的溶劑完全去除，只要將至少一部分去除即可。[0344]所述曝光工序中，優(yōu)選的是對所得的涂膜以既定的圖案狀照射波長300nm以上且450nm以下的光化射線。所述工序中，聚合性單體通過光聚合引發(fā)劑的作用而聚合硬化。[0345]曝光光源可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、發(fā)光二極管(LightEmittingDiode，LED)光源、準分子激光產(chǎn)生裝置等，可優(yōu)選地使用i射線（365nm)、h射線（405nm)、g射線（436nm)等具有300nm以上且450nm以下的波長的光化射線。另外，視需要也可通過長波長截止濾波器、短波長截止濾波器、帶通濾波器(bandpassfilter)那樣的分光濾波器而調(diào)整照射光。[0346]曝光裝置可使用：鏡面投影對準器（mirrorprojectionaligner)、步進機(stepper)、掃描儀（scanner)、近接式（proximity)、接觸式（contact)、微透鏡陣列(microlensarray)、透鏡掃描儀(lensscanner)、激光曝光等各種方式的曝光機。[0347]另外，所述曝光工序中的曝光量也無特別限制，優(yōu)選lmj/cm2~3，000mj/cm2，更優(yōu)選lmj/cm2~500mJ/cm2。[0348]從促進硬化的觀點來看，所述曝光工序中的曝光優(yōu)選的是在經(jīng)氧阻斷的狀態(tài)下進行。阻斷氧的方法可例示在氮氣環(huán)境下進行曝光、或設(shè)置氧阻斷膜。[0349]另外，所述曝光工序中的曝光只要對經(jīng)溶劑去除的感光性組合物的至少一部分進行即可，例如可為全面曝光，也可為圖案曝光。本發(fā)明中，曝光工序優(yōu)選圖案曝光，更優(yōu)選經(jīng)由光掩模進行曝光的工序。[0350]另外，所述曝光工序后，可進行曝光后加熱處理（曝光后烘烤（PostExposureBake，以下也稱為"PEB"）。進行PEB的情況的溫度優(yōu)選30°C以上且130°C以下，更優(yōu)選40°C以上且120°C以下，特別優(yōu)選50°C以上且110°C以下。[0351]加熱的方法并無特別限定，可使用眾所周知的方法。例如可舉出加熱板、烘箱、紅外線加熱器等。[0352]另外，關(guān)于加熱時間，加熱板的情況下優(yōu)選1分鐘~30分鐘左右，除此以外的情況下優(yōu)選20分鐘~120分鐘左右。在所述范圍內(nèi)，可不對基板、裝置造成損傷(damage)地進行加熱。[0353]顯影工序中，使用水性顯影液將經(jīng)曝光為圖案狀的感光性組合物的未硬化部顯影去除，形成負型圖像。顯影工序中使用的顯影液優(yōu)選的是堿性的水性顯影液。[0354]顯影工序中使用的顯影液優(yōu)選堿性化合物的水溶液。堿性化合物例如可使用：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬氫氧化物類;碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫等堿金屬碳酸鹽類;重碳酸鈉、重碳酸鉀等堿金屬重碳酸鹽類;氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化二乙基二甲基銨等氫氧化四烷基銨類;膽堿等氫氧化(羥基烷基）三烷基銨類;硅酸鈉、偏硅酸鈉等硅酸鹽類；乙胺、丙胺、二乙胺、三乙胺等烷基胺類;二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類；1，8_二氮雜雙環(huán)[5.4.0]-7_十一烯、1，5_二氮雜雙環(huán)[4.3.0]-5_壬烯等脂環(huán)式胺類。[0355]這些化合物中，優(yōu)選氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、膽堿(氫氧化-2-羥基乙基三甲基銨）。[0356]另外，也可將在所述堿類的水溶液中添加有適當量的甲醇或乙醇等水溶性有機溶劑或者表面活性劑的水溶液用作顯影液。[0357]優(yōu)選的顯影液可舉出氫氧化四甲基銨的0.4質(zhì)量％~2.5質(zhì)量％水溶液。[0358]顯影液的pH值優(yōu)選10.0~14.0。[0359]顯影時間優(yōu)選30秒鐘~500秒鐘，且，顯影的方法可為盛液法(覆液法）、噴淋法、浸漬法等的任一種。[0360]顯影工序后，也可進行淋洗工序。淋洗工序中，以純水等清洗顯影后的基板，由此進行附著的顯影液的去除、顯影殘渣的去除。淋洗方法可使用眾所周知的方法。例如可舉出噴淋淋洗(showerrinse)或浸漬淋洗等。[0361]關(guān)于圖案曝光及顯影，可使用眾所周知的方法或眾所周知的顯影液。例如可合適地使用日本專利特開2011-186398號公報、日本專利特開2013-83937號公報中記載的圖案曝光方法及顯影方法。[0362]另外，從提高膜硬度的觀點來看，在顯影工序后、熱處理工序前，優(yōu)選的是包括對經(jīng)顯影的感光性組合物進一步照射光化射線的工序(后曝光）。[0363]所述情況下，優(yōu)選的是利用水銀燈或LED燈等進行50mJ/cm2~3,000mJ/cm2左右的能量曝光。另外，后曝光優(yōu)選的是進行全面曝光。[0364]通過進行后曝光，可進一步促進膜的硬化反應，膜硬度提高。[0365]本發(fā)明的硬化膜的制造方法優(yōu)選的是在所述顯影工序后，包括對經(jīng)顯影的感光性組合物進行熱處理的工序(后烘烤）。通過在對本發(fā)明的感光性組合物進行顯影后進行熱處理，可獲得強度更優(yōu)異的硬化膜。[0366]熱處理溫度優(yōu)選180°C以下，更優(yōu)選150°C以下，進而優(yōu)選130°C以下。下限值優(yōu)選80°C以上，更優(yōu)選90°C以上。加熱的方法并無特別限定，可使用眾所周知的方法。例如可舉出加熱板、烘箱、紅外線加熱器等。[0367]另外，關(guān)于加熱時間，加熱板的情況下優(yōu)選1分鐘~30分鐘左右，除此以外的情況下優(yōu)選20分鐘~120分鐘左右。在所述范圍內(nèi)，可不對基板、裝置造成損傷地進行硬化。[0368]另外，所述本發(fā)明的硬化膜的制造方法中的由光和/或熱所致的硬化可連續(xù)進行，也可依序進行。[0369]另外，在進行熱處理時，通過在氮氣環(huán)境下進行處理，可進一步提高透明性。[0370]從加熱后的形狀調(diào)整的觀點來看，也可在熱處理工序（后烘烤)之前，在相對較低的溫度下進行烘烤后進行熱處理工序(追加中烘烤工序）。例如可例示首先在90°C下加熱30分鐘（中烘烤）、之后在120°C下加熱30分鐘（后烘烤)的方法等。另外，也可將中烘烤、后烘烤分為三個階段以上的多階段來進行加熱。通過設(shè)置這種中烘烤、后烘烤，可調(diào)整圖案的錐角。這些加熱可使用加熱板、烘箱、紅外線加熱器等眾所周知的加熱方法。[0371]本發(fā)明的硬化膜為使本發(fā)明的感光性組合物硬化而獲得的硬化膜[0372]本發(fā)明的硬化膜可合適地用作外涂膜(保護膜)或?qū)娱g絕緣膜。另外，本發(fā)明的硬化膜優(yōu)選的是通過本發(fā)明的硬化膜的制造方法所得的硬化膜。[0373]通過本發(fā)明的感光性組合物，即便在低溫下硬化也可獲得具有充分硬度的硬化膜。例如可獲得鉛筆硬度為2H以上的硬化膜。使本發(fā)明的感光性組合物硬化而形成的保護膜由于硬化膜物性優(yōu)異，因此在觸摸屏、觸摸屏顯示裝置、有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置等的用途中有用。其中，本發(fā)明的硬化膜優(yōu)選的是觸摸屏配線用保護膜，特別優(yōu)選的是外嵌結(jié)構(gòu)觸摸屏中的配線用保護膜。[0374]本發(fā)明的感光性組合物由于硬化性及硬化膜特性優(yōu)異，因此是作為微機電系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystems，MEMS)用器件的結(jié)構(gòu)構(gòu)件，將使本發(fā)明的感光性組合物硬化而成的硬化物或抗蝕劑圖案作為隔離壁，或作為機械驅(qū)動零件的一部分組入而使用。這種MEMS用器件例如可舉出：表面聲波（SurfaceAcousticWave，SAW)濾波器、體聲波(BulkAcousticWave，BAW)濾波器、陀螺傳感器（gyrosensor)、顯示器用微快門(microshutter)、圖像傳感器(imagesensor)、電子紙、噴墨頭、生物芯片(Bio-chip)、密封劑等零件。更具體的例子是例示在日本專利特表2007-522531號公報、日本專利特開2008-250200號公報、日本專利特開2009-263544號公報等中。[0375]本發(fā)明的感光性組合物由于平坦性或透明性優(yōu)異，因此也可用于形成例如日本專利特開2011-107476號公報的圖2中記載的岸堤(bank)層（16)及平坦化膜(57)、日本專利特開2010-9793號公報的圖4(a)中記載的隔離壁（12)及平坦化膜（102)、日本專利特開2010-27591號公報的圖10中記載的岸堤層（221)及第3層間絕緣膜（216b)、日本專利特開2009-128577號公報的圖4(a)中記載的第2層間絕緣膜（125)及第3層間絕緣膜（126)、日本專利特開2010-182638號公報的圖3中記載的平坦化膜（12)及像素分離絕緣膜（14)等。除此以外，也可合適地用于液晶顯示裝置中用來將液晶層保持于一定厚度的間隔件（spacer)、液晶顯示裝置的彩色濾光片或彩色濾光片保護膜、傳真機(facsimile)、電子復印機、固體撮像元件等的芯片上彩色濾光片(on-chipcolorfilter)的成像光學系統(tǒng)或光纖連接器的微透鏡(microlens)〇[0376]〈有機EL顯示裝置〉[0377]本發(fā)明的有機EL顯示裝置具有本發(fā)明的硬化膜。[0378]本發(fā)明的有機EL顯示裝置除了具有使用所述本發(fā)明的感光性組合物所形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，并無特別限制，可舉出采用各種結(jié)構(gòu)的眾所周知的各種有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置。[0379]例如，本發(fā)明的有機EL顯示裝置所具有的TFT(Thin-FilmTransistor)的具體例可舉出：非晶硅-TFT、低溫多晶硅-TFT、氧化物半導體TFT等。本發(fā)明的硬化膜由于電特性優(yōu)異，因此可組合到這些TFT中而優(yōu)選地使用。[0380]圖1為有機EL顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。且表示底部發(fā)光型的有機EL顯示裝置中的基板的示意性截面圖，具有平坦化膜4。[0381]在玻璃基板6上形成底部柵極型的TFT1，以覆蓋該TFT1的狀態(tài)而形成包含Si3N4的絕緣膜3。在絕緣膜3中形成這里省略圖示的接觸孔后，在絕緣膜3上形成經(jīng)由該接觸孔而連接于TFT1的配線2(高度1.0_)。配線2是用來將TFT1間連接、或?qū)⒑罄m(xù)工序中形成的有機EL元件與TFT1連接的配線。[0382]進而，為了使因形成配線2所致的凹凸平坦化，以嵌埋由配線2所致的凹凸的狀態(tài)在絕緣膜3上形成平坦化膜4。[0383]在平坦化膜4上，形成有底部發(fā)光型的有機EL元件。即，在平坦化膜4上，經(jīng)由接觸孔7與配線2連接而形成包含IT0的第一電極5。另外，第一電極5相當于有機EL元件的陽極。[0384]形成覆蓋第一電極5的邊緣的形狀的絕緣膜8,通過設(shè)置該絕緣膜8,可防止第一電極5與其后續(xù)工序中形成的第二電極之間的短路。[0385]進而，圖1中雖未圖示，但可隔著所需的圖案掩模依序蒸鍍設(shè)置空穴傳輸層、有機發(fā)光層、電子傳輸層，然后在基板上方的整個面上形成包含A1的第二電極，使用密封用玻璃板及紫外線硬化型環(huán)氧樹脂進行貼合，由此進行密封，獲得對各有機EL元件連接用來驅(qū)動該有機EL元件的TFI1而成的有源矩陣型有機EL顯示裝置。[0386]〈液晶顯示裝置〉[0387]本發(fā)明的液晶顯示裝置具有本發(fā)明的硬化膜。[0388]本發(fā)明的液晶顯示裝置除了具有使用所述本發(fā)明的感光性組合物所形成的保護膜、平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，并無特別限制，可舉出采用各種結(jié)構(gòu)的眾所周知的液晶顯示裝置。[0389]另外，本發(fā)明的液晶顯示裝置可取的液晶驅(qū)動方式可舉出：扭轉(zhuǎn)向列（TwistedNematic，TN)方式、垂直排列（VerticalA1ignment，VA)方式、面內(nèi)切換（In-Place-Switching，IPS)方式、邊緣場切換(FringeFieldSwitching，F(xiàn)FS)方式、光學補償彎曲(OpticallyCompensatedBend，0CB)方式等。[0390]在屏構(gòu)成中，在彩色濾光片陣列（ColorFilteronArray，C0A)方式的液晶顯示裝置中也可使用本發(fā)明的硬化膜，例如可用作日本專利特開2005-284291號公報的有機絕緣膜（115)、或日本專利特開2005-346054號公報的有機絕緣膜(212)。另外，本發(fā)明的液晶顯示裝置可取的液晶取向膜的具體取向方式可舉出摩擦取向法、光取向法等。另外，也可通過日本專利特開2003-149647號公報或日本專利特開2011-257734號公報中記載的聚合物支持取向（PolymerSustainedAlignment，PSA)技術(shù)來進行聚合物取向支持。[0391]另外，本發(fā)明的感光性組合物及本發(fā)明的硬化膜不限定于所述用途，可用于各種用途。例如除了平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，也可合適地用于保護膜、或液晶顯示裝置中用來將液晶層保持于一定厚度的間隔件或固體撮像元件中設(shè)置在彩色濾光片上的微透鏡等。[0392]圖2為表示有源矩陣方式的液晶顯示裝置10的一例的概念性截面圖。該彩色液晶顯示裝置10為在背面上具有背光單元12的液晶屏，并且液晶屏中，配置著與在貼附著偏光膜的2片玻璃基板14、玻璃基板15之間配置的所有像素相對應的TFT16的元件。對于形成在玻璃基板上的各元件，通過硬化膜17中形成的接觸孔18而將形成像素電極的IT0透明電極19配線。在IT0透明電極19上，設(shè)有液晶20的層及配置有黑色矩陣的紅綠藍（RedGreenBlue，RGB)彩色濾光片22。[0393]背光的光源并無特別限定，可使用眾所周知的光源。例如可舉出：白色LED、藍色?紅色?綠色等的多色LED、熒光燈(冷陰極管）、有機EL等。[0394]另外，液晶顯示裝置可設(shè)定為三維（threedimensional，3D)(立體視）型，也可設(shè)定為觸摸屏型。進而也可設(shè)定為軟性型，可用作日本專利特開2011-145686號公報中記載的第2層間絕緣膜(48)、或日本專利特開2009-258758號公報中記載的層間絕緣膜(520)。[0395]〈觸摸屏及觸摸屏顯示裝置〉[0396]本發(fā)明的觸摸屏為絕緣層和/或保護層的全部或一部分包含本發(fā)明的感光性組合物的硬化物的觸摸屏。另外，本發(fā)明的觸摸屏優(yōu)選的是至少具有透明基板、電極及絕緣層和/或保護層。[0397]本發(fā)明的觸摸屏顯示裝置優(yōu)選的是具有本發(fā)明的觸摸屏的觸摸屏顯示裝置。本發(fā)明的觸摸屏可為電阻膜方式、靜電電容方式、超聲波方式、電磁感應方式等眾所周知的方式的任一種。其中，優(yōu)選靜電電容方式。[0398]靜電電容方式的觸摸屏可舉出日本專利特開2010-28115號公報中公開的觸摸屏、或國際公開第2012/057165號中公開的觸摸屏。其他觸摸屏可舉出：所謂內(nèi)嵌（in-cell)型(例如日本專利特表2012-517051號公報的圖5、圖6、圖7、圖8)、所謂外嵌型（例如日本專利特開2013-168125號公報的圖19、日本專利特開2012-89102號公報的圖1或圖5)、單片式玻璃觸控面板(OneGlassSolution，0GS)型或覆蓋層觸摸(TouchonLens，T0L)型（例如日本專利特開2013-54727號公報的圖2、日本專利特開2015-15042號公報的圖2、圖3、圖4、圖5)、其他構(gòu)成(例如日本專利特開2013-164871號公報的圖6)、各種外掛(out-cell)型(所謂GG、所謂G1?G2、所謂GFF、所謂GF2、所謂GF1、所謂G1F等）。[0399]另外，圖3表示具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的一例的構(gòu)成概念圖。[0400]例如，本發(fā)明的硬化膜適合應用于圖3中的各層之間的保護膜，且，也適合應用于將觸摸屏的檢測電極間隔開的層間絕緣膜。此外，觸摸屏的檢測電極優(yōu)選銀、銅、鋁、鈦、鉬、及這些金屬的合金。[04011圖3中，110表示像素基板，140表示液晶層，120表示相向基板，130表示傳感部。像素基板110從圖3的下側(cè)開始依序具有偏光板111、透明基板112、共通電極113、絕緣層114、像素電極115、取向膜116。相向基板120從圖3的下側(cè)開始依序具有取向膜121、彩色濾光片122、透明基板123。傳感部130分別具有相位差膜124、接著層126、偏光板127。另外，圖3中，125為傳感用檢測電極。本發(fā)明的硬化膜可用于像素基板部分的絕緣層114(也稱為層間絕緣膜)或各種保護膜(未圖示）、像素基板部分的各種保護膜(未圖示）、相向基板部分的各種保護膜(未圖示）、傳感部分的各種保護膜(未圖示)等。[0402]進而，即便在靜態(tài)驅(qū)動方式的液晶顯示裝置中，也可通過應用本發(fā)明而顯示設(shè)計性高的圖案。關(guān)于其例子，可應用本發(fā)明作為日本專利特開2001-125086號公報中記載那樣的聚合物網(wǎng)路型液晶的絕緣膜。[0403]另外，圖4為具有觸摸屏的功能的液晶顯示裝置的另一例的構(gòu)成概念圖。[0404]觸摸屏顯示裝置包含：下部顯示板200,具備薄膜晶體管（TFT)440,相當于薄膜晶體管顯示板;上部顯示板300,與下部顯示板200相向，在與下部顯示板200相向的面上具備多個彩色濾光片330,相當于彩色濾光片顯示板；以及液晶層400,形成在下部顯示板200與上部顯示板300之間。液晶層400含有液晶分子(未圖示）。[0405]下部顯示板200包含第1絕緣基板210、配置在第1絕緣基板210上的薄膜晶體管(TFT)、形成在薄膜晶體管(TFT)的上表面上的絕緣膜280、及配置在絕緣膜280上的像素電極290。薄膜晶體管(TFT)可含有柵極電極220、覆蓋柵極電極220的柵極絕緣膜240、半導體層250、歐姆接觸層260、歐姆接觸層262、源極電極270及漏極電極272。[0406]絕緣膜280中，以薄膜晶體管(TFT)的漏極電極272露出的方式形成有接觸孔282。[0407]上部顯示板300包含：配置在第2絕緣基板310的一個面上且以矩陣狀排列的遮光構(gòu)件320、配置在第2絕緣基板310上的取向膜350、配置在取向膜上的彩色濾光片330、及配置在彩色濾光片330上且與下部顯示板200的像素電極290相對應而對液晶層400施加電壓的共通電極370。[0408]在圖4所示的液晶顯示裝置中，在第2絕緣基板310的另一面上配置傳感電極410、絕緣膜420、驅(qū)動電極430及絕緣膜280。像這樣，在圖4所示的液晶顯示裝置的制造中，在形成上部顯示板300時，可一起形成作為觸控屏（touchscreen)的構(gòu)成要素的傳感電極410、絕緣膜420及驅(qū)動電極430等。尤其使本發(fā)明的感光性組合物硬化而成的硬化膜可合適地用于絕緣膜280或絕緣膜420。[0409][實施例][0410]以下舉出實施例對本發(fā)明加以更具體說明。以下的實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等只要不偏離本發(fā)明的主旨，則可適當變更。因此，本發(fā)明的范圍不限定于以下所示的具體例。此外，只要無特別說明，則"份"為質(zhì)量基準。[0411]〈化合物l(C-l)的合成〉[0412][化合物A的合成][0413]將乙基咔唑（100.08,0.512111〇1)溶解在2601111的氯苯中，冷卻到0°(：后，添加氯化鋁(70.38,0.527!11〇1)。然后，用40分鐘滴加鄰甲苯酰氯(81.58,0.527111〇1)，升溫到室溫(25°(：，以下相同）并攪拌3小時。然后，冷卻到0°C后，添加氯化鋁(75.18,0.563111〇1)。用40分鐘滴加4_氯丁酰氯(79.48,0.563111〇1)，升溫到室溫并攪拌3小時。將1561111的35質(zhì)量％的鹽酸水溶液與392ml的蒸餾水的混合溶液冷卻到0°C，滴加反應溶液。將析出的固體抽吸過濾后，以蒸餾水及甲醇進行清洗，以乙腈進行再結(jié)晶后，獲得下述結(jié)構(gòu)的化合物A(產(chǎn)量164.4g，產(chǎn)率77%)。[0416][化合物B的合成][0417]將所述獲得的化合物六(20.(^，47.9臟〇1)溶解在641111的四氫呋喃(1'冊）中，添加4-氯苯硫醇（7?27g，50?2mmol)及碘化鈉（0?7g，4.79mmol)。然后在反應液中添加氫氧化鈉(2.(^，50.2臟〇1)，回流2小時。然后冷卻到0°(：后，用20分鐘滴加31-28(11.18,57.4111111〇1，甲氧化鈉的28%甲醇溶液，和光純藥工業(yè)(股）制造），升溫到室溫并攪拌2小時。然后冷卻到0°C后，用20分鐘滴加亞硝酸異戊酯(6.73g，57.4mmol)，升溫到室溫并攪拌3小時。將反應液稀釋至120ml丙酮中，滴加到經(jīng)冷卻至0°C的0.1N鹽酸水溶液中。將析出的固體抽吸過濾后，以蒸餾水清洗。然后以乙腈進行再結(jié)晶，獲得下述結(jié)構(gòu)的化合物B(產(chǎn)量17.0g，產(chǎn)率64%)。[0420][化合物1的合成][0421]將化合物B(18.0g，32.4mmol)溶解在90ml的N-甲基吡咯烷酮(NMP)中，添加三乙胺(￡七必，3.948,38.9!11111〇1)。然后冷卻到0°(：后，用20分鐘滴加乙酰氯以(^1，3.058,38.9_〇1)后，升溫到室溫并攪拌2小時。將反應液滴加到150ml的經(jīng)冷卻至0°C的蒸餾水中，將析出的固體抽吸過濾后，以200ml的經(jīng)冷卻至0°C的異丙醇清洗，加以干燥后，獲得化合物1(產(chǎn)量19.5g，產(chǎn)率99%)。[0422][化16][0424]另外，所得的化合物1的結(jié)構(gòu)是利用核磁共振(NuclearMagneticResonance，NMR)來鑒定。[0425]4-匪1?(40011^，0)(：13):8=8.86(8，11〇,8.60(8，11〇,8.31((1，111，了=8.0抱），8.81(d，lH，J=8.0Hz)，7.51-7.24(m，10H)，7.36(q，2H，7.4Hz)，3.24-3.13(m，4H)，2.36(s，3H)，2.21(s，3H)，1.50(t，3H，7.4Hz)。[0426]實施例及比較例中使用的各成分如以下所述。[0427](成分A:分子內(nèi)具有三個以上的（甲基）丙烯?；c一個以上的羧基的聚合性單體）[0428]A-1:亞羅尼斯(Aronix)T0-2359(東亞合成（股）制造）、具有羧基的五官能丙烯酸酯化合物、下述化合物a_l[0429]A-2:亞羅尼斯(Aronix)M-510(東亞合成(股）制造）、具有羧基的三官能丙烯酸酷化合物、下述化合物a-2[0430]A-3:具有羧基的七官能丙烯酸酯化合物、下述化合物a-3[0431]A'-K比較例）：亞羅尼斯(Aronix)M-5300(東亞合成(股）制造）、《-羧基-聚己內(nèi)酯（n2_)單丙稀酸酯、一官能[0432][化17][0434](成分B:分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w）[0435]B-1:二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA，日本化藥(股)制造）、六官能[0436]B-2:季戊四醇四丙烯酸酯(A-TMMT，新中村化學工業(yè)(股)制造）、四官能[0437]B-3:三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(M309,東亞合成(股）制造）、三官能[0438]B-4:NK寡聚（NK0LIG0)U-15HA(新中村化學工業(yè)(股）制造）、十五官能[0439]B-5:UA-306H(共榮社化學(股)制造）、六官能[0440]B'-K比較例）：1，9_壬二醇二丙烯酸酯(A-N0D-N，新中村化學工業(yè)(股）制造）、二官能[0441](成分C:光聚合引發(fā)劑）[0442]C-1:化合物1(合成品，參考所述）、肟酯化合物[0443]C-2:艷佳固（IRGACURE)0XE-01(巴斯夫(BASF)公司制造）、肟酯化合物、下述結(jié)構(gòu)[0444]C-3:艷佳固（IRGACURE)0XE-02(巴斯夫(BASF)公司制造）、肟酯化合物、下述結(jié)構(gòu)[0447](成分D:羥甲基化合物）[0448]D-1:尼卡拉庫(NIKALAC)MX-270(三和化學(股)制造，下述化合物）[0449]D-2:尼卡拉庫(NIKALAC)MW-IOOLM(三和化學(股)制造，下述化合物）[0450]D-3:尼卡拉庫(NIKALAC)MX-280(三和化學(股）制造，下述化合物）[0451]D-4:尼卡拉庫(NIKALAC)MX-290(三和化學(股)制造，下述化合物）[0452]D'-l:三嗪[0455](成分E:聚合抑制劑）[0456]E-1:吩噻嗪（東京化成工業(yè)(股)制造）[0457]E-2:吩噁嗪（東京化成工業(yè)(股)制造）[0458](成分F:烷氧基硅烷化合物）[0459]SC-l:KBM-403(3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，信越化學工業(yè)(股)制造）[0460]SC-2:KBM-5103(3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，信越化學工業(yè)(股)制造）[0461](成分G:無機粒子）[0462]G-l:PMA-ST(日產(chǎn)化學工業(yè)(股)制造），二氧化硅粒子，平均粒徑10nm~15nm[0463]G-2:MIBK-ST-L(日產(chǎn)化學工業(yè)（股）制造），二氧化硅粒子，平均粒徑40nm~50nm(溶劑）[0464]S-1:丙二醇單甲醚乙酸酯(大賽璐(Daicel)(股)制造）[0465]S-2:甲基乙二醇（大賽璐(Daicel)(股）制造）[0466]S-3:l，3_丙二醇二乙酸酯(大賽璐(Daicel)(股)制造）[0467]S-4:四氫糠醇(關(guān)東化學(股)制造）[0468](表面活性劑）[0469]W-1:美佳法(Megafac)F554(迪愛生(DIC)(股)制造，氟系表面活性劑）[0470](其他成分）[0471]〈粘合劑聚合物〉[0472]P-1:莊克麗(J〇ncryl)581(巴斯夫(BASF)公司制造，羥基改性丙烯酸系聚合物）[0473]P-2:日本專利第5201066號公報中記載的聚合物A-1[0474]〈增感色素〉[0475]1-1:DBA(川崎化成工業(yè)(股）制造，下述結(jié)構(gòu)的二丁氧基蒽）[0476][化20][0478](實施例1~實施例92、及比較例1~比較例14)[0479]〈感光性組合物的制備〉[0480]像下述表1~表4中記載那樣，將各成分調(diào)配?攪拌而制成溶劑的溶液和/或分散液，利用孔徑〇.3wii的聚四氟乙烯制過濾器進行過濾，分別獲得實施例1~實施例92及比較例1~比較例14的各感光性組合物。下述表1~表4的各成分的添加量的單位為質(zhì)量份。[0481]另外，表中的的記載是指并不含有符合條件的成分。[0482]使用所得的各感光性組合物進行以下的評價。將評價結(jié)果示于表1~表4中。[0483]〈圖案化性的評價〉[0484]將玻璃基板(伊格爾(EAGLE)XG，0.7mm厚(康寧（Corning)公司制造））在六甲基二硅氮烷(HMDS)蒸氣下暴露30秒鐘，旋涂涂布各負型感光性樹脂組合物后，在90°C下在加熱板上預烘烤120秒鐘使溶劑揮發(fā)，形成膜厚3.Own的感光性組合物層。[0485]然后，使用佳能(Canon)(股)制造的MPA5500CF(高壓水銀燈），隔著既定的掩模對所得的感光性組合物層進行曝光。接著，利用堿性顯影液(2.38%的氫氧化四甲基銨水溶液)在23°C下對曝光后的感光性組合物層進行60秒鐘顯影后，以超純水淋洗20秒鐘。將通過這些操作而分辨50mi的孔時的最適i射線曝光量(Eopt)作為感度。[0486]對以分辨各掩模徑的最適當曝光量來制作具有孔圖案的永久膜時的孔徑進行評價。以下的評價中，實孔圖案徑是以抗蝕劑的底部(底面)的尺寸來規(guī)定?？讖脚c掩模徑之差越?。?，掩模線性高），則屏設(shè)計越變?nèi)菀锥鴥?yōu)選。[0487]評價基準如以下所述。[0488]5:掩模徑與實孔圖案徑之比為±10%以內(nèi)[0489]4:掩模徑與實孔圖案徑之比超過±10%、且為±20%以內(nèi)[0490]3:掩模徑與實孔圖案徑之比超過±20%、且為±30%以內(nèi)[0491]2:掩模徑與實孔圖案徑之比超過±30%、且為±40%以內(nèi)[0492]1:掩模徑與實孔圖案徑之比超過±40%[0493]此外，孔徑是將底部(底面)的尺寸規(guī)定為基準。[0494]另外，關(guān)于曝光量，以針對各掩模徑進行分辨的最適當?shù)钠毓饬窟M行曝光。[0495]〈密接性的評價〉[0496]將所述調(diào)配的各組合物旋涂在經(jīng)銅蒸鍍的基板上，在100°C下進行120秒鐘的預烘烤，獲得膜厚2.0M的涂布膜。然后，利用高壓水銀燈進行500mJ/cm2(i射線換算）的光照射，進而利用烘箱在120°C下進行60分鐘烘烤，由此制作硬化膜。對所得的硬化膜利用依據(jù)日本工業(yè)標準（JapaneseIndustrialStandard，JIS)K5600的方法進行100格的交叉切割(cross-cut)試驗，并對密接性進行評價。[0497]另外，將所述調(diào)配的各組合物旋涂在經(jīng)IT0蒸鍍的基板上，對在與上文所述相同的條件下制作的硬化膜，也利用依據(jù)JISK5600的方法進行100格的交叉切割試驗，并對密接性進行評價。以下的評價中，評價等級5、4、3為實用范圍。將評價結(jié)果示于表1~表4。[0498]5:完全未見剝離[0499]4:稍有剝離，剝離的比例小于2%[0500]3:剝離的比例為2%以上且小于5%[0501]2:剝離的比例為5%以上且小于15%[0502]1:剝離的比例為15%以上[0503]〈耐汗性的評價〉[0504]將所述制備的各感光性組合物旋涂在形成有10M1寬的銅配線的玻璃基板上，在90°C下進行120秒鐘的預烘烤，獲得膜厚2.0WI1的涂布膜。然后，利用高壓水銀燈進行500mJ/cm2(i射線換算）的光照射，進而利用烘箱在120°C下進行60分鐘烘烤，由此制作硬化膜，獲得人工汗液耐性評價用試樣。[0505]然后，以JIS標準(Z2371:2000)為參照，使用鹽水噴霧試驗機(須賀試驗機(股)制造的STP-90V2)并將所述試樣載置于試驗槽內(nèi)，以試驗槽溫度35°C、噴霧量1.5mL/h噴霧48小時濃度為50g/L的鹽水(pH=6.7)。噴霧結(jié)束后，擦去鹽水，觀察評價用試樣的表面狀態(tài)，依照以下評分進行評價。[0506]5:保護膜表面完全無變化[0507]4:在保護膜表面發(fā)現(xiàn)極少的痕跡，但銅無變化[0508]3:在保護膜表面發(fā)現(xiàn)痕跡，但銅無變化[0509]2:在保護膜表面存在痕跡，且銅稍微變?yōu)榫G色[0510]1:在保護膜表面存在痕跡，且銅明顯變?yōu)榫G色檢測電極保護膜(絕緣膜420)，分別制作顯示裝置。具體來說，通過以下方式形成保護膜(絕緣膜420):狹縫涂布各實施例中所得的感光性組合物，在90°C下進行120秒鐘的預烘烤，利用高壓水銀燈進行500mJ/cm2(i射線換算）的光照射，進而利用烘箱在120°C下進行60分鐘烘烤。顯示裝置的其他部分是按照日本專利特開2013-168125號公報中作為圖19而記載的制造方法而制作。所制作的顯示裝置的顯示性能、觸摸檢測性能均優(yōu)異。【主權(quán)項】1.一種感光性組合物，其特征在于，含有：作為成分A的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基）丙烯?；c一個以上的羧基的聚合性單體；作為成分B的分子內(nèi)具有三個以上的（甲基)丙烯?；也痪哂恤然木酆闲詥误w；作為成分C的光聚合引發(fā)劑；以及作為成分D的羥甲基化合物;并且所述成分A及所述成分B相對于組合物中的總有機固體成分的總含量為60質(zhì)量％以上，所述成分A相對于所述組合物中的所述成分A及所述成分B的總含量的含量為10質(zhì)量％~50質(zhì)量％。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性組合物，其特征在于，所述成分D相對于所述組合物中的總有機固體成分的含量為0.1質(zhì)量％~20質(zhì)量％。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物，其特征在于，所述成分D相對于所述組合物中的總有機固體成分的含量為1質(zhì)量％~1〇質(zhì)量％。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物，其特征在于，還含有聚合抑制劑作為成分E05.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物，其特征在于，所述成分D為羥甲基三聚氰胺化合物和/或羥甲基脲化合物。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物，其特征在于，還含有烷氧基硅烷化合物作為成分F。7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物，其特征在于，還含有無機粒子作為成分G。8.-種硬化膜的制造方法，其特征在于，至少依序包括工序1~工序3:工序1:將根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物涂布在基板上的涂布工序；工序2:利用光化射線對經(jīng)涂布的所述感光性組合物的至少一部分進行曝光的曝光工序；以及工序3:利用水性顯影液對經(jīng)曝光的所述感光性組合物進行顯影的顯影工序。9.一種硬化膜，其特征在于，是使根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性組合物硬化而成。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜為層間絕緣膜或保護膜。11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜為觸摸屏配線用保護膜。12.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的硬化膜，其特征在于，所述硬化膜為外嵌結(jié)構(gòu)觸摸屏中的配線用保護膜。13.-種觸摸屏，其特征在于，具有根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項所述的硬化膜。14.一種觸摸屏顯示裝置，其特征在于，具有根據(jù)權(quán)利要求9至12中任一項所述的硬化膜。15.-種液晶顯示裝置，其特征在于，具有根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的硬化膜。16.-種有機電致發(fā)光顯示裝置，其特征在于，具有根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的硬化膜?！疚臋n編號】G02F1/1333GK105911817SQ201610086797【公開日】2016年8月31日【申請日】2016年2月16日【發(fā)明人】米澤裕之,崎田享平【申請人】富士膠片株式會社