顯示母板及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示母板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著液晶顯示技術(shù)的發(fā)展，人們對(duì)于顯示產(chǎn)品的需求越來越高，對(duì)種類型號(hào)的要求也多種多樣，其中，MMG(Multi_Model Glass，多模型玻璃)技術(shù)由于將不同尺寸的面板在同一個(gè)母玻璃上做套切，大大提高了玻璃的利用率，因而被越來越多的采用。
[0003]目前，如圖1所示，MMG產(chǎn)品的母板I往往采用大尺寸產(chǎn)品2搭載小尺寸產(chǎn)品3的制作方法，由于產(chǎn)品尺寸的不同，其像素開口也具有顯著差異，而在面板制作過程中，不同尺寸產(chǎn)品由于設(shè)備局限或考慮產(chǎn)能影響均需采用一步工藝形成，這就造成了一些不良，例如，在液晶顯示面板中的彩色濾光層制作過程中，通常首先進(jìn)行R(紅色濾光層)工序，然后再依次進(jìn)行G(綠色濾光層)工序、B(藍(lán)色濾光層)工序，然而，在R(紅色濾光層)工序后，由于其膜厚大于黑矩陣層的厚度，在表面張力影響下，在后續(xù)進(jìn)行其他濾光層的工序(如G工序或B工序)中，涂覆形成的膜層不易擴(kuò)散流平，而由于流平程度與產(chǎn)品的像素開口的尺寸相關(guān)性較大，像素開口越小，在像素開口中形成的膜厚越大，從而造成同一顏色濾光層在不同尺寸產(chǎn)品中的厚度不同，例如，如圖2所示，在B(藍(lán)色濾光層)工序中，由于大尺寸產(chǎn)品2的像素開口的尺寸LI’大于小尺寸產(chǎn)品3的像素開口的尺寸L2’，兩者在同一步的工藝形成時(shí)，涂覆形成的膜層在小尺寸產(chǎn)品中更不易擴(kuò)散流平，從而造成在小尺寸產(chǎn)品中形成的藍(lán)色濾光層的厚度d2，大于大尺寸產(chǎn)品中形成的藍(lán)色濾光層的厚度dl，。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一)要解決的技術(shù)問題
[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是:提供一種顯示母板及其制作方法、顯示裝置，能夠減小MMG產(chǎn)品中不同尺寸產(chǎn)品因像素開口差異造成的相同顏色彩色濾光層的膜厚差異。
[0006](二)技術(shù)方案
[0007]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案提供了一種顯示母板，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的黑矩陣層和彩色濾光層，所述襯底基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述黑矩陣層在所述第一區(qū)域形成的子像素開口區(qū)的尺寸大于所述黑矩陣層在所述第二區(qū)域形成的子像素開口區(qū)域的尺寸，其中，所述第一區(qū)域上還設(shè)置有位于所述黑矩陣層上的擋墻層。
[0008]優(yōu)選地，所述黑矩陣層在所述第一區(qū)域上形成有多列子像素開口區(qū)，且位于同一列的不同子像素開口區(qū)上設(shè)置有相同顏色的彩色濾光層，所述擋墻層包括多條沿列方向延伸的擋墻，且每一條所述沿列方向延伸的擋墻設(shè)置在相鄰的兩列子像素開口區(qū)之間。
[0009]優(yōu)選地，所述多列子像素開口區(qū)包括多列第一子像素開口區(qū)、多列第二子像素開口區(qū)以及多列第三子像素開口區(qū)，所述第一子像素開口區(qū)上設(shè)置有第一顏色的彩色濾光層，所述第二子像素開口區(qū)上設(shè)置有第二顏色的彩色濾光層，所述第三子像素開口區(qū)上設(shè)置有第三顏色的彩色濾光層；
[0010]所述多條沿列方向延伸的擋墻包括設(shè)置在第一子像素開口區(qū)與第二子像素開口區(qū)之間的第一擋墻、設(shè)置在第二子像素開口區(qū)與第三子像素開口區(qū)之間的第二擋墻以及設(shè)置在第三子像素開口區(qū)與第一子像素開口區(qū)之間的第三擋墻；
[0011]其中，所述第一擋墻的線寬大于所述第二擋墻和所述第三擋墻的線寬，所述第一擋墻的高度小于所述第二擋墻和所述第三擋墻的高度。
[0012]優(yōu)選地，對(duì)于所述第一擋墻，其線寬與其下方的黑矩陣的線寬之比為1:3?1:2;
[0013]對(duì)于所述第二擋墻，其線寬與其下方的黑矩陣的線寬之比為1:4?1:3;
[0014]對(duì)于所述第三擋墻，其線寬與其下方的黑矩陣的線寬之比為1:4?1:3。
[0015]優(yōu)選地，所述第一擋墻的高度為0.15um?0.25um，所述第二擋墻的高度為0.2um?
0.3um，第三擋墻的高度為0.2um?0.3um。
[0016]優(yōu)選地，所述擋墻的橫截面形狀為以下的任意一種:正梯形、矩形、三角形、弓形。
[0017]優(yōu)選地，所述黑矩陣層與所述擋墻層為一體結(jié)構(gòu)。
[0018]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括彩膜基板，所述彩膜基板由上述的顯示母板切割而成，且所述彩膜基板包括所述第一區(qū)域。
[0019]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明還提供了一種顯示母板的制作方法，包括在襯底基板形成黑矩陣層和彩色濾光層，其中，所述襯底基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述黑矩陣層在所述第一區(qū)域形成的子像素開口區(qū)的尺寸大于所述黑矩陣層在所述第二區(qū)域形成的子像素開口區(qū)域的尺寸，其中，在形成彩色濾光層之前還包括:在所述第一區(qū)域上形成位于所述黑矩陣層上的擋墻層。
[0020]優(yōu)選地，所述黑矩陣層在所述第一區(qū)域上形成有多列子像素開口區(qū)；
[0021]所述在所述第一區(qū)域上形成位于所述黑矩陣層上的擋墻層包括:形成多條沿列方向延伸的擋墻，且每一條所述沿列方向延伸的擋墻設(shè)置在相鄰的兩列子像素開口區(qū)之間；
[0022]在襯底基板上形成彩色濾光層包括:在同一列的不同子像素開口區(qū)上形成相同顏色的彩色濾光層。
[0023]優(yōu)選地，所述多列子像素開口區(qū)包括多列第一子像素開口區(qū)、多列第二子像素開口區(qū)以及多列第三子像素開口區(qū)；
[0024]所述多條沿列方向延伸的擋墻包括設(shè)置在第一子像素開口區(qū)與第二子像素開口區(qū)之間的第一擋墻、設(shè)置在第二子像素開口區(qū)與第三子像素開口區(qū)之間的第二擋墻以及設(shè)置在第三子像素開口區(qū)與第一子像素開口區(qū)之間的第三擋墻，其中，所述第一擋墻的線寬大于所述第二擋墻和所述第三擋墻的線寬，所述第一擋墻的高度小于所述第二擋墻和所述第三擋墻的高度；
[0025]所述在襯底基板上形成彩色濾光層包括:
[0026]涂覆第一顏色的光阻材料，對(duì)所述第一顏色的光阻材料進(jìn)行圖案化處理，從而在所述多列第一子像素開口區(qū)形成第一顏色的彩色濾光層；
[0027]涂覆第二顏色的光阻材料，對(duì)所述第二顏色的光阻材料進(jìn)行圖案化處理，從而在所述多列第二子像素開口區(qū)形成第二顏色的彩色濾光層；
[0028]涂覆第三顏色的光阻材料，對(duì)所述第三顏色的光阻材料進(jìn)行圖案化處理，從而在所述多列第三子像素開口區(qū)形成第三顏色的彩色濾光層。
[0029]優(yōu)選地，所述擋墻層與所述黑矩陣層在一次構(gòu)圖工藝中同時(shí)形成。
[0030](三)有益效果
[0031]本發(fā)明提供的顯示母板，通過在子像素開口較大的第一區(qū)域上設(shè)置擋墻層，在制作彩色濾光層時(shí)，通過該擋墻層可以增加光阻涂覆時(shí)流動(dòng)的阻力，進(jìn)而可以減小MMG產(chǎn)品中不同尺寸產(chǎn)品因像素開口差異造成的相同顏色彩色濾光層的膜厚差異。
【附圖說明】
[0032]圖1是現(xiàn)有的MMG產(chǎn)品的示意圖；
[0033]圖2是現(xiàn)有的MMG產(chǎn)品中不同尺寸產(chǎn)品形成的彩色濾光層的示意圖；
[0034]圖3是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種顯示母板的示意圖；
[0035]圖4為圖3中的第一區(qū)域上AA’方向的截面示意圖；
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