一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機。
【背景技術(shù)】
[0002]在平板顯示的TFT (Thin Film Transistor:薄膜晶體管)面板制造制程中，曝光機用于TFT器件圖形的制作，而曝邊機用于將曝光機曝光場以外的基板邊緣光阻去除，因為這些殘留光阻不去除會對后續(xù)設(shè)備的載臺或腔體造成污染，同時，對于目前制程復(fù)雜的LTPS (Low temperature poly silicon:低溫多晶娃)TFT制程，曝光層數(shù)較多，多余邊緣光阻的累積殘留也會造成后續(xù)產(chǎn)品的污染，影響品質(zhì)，所以邊緣曝光去除多余殘留的光阻更顯的尤為重要。
[0003]目前LTPS產(chǎn)線興建，曝光機和曝邊機的市場需求很大，兩臺設(shè)備的職能很單一，分工很明確，但兩臺設(shè)備的成本都很昂貴。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提出一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，在曝光一片玻璃基板的同時，能提供預(yù)對準臺上等待曝光的下一片玻璃基板的邊緣曝光。
[0005]本發(fā)明公開一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:包括框架以及設(shè)置在所述框架上的曝光光源模塊、掩膜臺模塊、鏡筒及物鏡模塊、基板曝光載臺模塊、預(yù)對準臺模塊、機械手模塊和邊緣曝光模塊；所述基板曝光載臺模塊和預(yù)對準臺模塊并排間隔放置；所述鏡筒及物鏡模塊位于所述基板曝光載臺上方；所述掩膜臺模塊位于所述鏡筒及物鏡模塊的上方；所述曝光光源模塊設(shè)置在所述掩膜臺模塊上方；所述邊緣曝光模塊位于所述預(yù)對準臺模塊的上方；所述邊緣曝光模塊包括邊緣曝光光源、光學(xué)鏡組及調(diào)整裝置；在玻璃基板預(yù)對準的同時，邊緣曝光模塊對基板進行邊緣曝光。
[0006]更進一步地，所述邊緣曝光光源與所述曝光光源模塊用同一光源。
[0007]更進一步地，還包括軟件系統(tǒng)，用于實現(xiàn)預(yù)對準及玻璃基板的調(diào)整，邊緣曝光的位置和尺寸的設(shè)定和輸入，以及玻璃基板的場掃描曝光。
[0008]更進一步地，所述光學(xué)鏡組包括振鏡，通過振鏡轉(zhuǎn)動來改變光路的方向。
[0009]更進一步地，還包括分束光學(xué)鏡組，將所述同一光源分束至所述曝光光源模塊和邊緣曝光光源，所述分束光學(xué)鏡組包括反射鏡和半透半反鏡。
[0010]更進一步地，所述鏡筒及物鏡模塊的末端安裝控制擋板。
[0011]更進一步地，所述邊緣曝光采用掩?；驌醢鍋韺崿F(xiàn)。
[0012]本發(fā)明提出的可提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，在玻璃基板進入曝光載臺前的預(yù)對準載臺上就能實現(xiàn)邊緣曝光，使一臺設(shè)備在不增加載臺，不增加體積的情況下，實現(xiàn)兩種功能，能大大降低平板顯示產(chǎn)線的設(shè)備成本并節(jié)約車間設(shè)備占用面積；同時，在前一片玻璃基板曝光的同時，后一片玻璃還同時實現(xiàn)了邊緣曝光，大大節(jié)約了產(chǎn)線制程時間，能明顯縮短制程，提高產(chǎn)率。
【附圖說明】
[0013]關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點與精神可以通過以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進一步的了解。
[0014]圖1為本發(fā)明提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機俯視圖；
圖3為本發(fā)明邊緣曝光系統(tǒng)示意圖；
圖4為本發(fā)明另一個實施例結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖詳細說明本發(fā)明的具體實施例。
[0016]如圖1所示，本發(fā)明提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機包括由光源1、掩模2、物鏡3、基板4以及工件臺5組成的曝光系統(tǒng)，用于光刻曝光。預(yù)對準系統(tǒng)包括預(yù)對準載臺6，預(yù)對準光源及傳感器，基板位置校正裝置9和機械手17，用于玻璃基板的預(yù)對準。還包括位于預(yù)對準載臺6上方，由邊緣曝光光源8，光學(xué)鏡組和光路調(diào)整裝置7和預(yù)對準載臺6組成的邊緣曝光系統(tǒng)，用于邊緣曝光。在玻璃基板預(yù)對準的同時，邊緣曝光系統(tǒng)進行邊緣曝光。
[0017]如圖2所示為本發(fā)明提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機的俯視圖，預(yù)對準基板載臺6在曝光工件臺5的旁邊，邊緣曝光裝置在預(yù)對準載臺6的上方，邊緣曝光裝置包括光源8，以及光學(xué)鏡組和光路調(diào)整裝置7。
[0018]圖3所示為本發(fā)明邊緣曝光裝置結(jié)構(gòu)示意圖，包括邊緣曝光光源8，光學(xué)鏡組和光路調(diào)整裝置7以及預(yù)對準載臺6。邊緣曝光裝置中的光源8可優(yōu)選激光光源，也可選擇其它包括汞燈的燈源。光路從燈源發(fā)出后，經(jīng)過光學(xué)鏡組10的折射或反射到達光路調(diào)整裝置振鏡11，振鏡11可以通過自身的驅(qū)動和調(diào)整裝置18來進行角度轉(zhuǎn)動，這樣，光源及光學(xué)系統(tǒng)在不動的情況下，光路可以隨振鏡的轉(zhuǎn)動來改變方向，從而達到按照設(shè)定位置和尺寸來曝光邊緣的效果。
[0019]本發(fā)明提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機還包括軟件系統(tǒng)，用于實現(xiàn)預(yù)對準及玻璃基板的調(diào)整，邊緣曝光的位置和尺寸的設(shè)定和輸入，以及玻璃基板上光阻的場掃描曝光。
[0020]預(yù)對準，邊緣曝光和場曝光的工藝過程:當一片玻璃基板進入曝光機時，玻璃進行預(yù)對準對位及調(diào)整后，玻璃基板在預(yù)對準載臺上等待場曝光，這時預(yù)對準載臺上方的邊緣曝光裝置開始對該玻璃基板進行邊緣曝光。邊緣曝光時光源通過光學(xué)鏡組入射到振鏡上，振鏡通過自身的控制系統(tǒng)進行角度旋轉(zhuǎn)，這樣可以在載臺不移動的情況下，光路掃描移動進行邊緣曝光。邊緣曝光完成后機械手將其送入場曝光載臺，此時曝光光源開啟，通過光路及透鏡將掩模上的圖形曝光到玻璃基板上，這樣場曝光和邊緣曝光都完成的玻璃基板會進入下一制程。
[0021]在本發(fā)明的另一個實施例中，邊緣曝光與場曝光采用同一光源，如圖4所示。光源1經(jīng)過一分束光學(xué)鏡組12分束，其中一束光作為邊緣曝光光源。分束光學(xué)鏡組12包括反射鏡13和半透半反鏡14。在使用同一光源時，場曝光光路的末端安裝控制擋板15，以便場曝光的時間控制。邊緣曝光采用掩?；驌醢?6來實現(xiàn)。
[0022]在曝光過程中，邊緣曝光光源為場曝光光源分束所得，當玻璃基板進入預(yù)對準載臺，玻璃基板進行預(yù)對準對位及調(diào)整后，光源開啟。此時在預(yù)對準臺光路通過掩模或擋板進行設(shè)置尺寸的邊緣曝光。但此時場曝光光源的末端需要開啟擋板裝置，以防在不需要場曝光時，光線入射到載臺和基板上。然后機械手將玻璃基板送入場曝光載臺，完成正常的對位后，擋板打開，光路及透鏡將掩模上的圖形曝光到玻璃基板上，這樣場曝光和邊緣曝光都完成的玻璃基板會進入下一制程。
本說明書中所述的只是本發(fā)明的較佳具體實施例，以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對本發(fā)明的限制。凡本領(lǐng)域技術(shù)人員依本發(fā)明的構(gòu)思通過邏輯分析、推理或者有限的實驗可以得到的技術(shù)方案，皆應(yīng)在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:包括框架以及設(shè)置在所述框架上的曝光光源模塊、掩膜臺模塊、鏡筒及物鏡模塊、基板曝光載臺模塊、預(yù)對準臺模塊、機械手模塊和邊緣曝光模塊；所述基板曝光載臺模塊和預(yù)對準臺模塊并排間隔放置；所述鏡筒及物鏡模塊位于所述基板曝光載臺上方；所述掩膜臺模塊位于所述鏡筒及物鏡模塊的上方；所述曝光光源模塊設(shè)置在所述掩膜臺模塊上方；所述邊緣曝光模塊位于所述預(yù)對準臺模塊的上方；所述邊緣曝光模塊包括邊緣曝光光源、光學(xué)鏡組及調(diào)整裝置；在玻璃基板預(yù)對準的同時，邊緣曝光模塊對基板進行邊緣曝光。2.如權(quán)利要求1所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:所述邊緣曝光光源與所述曝光光源模塊用同一光源。3.如權(quán)利要求1所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:還包括軟件系統(tǒng)，用于實現(xiàn)預(yù)對準及玻璃基板的調(diào)整，邊緣曝光的位置和尺寸的設(shè)定和輸入，以及玻璃基板的場掃描曝光。4.如權(quán)利要求1所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:所述光學(xué)鏡組包括振鏡，通過振鏡轉(zhuǎn)動來改變光路的方向。5.如權(quán)利要求2所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:還包括分束光學(xué)鏡組，將所述同一光源分束至所述曝光光源模塊和邊緣曝光光源，所述分束光學(xué)鏡組包括反射鏡和半透半反鏡。6.如權(quán)利要求5所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:所述鏡筒及物鏡模塊的末端安裝控制擋板。7.如權(quán)利要求2所述的提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于:所述邊緣曝光采用掩?；驌醢鍋韺崿F(xiàn)。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種提供玻璃基板邊緣曝光的多功能曝光機，其特征在于：包括框架以及設(shè)置在所述框架上的曝光光源模塊、掩膜臺模塊、鏡筒及物鏡模塊、基板曝光載臺模塊、預(yù)對準臺模塊、機械手模塊和邊緣曝光模塊；所述基板曝光載臺模塊和預(yù)對準臺模塊并排間隔放置；所述鏡筒及物鏡模塊位于所述基板曝光載臺上方；所述掩膜臺模塊位于所述鏡筒及物鏡模塊的上方；所述曝光光源模塊設(shè)置在所述掩膜臺模塊上方；所述邊緣曝光模塊位于所述預(yù)對準臺模塊的上方；所述邊緣曝光模塊包括邊緣曝光光源、光學(xué)鏡組及調(diào)整裝置；在玻璃基板預(yù)對準的同時，邊緣曝光模塊對基板進行邊緣曝光。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105372941
【申請?zhí)枴緾N201410429450
【發(fā)明人】李會麗, 林彬, 李志丹
【申請人】上海微電子裝備有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2014年8月28日