述待 形成圖形的襯底基板上的投影對(duì)應(yīng)的圓，所述M為入射光線的垂直系數(shù)。
[0065] 可選的，
[0066] 所述待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為方齒形、鋸齒形、正弦齒形或高斯齒 形。
[0067] 可選的，
[0068] 當(dāng)所述待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為正弦齒形時(shí)，所述目標(biāo)極坐標(biāo)公式 為：
[0069] r ( Θ ) = a[l+ β sin (m Θ )];
[0070] 其中，所述Θ為平面坐標(biāo)系中的χ軸的正半軸到所述待形成的透光區(qū)域的圓心到 邊緣上任意一點(diǎn)的直線的角度，所述r( Θ )為所述待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任意 一點(diǎn)的直線的長(zhǎng)度，所述β為所述待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀的齒長(zhǎng)，所述m為 調(diào)制系數(shù)。
[0071] 第四方面，提供了一種掩膜版的使用方法，所述掩膜版為第三方面所述的掩膜版， 所述方法包括：
[0072] 采用目標(biāo)波長(zhǎng)的入射光線通過(guò)所述掩膜版的透光區(qū)域?qū)Υ纬蓤D形的襯底基板 進(jìn)行曝光，所述目標(biāo)波長(zhǎng)為根據(jù)圓孔菲涅爾衍射光強(qiáng)公式和目標(biāo)極坐標(biāo)公式確定實(shí)際入射 光強(qiáng)的振幅等于初始入射光強(qiáng)的振幅時(shí)的波長(zhǎng)，所述目標(biāo)極坐標(biāo)公式為待形成的透光區(qū)域 的開(kāi)口邊緣的形狀為目標(biāo)齒形時(shí)對(duì)應(yīng)的極坐標(biāo)公式。
[0073] 本發(fā)明提供了一種掩膜版及其制造方法、制造裝置、掩膜版的使用方法，由于該掩 膜版的不透光基板上形成有透光區(qū)域，該透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣呈齒形，相較于現(xiàn)有技術(shù)，透 光區(qū)域到遮光區(qū)域的過(guò)渡更小，入射光線的強(qiáng)度在透光區(qū)域的邊緣分布的均勻度更高，襯 底基板上的圖形的邊緣的清晰度更高，提高了襯底基板上的圖形質(zhì)量，因此，提高了產(chǎn)品的 良率。
[0074] 應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不 能限制本發(fā)明。
【附圖說(shuō)明】
[0075] 為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使 用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于 本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他 的附圖。
[0076] 圖1是現(xiàn)有技術(shù)中一種掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0077] 圖2-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版的制造方法的流程圖；
[0078] 圖2-2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成透光區(qū)域的流程圖；
[0079] 圖2-3是本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版和待形成圖形的襯底基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0080] 圖2-4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種獲取預(yù)設(shè)的區(qū)域形狀參數(shù)的流程圖；
[0081] 圖2-5是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種確定區(qū)域形狀參數(shù)的流程圖；
[0082] 圖2-6是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為方齒形的掩膜 版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0083] 圖2-7是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為鋸齒形的掩膜 版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0084] 圖2-8是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為正弦齒形的掩 膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0085] 圖2-9是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為高斯齒形的掩 膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0086] 圖2-10是圖1所不的掩膜版對(duì)應(yīng)的入射光線的強(qiáng)度的分布不意圖；
[0087] 圖2-11是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版對(duì)應(yīng)的入射光線的強(qiáng)度的分布示意 圖；
[0088] 圖3-1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版的制造裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0089] 圖3-2是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種形成單元的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0090] 圖3-3是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種獲取子單元的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0091] 圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩膜版的使用方法的流程圖。
[0092] 通過(guò)上述附圖，已示出本發(fā)明明確的實(shí)施例，后文中將有更詳細(xì)的描述。這些附圖 和文字描述并不是為了通過(guò)任何方式限制本發(fā)明構(gòu)思的范圍，而是通過(guò)參考特定實(shí)施例為 本領(lǐng)域技術(shù)人員說(shuō)明本發(fā)明的概念。
【具體實(shí)施方式】
[0093] 為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施方 式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0094] 本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜版的制造方法，如圖2-1所示，該方法包括：
[0095] 步驟201、在不透光基板上形成透光區(qū)域，該不透光基板上除透光區(qū)域外的區(qū)域?yàn)?遮光區(qū)域，該透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣呈齒形。
[0096] 綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的掩膜版的制造方法，由于該掩膜版的不透光基板 上形成有透光區(qū)域，該透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣呈齒形，相較于現(xiàn)有技術(shù)，透光區(qū)域到遮光區(qū)域 的過(guò)渡更小，入射光線的強(qiáng)度在透光區(qū)域的邊緣分布的均勻度更高，襯底基板上的圖形的 邊緣的清晰度更尚，提尚了襯底基板上的圖形質(zhì)量，因此，提尚了廣品的良率。
[0097] 可選的，如圖2-2所示，步驟201包括：
[0098] 步驟2011、獲取預(yù)設(shè)的區(qū)域形狀參數(shù)。
[0099] 區(qū)域形狀參數(shù)是根據(jù)圓孔菲涅爾衍射光強(qiáng)公式和極坐標(biāo)公式確定的。極坐標(biāo)公式 用于描述不同齒形的形狀參數(shù)的關(guān)系。其中，區(qū)域形狀參數(shù)包括目標(biāo)齒形的齒長(zhǎng)β和待形 成的透光區(qū)域的開(kāi)口的半徑a。目標(biāo)齒形為待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀，即對(duì)圓形 的開(kāi)口邊緣進(jìn)行調(diào)制后的形狀?？蛇x的，目標(biāo)齒形為方齒形、鋸齒形、正弦齒形或高斯齒形。 示例的，當(dāng)目標(biāo)齒形為方齒形時(shí)，區(qū)域形狀參數(shù)包括方齒形的齒長(zhǎng)β和待形成的開(kāi)口邊緣 為方齒形的透光區(qū)域的開(kāi)口的半徑a ;當(dāng)目標(biāo)齒形為鋸齒形時(shí)，區(qū)域形狀參數(shù)包括鋸齒形 的齒長(zhǎng)β和待形成的開(kāi)口邊緣為鋸齒形的透光區(qū)域的開(kāi)口的半徑a;當(dāng)目標(biāo)齒形為正弦齒 形時(shí)，區(qū)域形狀參數(shù)包括正弦齒形的齒長(zhǎng)β和待形成的開(kāi)口邊緣為正弦齒形的透光區(qū)域 的開(kāi)口的半徑a;當(dāng)目標(biāo)齒形為高斯齒形時(shí)，區(qū)域形狀參數(shù)包括高斯齒形的齒長(zhǎng)β和待形 成的開(kāi)口邊緣為高斯齒形的透光區(qū)域的開(kāi)口的半徑a。而極坐標(biāo)的思想為利用方向和距離 來(lái)確定平面即掩膜版上點(diǎn)的位置。
[0100] 其中，圓孔菲涅爾衍射光強(qiáng)公式為：
[0101]
[0102] Ip為實(shí)際入射光強(qiáng)的振幅，I。為初始入射光強(qiáng)的振幅，D為入射光強(qiáng)的振幅的衰減 系數(shù)，Jc為零階貝塞爾函數(shù)，F(xiàn)為菲涅爾系數(shù)，且F = a 2八λ L)，a為待形成的透光區(qū)域的開(kāi) 口的半徑，L為掩膜版與待形成圖形的襯底基板的距離，λ為入射光線的波長(zhǎng)，p為待形成 圖形的襯底基板上投影圓之外的任意一點(diǎn)到投影圓的距離，投影圓為待形成的透光區(qū)域在 待形成圖形的襯底基板上的投影對(duì)應(yīng)的圓，M為入射光線的垂直系數(shù)。當(dāng)入射光線垂直掩 膜版時(shí)，M = 1。當(dāng)入射光強(qiáng)的振幅衰減系數(shù)D = 1，待形成圖形的襯底基板上投影圓之外 的任意一點(diǎn)到投影圓的距離P =〇時(shí)，即該任意一點(diǎn)為投影圓上的一點(diǎn)，則上述圓孔菲涅 爾衍射光強(qiáng)公式轉(zhuǎn)化為：
[0103] Ip= I 〇 {2~2cos ( π F)}；
[0104] 其中，Ip為實(shí)際入射光強(qiáng)的振幅，I。為初始入射光強(qiáng)的振幅，F(xiàn)為菲涅爾系數(shù)。
[0105] 圖2-3示出了掩膜版001和待形成圖形的襯底基板002的示意圖。其中，0021所 指示的圓為掩膜版001待形成的透光區(qū)域003在待形成圖形的襯底基板002上的投影對(duì)應(yīng) 的圓。P為待形成圖形的襯底基板002上投影圓0021之外的任意一點(diǎn)M到投影圓0021的 距離。L為掩膜版001與待形成圖形的襯底基板002的距離。a為掩膜版001待形成的透 光區(qū)域003的開(kāi)口的半徑。
[0106] 當(dāng)掩膜版上待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為圓形，也就是開(kāi)口邊緣未被調(diào) 制，則目標(biāo)齒形的齒長(zhǎng)β =0。此時(shí)，掩膜版上透光區(qū)域的開(kāi)口滿足圓孔菲涅爾衍射光強(qiáng)公 式。
[0107] 具體的，如圖2-4所示，步驟2011包括：
[0108] 步驟2011a、確定待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣的形狀為目標(biāo)齒形。
[0109] 需要說(shuō)明的是，該目標(biāo)齒形除了可以為方齒形、鋸齒形、正弦齒形或高斯齒形等齒 形外，還可以為其他齒形，本發(fā)明實(shí)施例對(duì)此不作限定。
[0110] 步驟201 lb、獲取目標(biāo)齒形對(duì)應(yīng)的目標(biāo)極坐標(biāo)公式。
[0111] 假設(shè)目標(biāo)齒形上任意一點(diǎn)的極徑即待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任意一點(diǎn) 的直線的長(zhǎng)度為r(0)，其中，Θ為平面坐標(biāo)系中的X軸的正半軸到待形成的透光區(qū)域的圓 心到邊緣上任意一點(diǎn)的直線的角度，則當(dāng)掩膜版的透光區(qū)域的開(kāi)口邊緣為圓形，即開(kāi)口邊 緣無(wú)調(diào)制時(shí)，存在r( Θ ) I e =。= a，又由于p = r( Θ )-a，那么圓孔菲涅爾衍射光強(qiáng)公式又 可以轉(zhuǎn)化為：
[0112]
；
[0113] 其中，Ip為實(shí)際入射光強(qiáng)的振幅，I。為初始入射光強(qiáng)的振幅，J。為零階貝塞爾函 數(shù)，F(xiàn)為菲涅爾系數(shù)，且F = a7( λ L)，a為待形成的透光區(qū)域的開(kāi)口的半徑，L為掩膜版 與待形成圖形的襯底基板的距離，λ為入射光線的波長(zhǎng)，M為入射光線的垂直系數(shù)，Θ為 平面坐標(biāo)系中的X軸的正半軸到待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任意一點(diǎn)的直線的 角度，r(0)為待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任意一點(diǎn)的直線的長(zhǎng)度。因此，為了使 實(shí)際入射光強(qiáng)的振幅Ip與初始入射光強(qiáng)的振幅I c相等，僅需要
1即 可。
也就是使
為Jc的任意階零點(diǎn)即可。本發(fā)明實(shí)施例將
-設(shè)置為T。
[0114] 需要說(shuō)明的是，不同的目標(biāo)齒形對(duì)應(yīng)的目標(biāo)極坐標(biāo)公式不同，如方齒形的目標(biāo)極 坐標(biāo)公式和鋸齒形的目標(biāo)極坐標(biāo)公式不同，鋸齒形的目標(biāo)極坐標(biāo)公式和正弦齒形的目標(biāo)極 坐標(biāo)公式不同，正弦齒形的目標(biāo)極坐標(biāo)公式和高斯齒形的目標(biāo)極坐標(biāo)公式不同。當(dāng)目標(biāo)齒 形為正弦齒形時(shí)，目標(biāo)極坐標(biāo)公式為：
[0115] r(9) =a[l+Psin(m9)]；
[0116] 其中，Θ為平面坐標(biāo)系中的χ軸的正半軸到待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任 意一點(diǎn)的直線的角度，r( Θ )為待形成的透光區(qū)域的圓心到邊緣上任意一點(diǎn)的直線的長(zhǎng)度， β為目標(biāo)齒形即正弦齒形的齒長(zhǎng)，m為調(diào)制系數(shù)，m為大