Psva型液晶顯示面板及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種PSVA型液晶顯示面板及其制作方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 主動(dòng)式薄膜晶體管液晶顯示器（Thin Film Transistor-LCD，TFT-LCD)近年來(lái)得 到了飛速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用。就目前主流市場(chǎng)上的TFT-LCD顯示面板而言，可分為三種 類型，分別是扭曲向列（Twisted Nematic，TN)或超扭曲向列（Super Twisted Nematic， STN)型，平面轉(zhuǎn)換（In-Plane Switching，IPS)型、及垂直配向（Vertical Alignment，VA) 型。其中VA型液晶顯示器相對(duì)其他種類的液晶顯示器具有極高的對(duì)比度，在大尺寸顯示， 如電視等方面具有非常廣的應(yīng)用。
[0003] 其中，聚合物穩(wěn)定垂直配向（polymer-stabilized vertical alignment，PSVA)廣 視角技術(shù)能夠使液晶顯示面板具有較快的響應(yīng)時(shí)間、及穿透率高等優(yōu)點(diǎn)，其特點(diǎn)是在配向 膜表面形成聚合物突起，從而使液晶分子具有預(yù)傾角。一般的PSVA像素結(jié)構(gòu)是在陣列基板 上的用于溝道保護(hù)的鈍化層（Passivation)做完后，將沉積在其上的像素電極做圖案化處 理。如圖1所不，為現(xiàn)有的一種PSVA型液晶顯不面板，包括上基板100和下基板200,上基 板100包括第一基板110和平面型的公共電極120,下基板200包括第二基板210、鈍化層 220、及像素電極230,該像素電極230具有"米字型"圖案。然而，由于被處理成"米字型" 圖案的像素電極230具有向不同方向延伸的像素電極分支與狹縫間隔的圖案，導(dǎo)致其與對(duì) 側(cè)的上基板110上的公共電極120形成的電場(chǎng)不均，對(duì)應(yīng)于像素電極分支區(qū)域的電場(chǎng)明顯 強(qiáng)于對(duì)應(yīng)于狹縫區(qū)域的電場(chǎng)，從而導(dǎo)致像素內(nèi)出現(xiàn)亮度不均的現(xiàn)象。
[0004] 為了解決傳統(tǒng)PSVA型液晶顯示面板存在的問(wèn)題，人們提出一種新型的PSVA型液 晶顯示面板，通過(guò)在鈍化層上形成圖案，得到數(shù)道溝槽，然后在整個(gè)鈍化層上覆蓋整面的像 素電極；相比于傳統(tǒng)的PSVA型液晶顯示面板，如圖2所示，該P(yáng)SVA型液晶顯示面板中鈍化 層220'為圖案化鈍化層，包括沿不同方向延伸的數(shù)條溝槽222,而像素電極230'為一整面 電極，整面附著于圖案化的鈍化層220'上而隨鈍化層220'具有相應(yīng)的圖案，所述像素電 極230'穿過(guò)鈍化層220'上的過(guò)孔與薄膜晶體管的漏極相連接；由于鈍化層220'上過(guò)孔的 深度與溝槽222的深度不相等，一般需要兩張掩膜板，進(jìn)行兩次黃光和兩次刻蝕，該新型的 PSVA型液晶顯示面板的制作方法通常包括以下步驟：
[0005] 步驟1、如圖3所示，提供一基板210,在所述基板210上制作薄膜晶體管；所述薄 膜晶體管包括柵極、源極、漏極240 ;
[0006] 步驟2、如圖4所示，在所述薄膜晶體管上沉積鈍化層220';在所述鈍化層220'上 涂布光刻膠，利用第一掩膜板對(duì)該光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，得到第一光阻層510,該第一掩膜 板用于形成鈍化層220'上的溝槽；
[0007] 步驟3、如圖5所示，以第一光阻層510為遮蔽層，對(duì)所述鈍化層220'進(jìn)行刻蝕，得 到圖案化的鈍化層220'上的數(shù)道溝槽222 ;
[0008] 步驟4、如圖6所示，剝離第一光阻層510,在所述鈍化層220'上再次涂布光刻膠， 利用第二掩膜板對(duì)該光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，得到第二光阻層520,該第二掩膜板用于形成 鈍化層220'上的過(guò)孔；
[0009] 步驟5、如圖7所示，以第二光阻層520為遮蔽層，對(duì)所述鈍化層220'進(jìn)行刻蝕，得 到鈍化層220'上的過(guò)孔224 ;
[0010] 步驟6、如圖8所示，在所述鈍化層220'上形成像素電極層230'，該像素電極230' 穿過(guò)鈍化層上的過(guò)孔224與所述漏極相連接。
[0011] 按照現(xiàn)有的制作工藝，如果在鈍化層上做更多深度的溝槽，則需要兩張以上的掩 膜板，進(jìn)行兩次以上的光刻制程，這會(huì)帶來(lái)成本的增加和工藝的繁瑣，降低了生產(chǎn)效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 本發(fā)明的目的在于提供一種PSVA型液晶顯示面板，具有圖案化的鈍化層，所述鈍 化層的上表面具有多種深度的溝槽，能在一定程度上進(jìn)行穿透率均一性彌補(bǔ)，有助于PSVA 型液晶顯示面板的大視角特性的提升。
[0013] 本發(fā)明的目的還在于提供一種PSVA型液晶顯示面板的制作方法，采用多階調(diào)掩 膜（Multi-tone mask，MTM)工藝，利用一張多階調(diào)掩膜經(jīng)一次光刻制程同時(shí)制得鈍化層上 的過(guò)孔和多種深度的溝槽，降低了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率。
[0014] 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種PSVA型液晶顯示面板，包括上基板、與所述上 基板相對(duì)設(shè)置的下基板、及位于所述上基板與下基板之間的液晶層；
[0015] 所述上基板包括第一基板、及設(shè)于所述第一基板上的公共電極；
[0016] 所述下基板包括數(shù)個(gè)像素單元，每個(gè)像素單元包括第二基板、設(shè)于所述第二基板 上的薄膜晶體管、設(shè)于所述第二基板與薄膜晶體管上的鈍化層、以及設(shè)于所述鈍化層上的 像素電極；
[0017] 所述鈍化層的上表面具有數(shù)條溝槽，所述數(shù)條溝槽具有三種以上的深度；
[0018] 所述像素電極為厚度均勻、連續(xù)不間斷的整面電極；所述像素電極整面附著于圖 案化的鈍化層上而隨鈍化層具有相應(yīng)的圖案。所述鈍化層的厚度》50:00 A。
[0019] 所述鈍化層的厚度為6000 A，所述溝槽的深度為三種，分別為2000 A、 3000 A, 4000 A.
[0020] 所述薄膜晶體管包括柵極、源極、漏極，所述鈍化層對(duì)應(yīng)所述漏極的上方設(shè)有過(guò) 孔，所述像素電極穿過(guò)該過(guò)孔與所述薄膜晶體管的漏極相連接。
[0021] 所述過(guò)孔與溝槽通過(guò)一個(gè)多階調(diào)掩膜板經(jīng)由一道光刻制程同時(shí)制得。
[0022] 本發(fā)明還提供一種PSVA型液晶顯示面板的制作方法，包括以下步驟：
[0023] 步驟1、提供第二基板，在所述第二基板上制作薄膜晶體管；所述薄膜晶體管包括 柵極、源極、漏極；
[0024] 步驟2、在所述薄膜晶體管及第二基板上沉積鈍化層；
[0025] 步驟3、在所述鈍化層上涂布光刻膠，利用一個(gè)多階調(diào)掩膜板對(duì)該光刻膠進(jìn)行曝 光、顯影，所述多階調(diào)掩膜板具有用于在鈍化層上形成過(guò)孔的全曝光區(qū)域、以及用于在鈍化 層上形成溝槽的的半曝光區(qū)域，所述半曝光區(qū)域包括三種以上的透光度用于形成三種以上 深度的溝槽；
[0026] 步驟4、以所述光阻層為遮蔽層，對(duì)所述鈍化層進(jìn)行刻蝕，得到圖案化的鈍化層，該 圖案化的鈍化層具有位于所述鈍化層上表面的數(shù)條溝槽、以及貫穿所述鈍化層且對(duì)應(yīng)所述 漏極上方的過(guò)孔，所述溝槽具有三種以上的深度；
[0027] 步驟5、剝離剩余的光刻膠，在所述鈍化層上濺射形成像素電極；得到下基板；
[0028] 所述像素電極整面附著于圖案化的鈍化層上而隨鈍化層具有相應(yīng)的圖案，所述像 素電極穿過(guò)過(guò)孔與所述漏極相連接；
[0029] 步驟6、提供上基板，所述上基板包括第一基板、及設(shè)于所述第一基板上的公共電 極；將所述上基板與下基板對(duì)位成盒，得到PSVA型液晶顯示面板。
[0030] 所述步驟2中沉積鈍化層的厚度多5000 A。
[0031] 所述步驟3中提供的多階調(diào)掩膜板的半曝光區(qū)域包括三種透光度，所述步驟4中 形成的溝槽的深度為三種，分別為20Q0A、3QO&A、400QA。
[0032] 所述步驟2中沉積鈍化層的厚度為6000 A。
[0033] 所述步驟4中采用干法刻蝕工藝對(duì)所述鈍化層進(jìn)行刻蝕。
[0034] 本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供一種PSVA型液晶顯示面板及其制作方法，本發(fā) 明的PSVA型液晶顯示面板，具有圖案化的鈍化層，所述鈍化層的上表面具有多種深度的溝 槽，能在一定程度上進(jìn)行穿透率均一性彌補(bǔ)，有助于PSVA型液晶顯示面板的大視角特性的 提升；本發(fā)明的PSVA型液晶顯示面板的制作方法，采用多階調(diào)掩膜工藝，利用一張多階調(diào) 掩膜經(jīng)一次光刻制程同時(shí)制得鈍化層上的過(guò)孔和多種深度的溝槽，降低了生產(chǎn)成本，提高 了生產(chǎn)效率。
[0035] 為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì) 說(shuō)明與附圖，然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。
【附圖說(shuō)明】
[0036] 下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案 及其他有益效果顯而易見(jiàn)。
[0037] 附圖中，
[0038] 圖1為一種現(xiàn)有的PSVA型液晶顯示面板的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039] 圖2為另一種現(xiàn)有的PSVA型液晶顯不面板的立體結(jié)構(gòu)不意圖；
[0040] 圖3為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟1的示意圖；
[0041] 圖4為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟2的示意圖；
[0042] 圖5為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟3的示意圖；
[0043] 圖6為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟4的示意圖；
[0044] 圖7為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟5的示意圖；
[0045] 圖8為圖2的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟6的示意圖；
[0046] 圖9為本發(fā)明的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的流程示意圖；
[0047] 圖10為本發(fā)明的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟3的示意圖；
[0048] 圖11為本發(fā)明的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟4的示意圖；
[0049] 圖12為本發(fā)明的PSVA型液晶顯示面板的制作方法的步驟5的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[005