成所述與蝕刻腔20隔離的清洗室44 ;部分風(fēng)簾35及入口 31位于清洗室44內(nèi)。
[0025]本實施例中，所述流道36的端口朝向入口 31位置。所述噴淋管42固定于所述蝕刻腔20頂壁22及底壁23并連通所述流道36。當(dāng)對入口 31進(jìn)入的基板進(jìn)行清洗時，所述頂壁22及底壁23上的噴淋管42向入口 31方向噴入清洗液，清洗液從流道36噴灑入所述基板上，實現(xiàn)對基板的清洗。本發(fā)明中，所述蝕刻裝置使用離子水經(jīng)噴淋管進(jìn)入清洗室44多基板進(jìn)行清洗。
[0026]進(jìn)一步的，所述第一罩體411位于所述第二罩體412下方，所述第一罩體411設(shè)有底壁413，所述分流管43裝于底壁413上，用于引流清洗室44內(nèi)的清洗液。所述蝕刻裝置還包括傳動室(圖未示)，所述傳動室內(nèi)設(shè)有傳動齒輪，所述分流管一端連通所述清洗室，另一端連通所述傳動室。本實施例中，當(dāng)對所述基板進(jìn)行清洗后，清洗液會通過分流管43流出清洗室，避免污染蝕刻腔20。然后使第一罩體411及第二罩體412向蝕刻腔20內(nèi)翻轉(zhuǎn)打開，所述基板被送入蝕刻腔20內(nèi)進(jìn)行蝕刻作業(yè)。而流出清洗室的清洗液會進(jìn)入傳動室內(nèi)，直接對傳動齒輪進(jìn)行潤滑，充分利用了資源。
[0027]進(jìn)一步的，所述第一罩體411與第二罩體412通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的裝于擋板30上。本實施例中，所述第一罩體411與第二罩體412為三端封閉一端開口的槽體，第一罩體411與第二罩體412閉合形成矩形槽體。所述第一罩體411與第二罩體412通過轉(zhuǎn)軸裝于所述風(fēng)簾35側(cè)邊的擋板30上。所述第一罩體411與第二罩體412也可以選擇其他旋轉(zhuǎn)方式進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，不限于本實施方式，比如鉸鏈結(jié)構(gòu)，可以助推罩體41打開。
[0028]進(jìn)一步的，所述蝕刻裝置還包括控制單元，用于啟動及控制所述蝕刻裝置作業(yè)。所述控制單元可以控制罩體的打開與關(guān)閉，噴淋管的作業(yè)與停止，基板的傳送與停止以及蝕刻作業(yè)與停止等。所述控制單元通過終端進(jìn)行控制。
[0029]進(jìn)一步的，所述擋板30上位于入口 31 —側(cè)設(shè)有蓋體33，所述蓋體33滑動裝于擋板30上以遮蔽入口 31。所述蓋板33通過滑軌、彈性體等方式裝于擋板30上并可平行于擋板30滑動，一遮蔽所述入口 31，防止外界雜質(zhì)進(jìn)入蝕刻腔20。
[0030]當(dāng)使用所述蝕刻裝置對基板進(jìn)行蝕刻時，通過傳送裝置將基板送入存儲腔，經(jīng)存儲腔通過入口進(jìn)入蝕刻腔，與此同時，罩體41相對閉合形成所述清洗室，當(dāng)基板進(jìn)入清洗時進(jìn)行清洗，然后開啟罩體41使基板進(jìn)入蝕刻腔20內(nèi)蝕刻噴口下方進(jìn)行蝕刻。
[0031]本發(fā)明所述的蝕刻裝置，在入口兩側(cè)設(shè)置罩體，將風(fēng)簾及入口收容于清洗室內(nèi)，通過噴淋管進(jìn)行清洗，可以避免的基板進(jìn)入蝕刻腔20時，風(fēng)簾上的顆粒污染基板，避免破壞基板的性能，保證了基板后續(xù)加工的品質(zhì)。
[0032]在本發(fā)明的另一實施例中。所述噴淋管42位于所述清洗室內(nèi)并朝向所述風(fēng)簾35位置。本實施例中，在基板即將進(jìn)入所述入口 31時，先對所述風(fēng)簾35進(jìn)行清洗，待風(fēng)簾清洗干凈后打開入口將基板送入蝕刻腔。
[0033]以上所述是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1.一種蝕刻裝置，其包括存儲腔及與存儲腔相鄰的蝕刻腔，其特征在于，所述存儲腔與蝕刻腔之間通過擋板分隔，所述蝕刻腔內(nèi)設(shè)置蝕刻噴口，所述擋板上設(shè)有入口，位于蝕刻腔內(nèi)相對入口設(shè)有風(fēng)簾，所述蝕刻裝置還包括清洗組件，所述清洗組件包括罩體、噴淋管及分流管，所述罩體可旋轉(zhuǎn)的裝于所述擋板上與擋板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室內(nèi)，所述噴淋管位于入口兩側(cè)并朝向入口，所述分流管位于罩體上與蝕刻噴口相對的方向并連通清洗室與外界。2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述風(fēng)簾位于所述入口相對兩側(cè)，所述罩體包括第一罩體及與第一罩體閉合的形成清洗室的第二罩體，所述第一罩體及第二罩體分別可旋轉(zhuǎn)的裝于所述入口兩側(cè)的擋板上。3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述第一罩體位于所述第二罩體下方，所述第一罩體設(shè)有底壁，所述分流管裝于底壁上，用于引流清洗室內(nèi)的清洗液。4.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述第一罩體與第二罩體通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的裝于擋板上。5.如權(quán)利要求3所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述風(fēng)簾與所述擋板之間具有流道，所述噴淋管位于蝕刻腔內(nèi)并與流道貫通，所述流道的端口位于所述清洗室內(nèi)并朝向所述入□ O6.如權(quán)利要求3所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述噴淋管位于所述清洗室內(nèi)并朝向所述風(fēng)簾位置。7.如權(quán)利要求5所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置還包括傳動室，所述傳動室內(nèi)設(shè)有傳動齒輪，所述分流管一端連通所述清洗室，另一端連通所述傳動室。8.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述擋板上位于入口一側(cè)設(shè)有蓋體，所述蓋體滑動裝于擋板上以遮蔽入口。9.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置使用離子水經(jīng)噴淋管進(jìn)入清洗室清洗。10.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其特征在于，所述蝕刻裝置還包括控制單元，用于啟動及控制所述蝕刻裝置作業(yè)。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，其包括存儲腔及與存儲腔相鄰的蝕刻腔，所述存儲腔與蝕刻腔之間通過擋板分隔，所述蝕刻腔內(nèi)設(shè)置蝕刻噴口，所述擋板上設(shè)有入口，位于蝕刻腔內(nèi)相對入口設(shè)有風(fēng)簾，所述蝕刻裝置還包括清洗組件，所述清洗組件包括罩體、噴淋管及分流管，所述罩體可旋轉(zhuǎn)的裝于所述擋板上與擋板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室內(nèi)，所述噴淋管位于入口兩側(cè)并朝向入口，所述分流管位于罩體上與蝕刻噴口相對的方向并連通清洗室與外界。
【IPC分類】G02F1/13
【公開號】CN105044943
【申請?zhí)枴緾N201510528533
【發(fā)明人】白雀橋
【申請人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年8月25日