蝕刻裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蝕刻制造領(lǐng)域，尤其涉及一種蝕刻裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中，在液晶面板制造過程中，需要進行蝕刻來在玻璃基板上形成不同圖案的膜層，特別是使用濕蝕刻，通過在蝕刻腔內(nèi)對玻璃板上的某一層進行圖案形成。由于蝕刻時噴灑溶液，為了防止容溶液進入液晶面板存儲腔，會在蝕刻腔入口設(shè)置風(fēng)簾，但是當玻璃基板進入蝕刻腔的過程中，風(fēng)簾上存在在蝕刻時殘留的粉塵等雜質(zhì)，會污染下一個進入蝕刻腔的玻璃基板，如造成玻璃基板上光阻層的損壞，而影響后續(xù)工序的良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，解決蝕刻腔內(nèi)污染玻璃基板的技術(shù)問題，保證基板的良率。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實施方式提供如下技術(shù)方案:
[0005]本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，其包括存儲腔及與存儲腔相鄰的蝕刻腔，所述存儲腔與蝕刻腔之間通過擋板分隔，所述蝕刻腔內(nèi)設(shè)置蝕刻噴口，所述擋板上設(shè)有入口，位于蝕刻腔內(nèi)相對入口設(shè)有風(fēng)簾，所述蝕刻裝置還包括清洗組件，所述清洗組件包括罩體、噴淋管及分流管，所述罩體可旋轉(zhuǎn)的裝于所述風(fēng)簾上與擋板形成清洗室，所述入口位于所述清洗室內(nèi)，所述噴淋管位于入口兩側(cè)并朝向入口，所述分流管位于罩體上與蝕刻噴口相對的方向并連通清洗室與外界連通。
[0006]其中，所述風(fēng)簾位于所述入口相對兩側(cè)，所述罩體包括第一罩體及與第一罩體閉合的形成清洗室的第二罩體，所述第一罩體及第二罩體分別可旋轉(zhuǎn)的裝于所述入口兩側(cè)的擋板上。
[0007]其中，所述第一罩體位于所述第二罩體下方，所述第一罩體設(shè)有底壁，所述分流管裝于底壁上，用于引流清洗室內(nèi)的清洗液。
[0008]其中，所述第一罩體與第二罩體通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動的裝于擋板上。
[0009]其中，所述風(fēng)簾與所述擋板之間具有流道，所述噴淋管位于蝕刻腔內(nèi)并與流道貫通，所述流道的端口位于所述清洗室內(nèi)并朝向所述入口。
[0010]其中，所述噴淋管位于所述清洗室內(nèi)并朝向所述風(fēng)簾位置。
[0011]其中，所述蝕刻裝置還包括傳動室，所述傳動室內(nèi)設(shè)有傳動齒輪，所述分流管一端連通所述清洗室，另一端連通所述傳動室。
[0012]其中，所述擋板上位于入口一側(cè)設(shè)有蓋體，所述蓋體滑動裝于擋板上以遮蔽入口。
[0013]其中，所述蝕刻裝置使用離子水經(jīng)噴淋管進入清洗室清洗。
[0014]其中，所述蝕刻裝置還包括控制單元，用于啟動及控制所述蝕刻裝置作業(yè)。
[0015]本發(fā)明所述的蝕刻裝置，在入口兩側(cè)設(shè)置罩體，將風(fēng)簾及入口收容于清洗室內(nèi)，通過噴淋管進行清洗，可以避免代加工的基板進入蝕刻腔時，風(fēng)簾上的顆粒污染基板，避免破壞基板的性能，保證了基板后續(xù)加工的品質(zhì)。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，下面將對實施方式中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施方式，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以如這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1是本發(fā)明較佳實施方式中的蝕刻裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2是本發(fā)明的蝕刻裝置示意圖，其中罩體處于閉合狀態(tài)。
【具體實施方式】
[0019]下面將結(jié)合本發(fā)明實施方式中的附圖，對本發(fā)明實施方式中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。
[0020]本發(fā)明的較佳實施例提供了一種蝕刻裝置及蝕刻裝置。所述蝕刻裝置用于在浸泡噴式蝕刻機對液晶顯示器玻璃基板進行蝕刻時，為蝕刻液體提供氣壓。
[0021]請參閱圖1與圖2，本發(fā)明提供一種蝕刻裝置，其用于對液晶面板制造過程中的蝕刻作業(yè)，比如液晶面板的陣列基板的膜層的圖案化。所述蝕刻裝置包括存儲腔10及與存儲腔10相鄰的蝕刻腔20。所述存儲腔10與蝕刻腔20之間通過擋板30分隔。所述蝕刻腔20內(nèi)設(shè)置蝕刻噴口 21。所述擋板30上設(shè)有入口 31，位于蝕刻腔20內(nèi)相對入口 31設(shè)有風(fēng)簾35。所述蝕刻裝置還包括清洗組件(圖未標)。本實施例中，所述清洗組件包括罩體41、噴淋管42及分流管43。所述罩體41可旋轉(zhuǎn)的裝于所述擋板30上與擋板30之間形成清洗室44。所述入口 31位于所述清洗室44內(nèi)，所述噴淋管42位于入口 31兩側(cè)并朝向入口31，所述分流管43位于罩體41上與蝕刻噴口 21相對的方向并連通清洗室44與外界連通。
[0022]在本發(fā)明的較佳實施例中，所述風(fēng)簾35與所述擋板30之間具有流道36，所述噴淋管42位于蝕刻腔20內(nèi)并與流道36貫通，所述流道36的端口位于所述清洗室44內(nèi)并朝向所述入口 31。
[0023]具體的，所述存儲腔10與蝕刻腔20為兩個通過擋板30分割而成的腔室。所述存儲腔10用于陣列基板在進入蝕刻腔前的安放及運送空間。所述入口 31開設(shè)于擋板30中部位置，連通存儲腔10與蝕刻腔20，用于存儲腔10內(nèi)的基板進入蝕刻腔20內(nèi)。所述蝕刻腔20包括頂壁22及底壁23。所述蝕刻噴口 21為多個，并且間隔設(shè)于所述頂壁22上。當所述陣列基板從入口 31進入所述蝕刻腔20后，所述蝕刻噴口 21對所述陣列基板進行蝕刻噴淋作業(yè)。所述風(fēng)簾35用于保護所述擋板30，防止擋板30被蝕刻液體破壞。
[0024]進一步的，所述風(fēng)簾35位于所述入口 31相對兩側(cè)。所述罩體41包括第一罩體411及與第一罩體411閉合的形成清洗室44的第二罩體412。所述第一罩體411及第二罩體412分別可旋轉(zhuǎn)的裝于所述入口 31兩側(cè)的擋板30上。具體的，所述風(fēng)簾35位于所述入口 31兩側(cè)并將所述擋板30遮蔽。所述罩體41為矩形罩狀。本實施例中，為了更方便入口31進入帶蝕刻的基板，通過所述第一罩體411與第二罩體412閉合形成所述罩體41。所述第一罩體411與第二罩體412的邊緣通過旋轉(zhuǎn)機構(gòu)裝于擋板30的邊緣并將部分風(fēng)簾35及入口 31遮蔽，所述第一罩體411與第二罩體與擋板形