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一種液晶顯示面板的掩膜板及使用該掩膜板的曝光方法_3

文檔序號(hào):8411612閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
、和El部分的曝光時(shí)間為S分鐘,再用第二掩膜板80從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的C2和E2部分的曝光時(shí)間為R分鐘;第二次曝光時(shí),使用第三掩膜板90從左至右對(duì)對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Dl和Fl部分曝光時(shí)間為Ry (y多I)分鐘,再用第四掩膜板100從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的D2和F2部分曝光時(shí)間為Ry (y ^ I)分鐘。
[0048]圖8和圖9通過(guò)設(shè)計(jì)掩膜板并控制兩次曝光時(shí)掩膜板與玻璃基板移動(dòng)的相對(duì)速度,使得像素單元的上下部分的曝光時(shí)間不同從而預(yù)傾角不同,導(dǎo)致施加液晶電壓后,液晶分子的轉(zhuǎn)動(dòng)角度有偏差,從而實(shí)現(xiàn)8疇配向效果。
[0049]圖10所示的彩膜基板上為曝光方式的第三實(shí)施例的示意圖,在彩膜基板上使用2張不同的掩膜板,第一掩膜板110的曝光區(qū)域,從上至下等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第一和第五區(qū)域?yàn)椴糠制毓鈪^(qū)域,第三和第七區(qū)域?yàn)槿毓鈪^(qū)域,第一和第五區(qū)域曝光的面積為第三或第七曝光區(qū)域面積的z (O ( z ( I),其他區(qū)域都是全遮光區(qū)域;第二掩膜板120的保護(hù)區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第二和第六區(qū)域?yàn)椴糠制毓鈪^(qū)域,第四和第八區(qū)域?yàn)槿毓鈪^(qū)域,且第二和第六個(gè)區(qū)域曝光的面積為第四或第八曝光區(qū)域面積的z (O < z < I),其他區(qū)域都是全遮光區(qū)域。
[0050]在彩膜基板上,使用上述掩膜板的曝光方法為:使用第一掩膜板110從左至由對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Cl和El部分的曝光時(shí)間為S分鐘,像素單元的Dl和El部分的曝光時(shí)間為(l+z)S分鐘(0<z< I),再用第二掩膜板120從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的C2和E2部分的曝光時(shí)間為T(mén)分鐘,像素單元的D2和F2部分的曝光時(shí)間為(l+z)S 分鐘(O ^ z ^ I) ο
[0051]通過(guò)掩膜板上設(shè)計(jì)不同的曝光區(qū)域的面積和曝光時(shí)間不同,只需一次曝光,使得照射后每個(gè)像素單元的上下部分形成的預(yù)傾角不同,導(dǎo)致施加液晶電壓后,液晶分子的轉(zhuǎn)動(dòng)角度有偏差,從而實(shí)現(xiàn)8疇配向效果。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種液晶顯示面板的掩膜板,該掩膜板用于液晶顯示面板的彩膜基板上的曝光,所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板,其特征在于:所述第一掩膜板的的曝光區(qū)域依序?yàn)?全曝光區(qū)域、全遮光區(qū)域、部分曝光或部分遮光區(qū)域、以及全遮光區(qū)域,所述第二掩膜板的曝光區(qū)域依序?yàn)?全遮光區(qū)域、全曝光區(qū)域、全遮光區(qū)域、以及部分曝光或部分遮光區(qū)域。
2.使用權(quán)利要求1所述的掩膜板的曝光方法,其特征在于:設(shè)定彩膜基板上某一像素單元,該像素單元分成上下兩個(gè)部分:A部分和B部分,A部分像素均分成Al和A2部分,B部分像素均分成BI和B2部分,將第一掩膜板從左至由對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,全曝光像素單元的Al部分和部分曝光像素單元的BI部分;使用第二掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,全曝光像素單元的A2部分和部分曝光像素單元的B2部分。
3.—種液晶顯示面板的掩膜板,該掩膜板用于液晶顯示面板的彩膜基板上的曝光,所述掩膜板包括第一、第二、第三以及第四掩膜板,其特征在于:第一掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第一、第三、第五以及第七均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第二掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第二、第四、第六以及第八均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第三掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第三和第七區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第四掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第四和第八區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域。
4.使用權(quán)利要求3所述的掩膜板的曝光方法,其特征在于:設(shè)定彩膜基板上的一像素單元均分成C和D部分,該相鄰的另一像素單元均分成E和F部分,C、D、E、F在分別均分成兩部分,分別為C1、C2、D1、D2、E1、E2、F1、以及F2,第一次曝光時(shí),使用第一掩膜板從左至由對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Cl、DU E1、以及Fl部分的曝光時(shí)間為T(mén)分鐘,再用第二掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的C2、D2、E2、以及F2部分的曝光時(shí)間為T(mén)分鐘;第二次曝光時(shí),使用第三掩膜板左至由對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Dl和Fl部分曝光時(shí)間為xT分鐘(O I),再用第四掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的D2和F2部分曝光時(shí)間為xT分鐘(O < X < I)。
5.—種液晶顯示面板的掩膜板,該掩膜板用于液晶顯示面板的彩膜基板上的曝光,所述掩膜板包括第一、第二、第三以及第四掩膜板,其特征在于:第一掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第一和第五區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第二掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第二和第六區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第三掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第三和第七區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域;第四掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第四和第八區(qū)域均為全曝光區(qū)域,其他區(qū)域均為全遮光區(qū)域。
6.使用權(quán)利要求5所述的掩膜板的曝光方法,其特征在于:設(shè)定彩膜基板上的一像素單元均分成C和D部分,該相鄰的另一像素單元均分成E和F部分,C、D、E、F在分別均分成兩部分,分別為C1、C2、D1、D2、E1、E2、F1、以及F2,第一次曝光時(shí),使用第一掩膜板從左至右對(duì)對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Cl、和El部分的曝光時(shí)間為R分鐘,再用第二掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的C2和E2部分的曝光時(shí)間為R分鐘;第二次曝光時(shí),使用第三掩膜板從左至右對(duì)對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Dl和Fl部分曝光時(shí)間為Ry (y ^ D分鐘,再用第四掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的D2和F2部分曝光時(shí)間為Ry (y彡I)分鐘。
7.—種液晶顯示面板的掩膜板,該掩膜板用于液晶顯示面板的彩膜基板上的曝光,所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板,其特征在于:第一掩膜板的曝光區(qū)域,從上至下等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第一和第五區(qū)域?yàn)椴糠制毓鈪^(qū)域,第三和第七區(qū)域?yàn)槿毓鈪^(qū)域,第一和第五區(qū)域曝光的面積為第三或第七曝光區(qū)域面積的z (O < z < I),其他區(qū)域都是全遮光區(qū)域;第二掩膜板的保護(hù)區(qū)域,從上至下也等序分為8個(gè)區(qū)域,其中,第二和第六區(qū)域?yàn)椴糠制毓鈪^(qū)域,第四和第八區(qū)域?yàn)槿毓鈪^(qū)域,且第二和第六個(gè)區(qū)域曝光的面積為第四或第八曝光區(qū)域面積的z (O < z < I),其他區(qū)域都是全遮光區(qū)域。
8.使用權(quán)利要求7所述的掩膜板的曝光方法,其特征在于:設(shè)定彩膜基板上的一像素單元均分成C和D部分,該相鄰的另一像素單元均分成E和F部分,C、D、E、F在分別均分成兩部分,分別為Cl、C2、D1、D2、E1、E2、Fl、以及F2,使用第一掩膜板從左至由對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的Cl和El部分的曝光時(shí)間為S分鐘,像素單元的Dl和El部分的曝光時(shí)間為(l+z)S分鐘,再用第二掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,像素單元的C2和E2部分的曝光時(shí)間為T(mén)S分鐘,像素單元的D2和F2部分的曝光時(shí)間為(l+z)S分鐘。
9.根據(jù)權(quán)利要求2或4或6或8所述的掩膜板的曝光方法,其特征在于:陣列基板曝光分成左右兩個(gè)區(qū)域,上下兩個(gè)方向?qū)σ话胂袼貑卧M(jìn)行配向。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種液晶顯示面板的掩膜板及使用該掩膜板的曝光方法,所述掩膜板包括第一掩膜板和第二掩膜板,將第一掩膜板從左至右對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,全曝光像素單元的A1部分和部分曝光像素單元的B1部分;將第二掩膜板從右至左對(duì)彩膜基板進(jìn)行曝光,全曝光像素單元的A2部分和部分曝光像素單元的B2部分。本發(fā)明通過(guò)改變曝光的掩膜板的設(shè)計(jì),使得彩膜基板曝光時(shí)上半個(gè)像素單元和下半個(gè)像素單元的曝光強(qiáng)度不同或者曝光時(shí)間不同導(dǎo)致,上半個(gè)像素單元和下半個(gè)像素單元的預(yù)傾角不同,當(dāng)施加相同的電壓時(shí),彩膜基板上的上半個(gè)像素單元和下半個(gè)像素單元的透過(guò)率不同,從而實(shí)現(xiàn)8疇結(jié)構(gòu)。
【IPC分類】G03F7-20, G02F1-1337, G03F1-54
【公開(kāi)號(hào)】CN104730857
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510131189
【發(fā)明人】李淑君, 黃秋蓉
【申請(qǐng)人】南京中電熊貓液晶顯示科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年6月24日
【申請(qǐng)日】2015年3月24日
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