專利名稱：液晶顯示板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顯示器件，并具體涉及一種液晶顯示板及其制造方法。盡管本發(fā)明適于多種應(yīng)用，但其特別適于防止在液晶顯示板中產(chǎn)生波紋并保持液晶顯示板的盒間隙。
背景技術(shù)：
通常，液晶顯示器件LCD根據(jù)視頻信號控制液晶單元的光透射比，從而在液晶顯示板上顯示與該視頻信號相對應(yīng)的圖像。更具體而言，液晶顯示器件包括液晶顯示板，在該液晶顯示板中液晶單元設(shè)置成矩陣形式。用于驅(qū)動液晶單元的驅(qū)動電路也設(shè)置在液晶顯示板上。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板的剖面圖。圖1中所示的液晶顯示板包括上陣列基板2(也稱作濾色片陣列基板2)和下陣列基板22(也稱作薄膜晶體管陣列基板)。液晶區(qū)域5處于上陣列基板2與下陣列基板22之間的盒間隙中。由設(shè)置在上陣列基板2與下陣列基板22之間的襯墊料13保持液晶區(qū)域5的盒間隙。
第一薄膜圖案4，諸如黑矩陣和濾色片，形成在上陣列基板2上。第二薄膜圖案24，諸如薄膜晶體管、信號線和像素電極，形成在下陣列基板22上。襯墊料13形成于上陣列基板2上以通過保持上陣列基板2與下陣列基板22之間的盒間隙而限定液晶區(qū)域5。
在這種現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板中，提供上陣列基板2和下陣列基板22，然后執(zhí)行液晶滴落工序，將液晶散布到上陣列基板2和下陣列基板22其中至少之一上。隨后，將上陣列基板2和下陣列基板22粘接在一起并且在上陣列基板2與下陣列基板22之間具有襯墊料13和液晶區(qū)域5。
在剛剛執(zhí)行現(xiàn)有技術(shù)VALC處理之后，液晶集中到液晶顯示板的中心部位處。從而，剛剛在粘接工序之后，液晶顯示板中心部分的盒間隙比液晶顯示板的其余部分更厚。一會之后，液晶逐漸擴展，從而液晶顯示板中心部分的盒間隙減小，同時液晶顯示板其余部分的盒間隙增大。最終，在整個液晶顯示板上盒間隙將按照襯墊料13的高度變得均勻。
在襯墊料13和下陣列基板22中與襯墊料13相接觸的區(qū)域之間發(fā)生摩擦。摩擦有可能產(chǎn)生使液晶顯示板的內(nèi)部結(jié)構(gòu)(如信號線)遭到破壞的問題。圖2為現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板的剖面圖，其具有與下陣列基板上的突起25接觸的襯墊料。為了防止發(fā)生這種內(nèi)部結(jié)構(gòu)的破壞，在下陣列基板22上形成突起25且突起25與襯墊料13相接觸，如圖2中所示。因而，解決了襯墊料13與下陣列基板22之間造成破壞的摩擦力問題。
如圖2的虛線圓放大部分中所示，壓力集中在與突起25相接觸的襯墊料13的中心部分處。該壓力防止襯墊料13沿下陣列基板22運動。不過，該壓力可能引起以下問題，即由于襯墊料與突起之間較大的靜摩擦而不能緩解上陣列基板2中的波紋。波紋會降低液晶顯示板上盒間隙的均勻性。
圖3表示上陣列基板中的波紋。在粘接工序之前，上陣列基板2可能具有周期為5～20mm，尺寸為0.02～0.03μm的波紋。在上陣列基板2剛剛粘接下陣列基板22之后，從外部施加給液晶顯示板內(nèi)部的力FEXT大于從液晶顯示板的內(nèi)部施加給液晶顯示板外部的力FINNER。該力的數(shù)學關(guān)系如下。
FEXT＞FINNER，(FINNER＝FLC+FCS)其中FEXT＝從外部施加給顯示板內(nèi)部的力，F(xiàn)INNER＝從內(nèi)部施加給顯示板外部的力，其與來自外部的力相反，F(xiàn)LC＝液晶推動基板的力，和FCS＝突起推動襯墊料的力。
在經(jīng)過一段時間之后，波紋擴展到整個液晶顯示板上，從而從外部施加給液晶顯示板內(nèi)部的力FEXT等于從內(nèi)部施加給液晶顯示板外部的力FINNER。
當從外部施加給液晶顯示板內(nèi)部的力FEXT等于從內(nèi)部施加給液晶顯示板外部的力FINNER時，可使這種波紋變平坦，如下面的數(shù)學式2所示。
FEXT＝FINNER，(FINNER＝FLC+FCS)，(FCS＝PCS*ACS)其中PCS＝施加給襯墊料與突起之間接觸區(qū)域的壓力，和ACS＝襯墊料與突起之間接觸區(qū)域的面積。
不過，與突起25接觸的襯墊料13可以僅部分地被壓下，并在突起上保持固定不動，從而導致襯墊料13與突起25之間的接觸密度為大約50ppm，襯墊料13的恢復率為大約60％或更低。圖4所示的試驗數(shù)據(jù)表示該現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板中盒間隙的不均勻性。由于突起25有可能僅被部分地壓下而在部分襯墊料與突起之間引起靜摩擦，壓力通過部分襯墊料13向上傳遞到整個上陣列基板2，從而不會使上陣列基板2的波紋變平坦，并且盒間隙不均勻，這如圖4中的試驗結(jié)果所示。盒間隙的不均勻性在液晶顯示板上的圖像內(nèi)產(chǎn)生瑕疵。
發(fā)明內(nèi)容
因而，本發(fā)明涉及一種液晶顯示板及其制造方法，其基本上消除了由于現(xiàn)有技術(shù)的限制和缺點而導致的一個或多個問題。
本發(fā)明的一個目的在于提供一種液晶顯示板及其制造方法，其適于防止液晶顯示板的上陣列基板產(chǎn)生波紋。
本發(fā)明的另一目的在于改善液晶顯示板盒間隙的均勻性。
在下面的描述中將闡述本發(fā)明的附加特征和優(yōu)點，部分上可由描述顯然得出，或者可通過本發(fā)明的實施獲悉。將通過文字描述和其權(quán)利要求以及附圖中具體給出的結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)和獲得本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點。
為了實現(xiàn)本發(fā)明的這些和其它目的，根據(jù)本發(fā)明一方面的液晶顯示板，包括彼此相對設(shè)置的上陣列基板和下陣列基板，設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的液晶，從下陣列基板凸出的突起，以及設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的襯墊料，該襯墊料具有與突起相接觸的第一部分和與上陣列基板相接觸的第二部分，并且第一部分具有第一硬度，該第一硬度與第二部分的第二硬度不同。
另一方面，一種液晶顯示板的制造方法，包括提供具有第一薄膜圖案的上陣列基板，提供具有第二薄膜圖案的下陣列基板，在下陣列基板上形成突起，在上陣列基板上形成襯墊料，該襯墊料包括具有第一硬度的第一部分和具有第二硬度的第二部分，且第二硬度與第一硬度不同，在上陣列基板與下陣列基板之間設(shè)置液晶，以及粘接上陣列基板與下陣列基板，使得襯墊料的第一部分與突起相接觸，并且襯墊料的第二部分與上陣列基板相接觸。
另一方面，一種液晶顯示板，包括彼此相對設(shè)置的上陣列基板和下陣列基板，設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的液晶，從下陣列基板凸出的突起，以及設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的襯墊料，襯墊料具有與突起相接觸的第一部分和與上陣列基板相接觸的第二部分，并且襯墊料的第一部分具有第一分子鏈結(jié)構(gòu)，該第一分子鏈結(jié)構(gòu)比襯墊料第二部分中的第二分子鏈結(jié)構(gòu)具有更高的緊密度。
應(yīng)該理解，上面的概述和下面的詳細說明都是示例性和解釋性的，意欲對要求保護的本發(fā)明提供進一步的解釋。
提供對本發(fā)明進一步理解并包含和構(gòu)成本說明書一部分的附圖，說明本發(fā)明的實施方式，與描述一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板的剖面圖。
圖2為具有與下陣列基板上的突起相接觸的襯墊料的現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板的剖面圖。
圖3表示現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板的上陣列基板中的波紋。
圖4所示的試驗數(shù)據(jù)表示現(xiàn)有技術(shù)液晶顯示板中盒間隙的非均勻性。
圖5所示的試驗數(shù)據(jù)表示當增大突起與襯墊料之間的接觸密度時，提高了盒間隙的均勻性。
圖6為根據(jù)本發(fā)明實施方式的液晶顯示板的剖面圖。
圖7表示在本發(fā)明的實施方式中構(gòu)成襯墊料的分子結(jié)構(gòu)。
圖8A和8B為在曝光前圖7中所示襯墊料的分子位置分布和分子鏈結(jié)構(gòu)。
圖9A至9B為在曝光后襯墊料的分子位置分布和分子鏈結(jié)構(gòu)。
圖10為在圖9B中的曝光和顯影工序之后襯墊料的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。
圖11用于解釋在結(jié)合該液晶顯示板的本發(fā)明的實施方式中襯墊料的作用。
具體實施例方式
現(xiàn)在將參照本發(fā)明的優(yōu)選實施方式詳細描述本發(fā)明，附圖中說明了其示例。下面，將參照圖5至11說明本發(fā)明的優(yōu)選實施方式。
圖5所示的試驗數(shù)據(jù)表示當增加突起與襯墊料之間的接觸密度時，盒間隙的均勻性提高。如圖5中的試驗結(jié)果所示，在形成突起和襯墊料并使襯墊料與突起的接觸密度為大約50～100ppm時，盒間隙的均勻性增大，同時由于突起與襯墊料彼此接觸的接觸面積增大，集中在襯墊料上的壓力減小。如果增大襯墊料與突起的接觸密度，則存在圖像質(zhì)量下降的問題，如產(chǎn)生不均勻的黑色亮度。
為了解決現(xiàn)有技術(shù)上陣列基板的波紋問題和盒間隙不均勻的問題，本申請人提出一種減小襯墊料與突起之間接觸摩擦的技術(shù)。即，通過減小突起與襯墊料之間的接觸摩擦而增大襯墊料與突起之間的接觸面積，從而減輕在突起與襯墊料之間某些接觸點處力的集中。因而，本發(fā)明的實施方式提出一種由具有強阻力的材料形成襯墊料的方法，并且襯墊料與突起的接觸密度較低，從而防止黑色亮度不均勻、保持盒間隙并減輕上陣列基板中的波紋。
圖6為根據(jù)本發(fā)明一實施方式的液晶顯示板的剖面圖。圖6中所示的液晶顯示板包括上陣列基板102和與上陣列基板102相對的下陣列基板122，并且在二者之間具有液晶區(qū)域105；從下陣列基板122朝向上陣列基板102凸出的突起125；以及保持上陣列基板102與下陣列基板122之間盒間隙的襯墊料113。襯墊料113在與突起125相接觸的部分113a中具有相對較高的硬度。
在上陣列基板102上形成第一薄膜圖案104，第一薄膜圖案104包括限定單元區(qū)域的黑矩陣和處于由黑矩陣所限定的單元區(qū)域中的濾色片。第二薄膜圖案124包括柵線和與柵線相交叉的數(shù)據(jù)線、靠近柵線與數(shù)據(jù)線交叉點處形成的薄膜晶體管以及與薄膜晶體管相連的像素電極。突起125被形成為從下陣列基板122凸出并與襯墊料113直接接觸，從而避免襯墊料113與下陣列基板122之間直接接觸。
通過光刻工藝在上陣列基板102上形成襯墊料113，從而形成在朝向下陣列基板122的方向上其寬度逐漸變窄的一種結(jié)構(gòu)。下面，將襯墊料113的具有相對較窄寬度且與突起125直接接觸的部分稱作“襯墊料上部113a”，將具有相對較寬寬度且與上陣列基板102接觸的另一部分稱作“襯墊料下部113b”。
在本發(fā)明的實施方式中，將襯墊料113形成具有硬度不同的部分，從而可減小突起125與襯墊料之間的摩擦，同時襯墊料依然具有一定程度的彈性。結(jié)果，在執(zhí)行粘接工序之后，可使上陣列基板102變得平坦并保持均勻的盒間隙。接下來將參照圖7至11具體說明本發(fā)明的襯墊料。
在本發(fā)明的實施方式中，為了解決由于力集中在襯墊料113的一個區(qū)域上而造成的現(xiàn)有技術(shù)大的靜摩擦問題，使與突起125接觸的襯墊料上部113a具有比襯墊料下部113b更大的硬度。因而，與突起125直接接觸的襯墊料上部113a具有較小的靜摩擦，從而附加的襯墊料與突起能夠相接觸，從而即使當突起125將某些襯墊料上部113a稍稍壓下并且接觸密度為大約50ppm的情況下，恢復率也不小于80％。結(jié)果，即便力集中在襯墊料上部113a上，力也會均勻地分散到襯墊料下部區(qū)域113b上，這是因為襯墊料上部113a相對于突起125運動，使得力通過更多襯墊料上部113a分布。因而，在粘接工序后經(jīng)過一定時間之后，上陣列基板102的波紋消失。
襯墊料113包括多官能單體(MFM)，多官能低聚物(MFO)，多官能聚合物(MFP)，光引發(fā)劑(PI)和添加劑。此處，MFM可以為多官能丙烯酸酯單體，MFO可以為雙官能丙烯酸酯低聚物，MFP可以為丙烯酸酯共聚物或活性聚合物其中任何一種，PI可以為Irgacure-369或TPA(對苯二酸)。PI與光反應(yīng)，從而用于激活其他分子的反應(yīng)。MFM、MFO、MFP與光反應(yīng)以形成指定的薄膜，并且在顯影工序中未去除而是包含在襯墊料113中。添加劑用于控制涂層性質(zhì)、薄膜均勻性以及與下層薄膜的粘接性質(zhì)。
圖7表示在本發(fā)明的實施方式中構(gòu)成襯墊料的分子結(jié)構(gòu)。圖7表示多官能丙烯酸酯單體、雙官能丙烯酸酯低聚物、丙烯酸酯共聚物、活性聚合物、Irgacure-369和對苯二酸等的分子結(jié)構(gòu)式，以及Irgacure-369和對苯二酸的吸收波長范圍。此處，與對苯二酸相比較，Irgacure-369吸收更低波長范圍的光。
在本發(fā)明的實施方式中，使用一種材料和光刻工序形成具有不同硬度部分的襯墊料113。下面將結(jié)合液晶顯示板的制造工序說明襯墊料113的制造工序。首先，提供具有第一薄膜圖案104的上陣列基板102，其中第一薄膜圖案104包括黑色矩陣和濾色片；并提供具有第二薄膜圖案124的下陣列基板122，其中第二薄膜圖案124包括信號線、薄膜晶體管和像素電極。然后，在上陣列基板102上形成包括MFM，MFO，MFP，PI和添加劑的襯墊料材料之后，執(zhí)行由曝光和顯影過程組成的光刻處理。在曝光過程中，上基板中的將要形成襯墊料113的區(qū)域，通過掩模的透光部分被曝光。
圖8A和8B為在曝光前圖7中所示襯墊料的分子位置分布和分子鏈結(jié)構(gòu)。首先，曝光前襯墊料材料110內(nèi)的分子是隨機分布的，如圖8A中所示。也就是說，MFM 152、MFO 154和MFP 156分子在整個襯墊料材料110上均勻地分布。因而，如圖8B中所示，在襯墊料材料110的特定部分中分子鏈結(jié)構(gòu)也不具有偏重，從而在整個襯墊料材料110中均勻地分布。
圖9A盒9B為在曝光后襯墊料中的分子位置分布和分子鏈結(jié)構(gòu)。當開始曝光時，隨著通過襯墊料材料的上部區(qū)域到其下部材料，曝光密度減弱，從而MFM 152和MFO 154主要處于襯墊料材料110的上部區(qū)域中，MFP 156主要處于襯墊料材料110的下部區(qū)域中。因而，隨著曝光的進行，在襯墊料材料110的上部區(qū)域中，MFM 152與MFO 154彼此牢固地結(jié)合，并且MFM 152和MFO 154形成從襯墊料材料110的上部到其下部逐漸減小的濃度梯度。結(jié)果，MFP 156從襯墊料材料110的上部運動到下部。MFP 156的移動速度較慢，這是因為分子量較高并且其與少量的MFM 152和MFO 154反應(yīng)。因此，使襯墊料材料110的上部中分子鏈結(jié)構(gòu)緊密，從而增大硬度，并且在襯墊料材料的下部中分子鏈結(jié)構(gòu)的緊密度相對較低，從而減小硬度，如圖9B中所示。
接下來，執(zhí)行顯影過程，從而形成襯墊料113，其中從上部到下部其分子鏈結(jié)構(gòu)(或交聯(lián))的密度逐漸減小，如圖10中所示。因而，本發(fā)明實施方式中的襯墊料113具有從其上部到下部硬度減小這樣一種結(jié)構(gòu)，從而突起125施加的負荷不會使襯墊料的上部(A)變形，并且襯墊料的下部(B)吸收突起125施加的負荷，從而使負荷均勻地分散。
如果通過使用襯墊料113執(zhí)行上陣列基板102與下陣列基板122的粘接工序，則襯墊料113的上部(A)具有較強的硬度以防止集中在突起125上的負荷所引起的變形，襯墊料113的下部(B)具有較弱的硬度以吸收集中在襯墊料113上部(A)上的負荷，從而均勻地吸收和分散負荷。
圖11表示使用本發(fā)明實施方式的襯墊料改善液晶顯示板的盒間隙均勻性并使彎曲的上陣列基板變平坦的示意圖。如圖11中所示，在剛剛將上陣列基板102與下陣列基板122粘接之后，突起125使力集中在襯墊料上部113a的一個點上，但是襯墊料的上部113a具有較強硬度，從而即便上部113a被稍微壓下一些也幾乎可以恢復。此時，集中在襯墊料上部113a上的力被分散到襯墊料的下部113b上，并且通過整個襯墊料113推動上陣列基板102的彎曲區(qū)域。因而，從外部施加給液晶顯示板的壓力Patm等于施加給上陣列基板102外部的壓力Pglass和襯墊料113推動上陣列基板102的壓力Pcs。因此，使上陣列基板102平坦，并保持盒間隙均勻。
由此，根據(jù)本發(fā)明實施方式的液晶顯示板及其制造方法，通過使用從上部到下部硬度減小的襯墊料113，可保持上陣列基板102與下陣列基板122之間的盒間隙。結(jié)果，集中在某些突起125上的壓力可通過所有突起均勻地分散到整個襯墊料113上，從而使上陣列基板102的波紋變平坦并使盒間隙均勻。
本發(fā)明實施方式中提出的襯墊料易于應(yīng)用于IPS(面內(nèi)切換)模式的液晶顯示板中，還可應(yīng)用于ECB(電控雙折射)模式和VA(垂直對準)模式的液晶顯示板以及TN(扭曲向列)模式的液晶顯示板中。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明實施方式的液晶顯示板及其制造方法，通過使用從襯墊料的上部到下部硬度減小的襯墊料，可保持上陣列基板與下陣列基板之間的盒間隙。襯墊料的上部具有較高彈力和較高恢復力。從而，突起施加的壓力幾乎不會產(chǎn)生變形，襯墊料的下部區(qū)域通過襯墊料分散施加給襯墊料上部的力，并且襯墊料與突起之間具有更小摩擦，從而其它襯墊料可以接收來自其它突起的部分力。結(jié)果，可減輕上陣列基板的波紋，并改善盒間隙的均勻性。
顯然本領(lǐng)域技術(shù)人員在不偏離本發(fā)明的精神或范圍的條件下，可對本發(fā)明的液晶顯示板及其制造方法進行多種變型和改變。因此，本發(fā)明意在覆蓋本發(fā)明的變型和改變，只要這些變型和改變處于所附權(quán)利要求的范圍及其等效范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示板，包括彼此相對設(shè)置的上陣列基板和下陣列基板；設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的液晶；從下陣列基板凸出的突起；以及設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的襯墊料，所述襯墊料具有與突起接觸的第一部分和與上陣列基板接觸的第二部分，并且所述第一部分具有第一硬度，所述第一硬度不同于第二部分的第二硬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示板，其特征在于，所述第一硬度大于第二硬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示板，其特征在于，所述第一部分具有第一分子鏈結(jié)構(gòu)，其中第一分子鏈結(jié)構(gòu)的緊密度高于第二部分中的第二分子鏈結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示板，其特征在于，所述襯墊料包括多官能單體、多官能低聚物、多官能聚合物和光引發(fā)劑的至少其中之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示板，其特征在于，所述多官能單體為多官能丙烯酸酯單體，多官能低聚物為雙官能丙烯酸酯低聚物，多官能聚合物為丙烯酸酯共聚物和活性聚合物的至少其中之一，光引發(fā)劑為Irgacure-369和對苯二酸的至少其中之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示板，其特征在于，所述襯墊料的第一部分具有比該襯墊料的第二部分更多的多官能單體和多官能低聚物。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示板，其特征在于，所述上陣列基板包括限定單元區(qū)域的黑矩陣以及位于黑矩陣所劃分的單元區(qū)域中的濾色片，所述下陣列基板包括彼此交叉的信號線，靠近信號線交叉點處設(shè)置的薄膜晶體管，以及與薄膜晶體管相連的像素電極。
8.一種液晶顯示板的制造方法，包括提供具有第一薄膜圖案的上陣列基板；提供具有第二薄膜圖案的下陣列基板；在下陣列基板上形成突起；在上陣列基板上形成襯墊料，所述襯墊料包括具有第一硬度的第一部分和具有第二硬度的第二部分，其中第二硬度與第一硬度不同；在上陣列基板與下陣列基板之間設(shè)置液晶；以及粘接上陣列基板與下陣列基板，使得所述襯墊料的第一部分與突起相接觸，而所述襯墊料的第二部分與上陣列基板相接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述第一硬度大于第二硬度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述第一部分具有第一分子鏈結(jié)構(gòu)，其中第一分子鏈結(jié)構(gòu)的緊密度高于所述第二部分中的第二分子鏈結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述形成襯墊料的步驟包括在所述上陣列基板上形成包括多官能單體、多官能低聚物、多官能聚合物和光引發(fā)劑至少其中之一的襯墊料材料；將襯墊料材料曝光；并且通過顯影工序去除被曝光區(qū)域之外的襯墊料材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法，其特征在于，所述將襯墊料材料曝光的步驟包括通過曝光襯墊料，使多官能單體、多官能低聚物和多官能聚合物的分布在襯墊料材料中分成第一部分和第二部分，從而使多官能單體、多官能低聚物和多官能聚合物的分布在所述第一和第二部分中不同。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述上陣列基板包括限定單元區(qū)域的黑矩陣以及位于黑矩陣所劃分的單元區(qū)域中的濾色片，所述下陣列基板包括彼此相交叉的信號線，靠近信號線交叉點處設(shè)置的薄膜晶體管，以及與薄膜晶體管相連的像素電極。
14.一種液晶顯示板，包括彼此相對設(shè)置的上陣列基板和下陣列基板；設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的液晶；從所述下陣列基板凸出的突起；以及設(shè)置在所述上陣列基板與下陣列基板之間的襯墊料，所述襯墊料具有與所述突起相接觸的第一部分和與所述上陣列基板相接觸的第二部分，并且所述襯墊料的第一部分具有第一分子鏈結(jié)構(gòu)，該第一分子鏈結(jié)構(gòu)具有比所述襯墊料第二部分中的第二分子鏈結(jié)構(gòu)更高的緊密度。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示板，其特征在于，所述襯墊料包括多官能單體、多官能低聚物、多官能聚合物和光引發(fā)劑的至少其中之一。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的液晶顯示板，其特征在于，所述多官能單體為多官能丙烯酸酯單體，多官能低聚物為雙官能丙烯酸酯低聚物，多官能聚合物為丙烯酸酯共聚物和活性聚合物的至少其中之一，并且光引發(fā)劑為Irgacure-369和對苯二酸的至少其中之一。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的液晶顯示板，其特征在于，所述襯墊料的第一部分具有比該襯墊料的第二部分更多的多官能單體和多官能低聚物。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種液晶顯示板，其包括彼此相對設(shè)置的上陣列基板和下陣列基板；設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的液晶；從下陣列基板凸出的突起；以及設(shè)置在上陣列基板與下陣列基板之間的襯墊料，所述襯墊料具有與突起接觸的第一部分和與上陣列基板接觸的第二部分，并且所述第一部分具有第一硬度，所述第一硬度不同于第二部分的第二硬度。
文檔編號H01L27/12GK1854824SQ20051013221
公開日2006年11月1日 申請日期2005年12月22日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月29日
發(fā)明者尹性會 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社