光學(xué)補償薄膜用共聚物的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及光學(xué)補償薄膜用共聚物。更詳細(xì)而言，本發(fā)明設(shè)及光學(xué)補償薄膜用共 聚物，所述光學(xué)補償薄膜用共聚物能夠得到顯示負(fù)的取向雙折射性，透明性、耐熱性、薄膜 強度及光學(xué)特性優(yōu)異，且適用于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜。
【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示器的光學(xué)補償薄膜廣泛使用將樹脂薄膜單軸拉伸或雙軸拉伸而得到的 拉伸薄膜。作為光學(xué)補償薄膜的代表，有相位差薄膜，廣泛使用改變偏光的振動方向的入/2 板、將圓形偏光變?yōu)橹本€偏光或?qū)⒅本€偏光變?yōu)閳A形偏光的人/4板。
[0003] 相位差薄膜要求在寬廣視野范圍中進(jìn)行光學(xué)補償，即使對于傾斜方向的入射光， 相位差也不發(fā)生變化是極其重要的特性。對于該種要求特性，專利文獻(xiàn)1中公開了包含具 有負(fù)的取向雙折射性的透明拉伸薄膜與具有正的取向雙折射性的透明拉伸薄膜的層疊體 而成的液晶顯示裝置。
[0004] 專利文獻(xiàn)2中公開了通過使用光學(xué)補償薄膜來擴寬液晶顯示裝置的視角的方法， 所述光學(xué)補償薄膜是將顯示負(fù)的取向雙折射性的拉伸薄膜與顯示正的取向雙折射性的拉 伸薄膜W使各拉伸薄膜的慢軸為平行方向的方式層疊而成的，面內(nèi)相位差巧e)為60? 300nm，取向參數(shù)（Nz)為0.5 + 0. 1的范圍內(nèi)。進(jìn)而，公開了顯示負(fù)的固有雙折射性的拉伸 薄膜為由a -締姪及N-苯基取代馬來酷亞胺形成的共聚物與丙締膳-苯己締共聚物的樹 脂組合物。
[0005] 顯示正的取向雙折射性的熱塑性樹脂有聚碳酸醋、非晶性的環(huán)狀聚締姪等，由于 耐熱性、透明性、薄膜強度、相位差表現(xiàn)性優(yōu)異，因此可適宜地用于光學(xué)補償薄膜用。另一方 面，作為顯示負(fù)的取向雙折射性的熱塑性樹脂，耐熱性、透明性、薄膜強度、相位差表現(xiàn)性均 差，因此實用化的例子極少，主要實用化的產(chǎn)品是將多張顯示正的取向雙折射性的拉伸薄 膜W適當(dāng)?shù)慕嵌荣N合而成的產(chǎn)物。因此，光學(xué)補償設(shè)計復(fù)雜且成本也高，光學(xué)補償性能也不 充分。從提高光學(xué)補償性能、簡化光學(xué)設(shè)計、降低成本的觀點出發(fā)，正在期待能夠作為光學(xué) 補償薄膜用而實際應(yīng)用的、顯示負(fù)的取向雙折射性的熱塑性樹脂的出現(xiàn)。
[0006] 針對該些要求，專利文獻(xiàn)3中提出了透明性、耐熱性、薄膜成型性、薄膜強度、及相 位差表現(xiàn)性優(yōu)異的熱塑性樹脂共聚物W及顯示負(fù)的取向雙折射性的拉伸薄膜。確實只要是 通常的薄膜成型加工，薄膜成型性就良好，但在光學(xué)補償用薄膜的情況下，需要沒有異物的 極其美觀的薄膜，在通過烙融擠出制造薄膜時，為了去除異物，大多使用網(wǎng)孔極小的聚合物 過濾器，專利文獻(xiàn)3的熱塑性樹脂共聚物的烙融粘度高，因此有時容易在聚合物過濾器內(nèi) 滯留，并且在壓力損耗對策中需要較高的設(shè)定溫度，有時會發(fā)生樹脂熱分解導(dǎo)致的發(fā)泡、模 具劃痕（die line),存在實用范圍受到限制的問題。
[0007] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) [000引專利文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)1 ;日本特開平2-256023號公報
[0010] 專利文獻(xiàn)2 ;日本特開2007-24940號公報
[001U 專利文獻(xiàn)3 ;W02009/031544號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[00。] 發(fā)巧要解決的間願
[0013] 本發(fā)明的目的在于提供光學(xué)補償薄膜用共聚物，其能夠得到顯示負(fù)的取向雙折射 性，透明性、耐熱性、薄膜強度及光學(xué)特性優(yōu)異，且適用于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜。
[0014] 用于解決間願的方秦
[0015] 本發(fā)明的主旨如下所述。
[0016] (1) 一種光學(xué)補償薄膜用共聚物，其包含芳香族己締基單體單元45?80質(zhì)量％、 (甲基）丙締酸醋單體單元5?45質(zhì)量％、不飽和二駿酸酢單體單元5?20質(zhì)量％，數(shù)均 分子量（Mn)為5. 5萬?9萬，且重均分子量（Mw)為14萬?20萬，基于ASTM D1003測定 的2mm厚度的霧度為1 % W下。
[0017] (2)根據(jù)（1)所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其中，芳香族己締基單體單元為55? 75質(zhì)量％、（甲基）丙締酸醋單體單元為15?35質(zhì)量％、不飽和二駿酸酢單體單元為10? 15質(zhì)量％。
[0018] (3)根據(jù)（1)或（2)所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其中，芳香族己締基單體單元 為苯己締單元。
[0019] (4)根據(jù)（1)?做中的任一項所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其中，（甲基）丙 締酸醋單體單元為甲基丙締酸甲醋單元。
[0020] 妨根據(jù)（1)?（4)中的任一項所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其中，不飽和二駿 酸酢單體單元為馬來酸酢單元。
[0021] 做根據(jù)（1)?妨中的任一項所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其特征在于，其用 于將薄膜A與薄膜B層疊而形成nx〉nz〉ny的折射率分布的光學(xué)補償薄膜，是在薄膜A中 使用的熱塑性樹脂，所述薄膜A是將顯示負(fù)的取向雙折射性的熱塑性樹脂薄膜拉伸而得到 的，所述薄膜B是將顯示正的取向雙折射性的熱塑性樹脂薄膜拉伸而得到的。
[002引 （7)根據(jù)做所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其特征在于，薄膜A是將通過烙融擠 出而制造的薄膜拉伸而形成的。
[0023] (8)根據(jù)（6)或（7)所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其特征在于，化系數(shù)為0.4? 0? 6。
[0024] (9)根據(jù)（6)?巧）中的任一項所述的光學(xué)補償薄膜用共聚物，其特征在于，通過 使薄膜A與薄膜B W慢軸垂直相交的方式層疊，從而波長450nm、590nm及750nm下的面內(nèi) 相位差 Re (450)、Re 巧90)及 Re (750)滿足 Re (450) <Re 巧90) <Re (750)的關(guān)系。
[00巧]發(fā)巧的效果
[0026] 本發(fā)明提供一種光學(xué)補償薄膜用共聚物，其能夠得到顯示負(fù)的取向雙折射性，透 明性、耐熱性、薄膜強度及光學(xué)特性優(yōu)異，且適用于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜。
【具體實施方式】
[0027] <用語說明〉
[002引本說明書中，"?"的記號是指"W上"并且"W下"，例如記載為"A?B"是指AW 上且B W下。
[0029] W下，對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0030] 作為芳香族己締基單體單元，可列舉出來自苯己締、鄰甲基苯己締、間甲基苯己 締、對甲基苯己締、2, 4-二甲基苯己締、己基苯己締、對叔了基苯己締、a -甲基苯己締、 曰-甲基-對甲基苯己締等各苯己締系單體的單元。在該些中，優(yōu)選為苯己締單元。該些芳 香族己締基單體單元可W使用1種，也可W組合使用2種W上。
[0031] 作為（甲基）丙締酸醋單體單元，可列舉出來自甲基丙締酸甲醋、甲基丙締酸己 醋、甲基丙締酸正了醋、甲基丙締酸-2-己基己醋、甲基丙締酸二環(huán)戊基醋、甲基丙締酸 異冰片醋等各種甲基丙締酸醋單體、W及丙締酸甲醋、丙締酸己醋、丙締酸正了醋、丙締 酸-2-甲基己醋、丙締酸-2-己基己醋、丙締酸癸醋等各丙締酸醋單體的單元。在該些中， 優(yōu)選為甲基丙締酸甲醋單元。該些（甲基）丙締酸醋單體單元可W使用1種，也可W組合 使用2種W上。
[0032] 作為不飽和二駿酸酢單體單元，可列舉出來自馬來酸酢、衣康酸酢、巧康酸酢、烏 頭酸酢等各種酸酢單體的單元。在該些中，優(yōu)選為馬來酸酢單元。不飽和二駿酸酢單體單 元可W使用1種，也可W組合使用2種W上。
[0033] 本發(fā)明的共聚物的結(jié)構(gòu)單元為芳香族己締基單體單元45?80質(zhì)量％、（甲基）丙 締酸醋系單體單元5?45質(zhì)量％、不飽和二駿酸酢單體單元5?20質(zhì)量％，優(yōu)選為芳香族 己締基單體單元55?75質(zhì)量％、（甲基）丙締酸醋單體單元15?35質(zhì)量％、不飽和二駿 酸酢單體單元10?15質(zhì)量％。
[0034] 芳香族己締基單體單元若為80質(zhì)量％ ^下，則耐熱性或薄膜強度提高；若為75質(zhì) 量％ ^下，則耐熱性或薄膜強度進(jìn)一步提高，故為優(yōu)選。（甲基）丙締酸醋單體單元若為45 質(zhì)量％ ^下，則光學(xué)特性、特別是負(fù)的取向雙折射性提高，并且在進(jìn)行利用烙融擠出的薄膜 成型加工時可得到適用于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜；若為35質(zhì)量％ ^下，則負(fù)的取向雙 折射性進(jìn)一步提高，且可得到更加美觀的薄膜，故為優(yōu)選。不飽和二駿酸酢單體單元若為 20質(zhì)量％ ^下，則薄膜強度提高，并且在進(jìn)行利用烙融擠出的薄膜成型加工時可得到適用 于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜；若為15質(zhì)量％ ^下，則薄膜強度進(jìn)一步提高，且可得到更 加美觀的薄膜，故為優(yōu)選。另一方面，芳香族己締基單體單元若為45質(zhì)量％ ^上，則光學(xué)特 性、特別是負(fù)的取向雙折射性提高，并且在進(jìn)行利用烙融擠出的薄膜成型加工時可得到適 用于光學(xué)補償薄膜的美觀的薄膜；若為55質(zhì)量％ ^上，則負(fù)的取向雙折射性進(jìn)一步提高， 且可得到更加美觀的薄膜，故為優(yōu)選。（甲基）丙締酸醋單體單元若為5質(zhì)量％ ^上，則透 明性