專利名稱：：薄膜涂覆裝置和方法以及生產(chǎn)液晶顯示器的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及薄膜涂覆裝置、涂覆薄膜的方法、使用軟X-射線生產(chǎn)液晶顯示器的方法以及采用該方法生產(chǎn)的液晶顯示器。由于液晶顯示器可以在低電壓下驅(qū)動、重量輕且可提供高質(zhì)量的圖像，因而已有效地將其引入像個人計算機(jī)和字處理器之類的OA(辦公自動化)設(shè)備的領(lǐng)域。當(dāng)液晶顯示器用于這些用途時，通常采用的是扭轉(zhuǎn)向列型的器件，其中，向列型液晶分子的取向在一對上部和下部電極襯底的表面之間扭轉(zhuǎn)90°。液晶分子的扭轉(zhuǎn)角增加到像180°-300°這樣大的液晶顯示器通稱為超扭轉(zhuǎn)向列型。此外，為了實(shí)現(xiàn)矩陣顯示或彩色顯示，近年來積極地開發(fā)采用MIM(金屬-絕緣層-金屬)電路元件(通過它可以實(shí)現(xiàn)大量象素電極的ON-OFF)或采用TFT(場效應(yīng)型薄膜晶體管)電路元件的有源矩陣式扭轉(zhuǎn)向列型液晶顯示器。在日本專利公開公報Hei2-2525中公開了一種技術(shù)，其中，將并行的X-射線照射到其表面?zhèn)溆蠿-射線抗蝕層的襯底上，然后將該襯底浸入顯影劑和漂洗液中以增加襯底表面上形成的液晶分子的預(yù)傾斜(pretilt)角。根據(jù)該公報中所公開的這項(xiàng)技術(shù)，將X-射線抗蝕層暴露在X-射線下，然后浸入顯影劑和漂洗液中以便在X-射線抗蝕層的表面上形成顯微的凹凸部分從而使液晶分子定位。在日本專利公開公報Hei8-211622中公開了應(yīng)用軟X-射線脫靜電效應(yīng)來涂覆薄膜的裝置的實(shí)例。另一方面，在日本專利公開公報Hei8-45695和Hei8-124695中，公開了采用軟X-射線消除靜電的裝置。這些公報中所公開的裝置主要是將采用軟X-射線電離了的空氣鼓吹到物體上。根據(jù)本發(fā)明人幾年前提交的申請所公開的日本專利公開公報Hei8-50293中，公開了一些包括在摩擦處理后在氣體中用X-射線照射取向膜以生產(chǎn)液晶顯示器的方法。更準(zhǔn)確而言，在該公開中說明了一種技術(shù)，其中將軟X-射線照射到通過摩擦處理活化了的取向膜上，以降低該取向膜的表面能從而防止在液晶顯示器中發(fā)生不均勻顯示。由于已進(jìn)入了多媒體時期，且已在尋求多種字符顯示和圖形顯示，因此，必然要著手?jǐn)U展液晶顯示器的屏幕尺寸、獲得大量的象素和精密的顯示。為了適應(yīng)上述情況，液晶顯示器的產(chǎn)量在某種程度上處于降低的趨勢?？梢蕴峒暗囊恍┯绊懏a(chǎn)量降低的因素有在一部分屏幕上出現(xiàn)具有不同對比度或不同色度區(qū)域的上述不均勻顯示，以及發(fā)生象素缺陷，例如在黑顯示時象素變得無光的白缺陷，和在白顯示時該象素不傳送光的黑缺陷。在生產(chǎn)液晶顯示器的步驟中，會出現(xiàn)許多例如所謂塵埃、反應(yīng)產(chǎn)物和襯底碎片或周圍物質(zhì)的顆粒。這些顆粒會滑移到液晶顯示器中并成為上述不均勻顯示和象素缺陷的主要原因。隨著凈化技術(shù)的改進(jìn)，大顆粒已經(jīng)很少滑移到顯示器中。然而，仍然難以完全除去如像由人體產(chǎn)生的脂肪酸那樣極細(xì)的顆粒。近來，為了除去極細(xì)的顆粒，采用能噴射空氣的噴嘴像用擦凈器那樣操作的方式進(jìn)行干式洗滌處理，以及采用純水或有機(jī)溶劑進(jìn)行溫式洗滌處理。然而，采用干式洗滌處理難以完全除去極細(xì)的顆粒。有人指出，采用溫式洗滌處理，極少量的雜質(zhì)甚至?xí)谙礈煲褐?，而且，也難以將這些雜質(zhì)完全除去。另一方面，眾所周知在生產(chǎn)液晶顯示屏的步驟中，特別是在輸送玻璃襯底時，或在薄膜涂覆步驟或類似的操作中可產(chǎn)生例如6-10keV這樣極高的靜電。結(jié)果，一些顆粒就容易通過所產(chǎn)生的靜電粘附在襯底上，這一事實(shí)已成為液晶顯示器產(chǎn)量降低的最主要原因。鑒于靜電的問題，盡管有一種方法，其中采用增濕器將濕度增加到60-70％，或另一種方法，其中安裝了離子發(fā)生器用以克服上述顆粒的粘附，然而，這些方法仍不足以解決問題?？梢蕴峒暗撵o電的有害作用有，由于靜電擊穿、有源器件失靈等造成電極的斷路或短路。如上所述，為了增加液晶顯示器的產(chǎn)量，重要的是減少生產(chǎn)設(shè)備中的顆粒數(shù)量，以便抑制由于靜電而使顆粒粘附到襯底上，并通過洗滌將粘附的顆粒除去。然而，根據(jù)常規(guī)的方法，難以從根本上解決這些問題。在涂覆或形成如像光刻膠、絕緣膜和取向膜這類薄膜的步驟中，甚至通過洗滌處理，也難以除去在涂覆、蒸發(fā)和干燥步驟中粘附在襯底表面上的顆粒，這是因?yàn)樵趯⒕哂辛鲃有缘囊后w涂覆在該襯底表面上之后的一些步驟中，溶劑會蒸發(fā)，且這樣形成的薄膜會干燥；因此，這個困難變成特別嚴(yán)重的問題。本發(fā)明的目的是改進(jìn)如上所述的現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷；提供涂覆薄膜的裝置和方法，該裝置和方法對于消除在生產(chǎn)液晶顯示器的一些步驟中所產(chǎn)生的靜電是有效的；提供一些方法，其中在生產(chǎn)液晶顯示器的一些步驟中所產(chǎn)生的靜電可以有效地消除，以增加產(chǎn)量；并提供采用上述方法所生產(chǎn)的液晶顯示器。在上述日本專利公開公報Hei8-50293中，公開了一種技術(shù)，其中在摩擦處理后，將軟X-射線照射襯底的表面。然而，由于本發(fā)明人努力研究的結(jié)果，已發(fā)現(xiàn)在生產(chǎn)液晶顯示器的過程中，在摩擦處理之前的步驟中通過將軟X-射線照射襯底的表面可以有效地防止不均勻顯示發(fā)生，導(dǎo)致完成了本發(fā)明。本發(fā)明概述如下(1)一種薄膜涂覆裝置，該裝置包括能夠在該裝置中移動襯底的襯底移動部分，在該襯底上形成薄膜的涂覆部分，以及在襯底移動部分或襯底涂覆部分發(fā)射軟X-射線到襯底上的軟X-射線照射部分。(2)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中在軟X-射線照射部分中的軟X-射線的能量為4-9.5keV。(3)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中從襯底到軟X-射線源的距離小于1500mm。(4)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中軟X-射線照射部分包括能夠分別在涂覆部分的前面和后面的位置發(fā)射軟X-射線到襯底上的第一和第二軟X-射線照射部分。(5)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是光刻膠膜。(6)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是絕緣膜。(7)上述(1)中的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是取向膜。(8)一種涂覆薄膜的方法，該方法包括采用上述(1)中的薄膜涂覆裝置，將該襯底安置在襯底移動部分上，并在涂覆部分中在襯底上形成薄膜。(9)上述(8)中的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是光刻膠膜。(10)上述(8)中的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是絕緣膜。(11)上述(8)中的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是取向膜。(12)一種生產(chǎn)液晶顯示器的方法，該方法包括在一對透明襯底的表面上形成透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，根據(jù)預(yù)定的圖案在襯底表面上涂覆光刻膠的步驟，使涂覆在襯底上的光刻膠曝光的步驟，將該襯底進(jìn)行蝕刻處理的步驟，將該光刻膠從襯底上脫除的步驟，檢查透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，在該襯底上形成絕緣膜的步驟，在該襯底上形成取向膜的步驟，摩擦該襯底上形成的取向膜的步驟，在該襯底上涂布間隔層的步驟，在該襯底上涂覆密封劑的步驟，堆疊襯底的步驟，在襯底之間保持預(yù)定厚度的間隙的步驟，將襯底切割成預(yù)定尺寸的步驟，在間隙中填充液晶材料的步驟，將偏振片粘貼在該襯底上的步驟，以及將驅(qū)動器IC連接到透明電極上的步驟，包括在摩擦取向膜步驟之前的至少一個步驟中在氣體中用軟X-射線照射該襯底的改進(jìn)。(13)上述(12)中的生產(chǎn)液晶顯示器的方法，其中該軟X-射線的照射能量為4-9.5keV。(14)上述(12)中的生產(chǎn)液晶顯示器的方法，其中從該襯底到軟X-射線源的距離小于1500mm。(15)一種采用上述(12)中的方法生產(chǎn)的液晶顯示器。(16)上述(15)中的液晶顯示器，其中該液晶材料是包括至少一種以通式(2)或(3)表示的化合物的混合物式中R1和R3獨(dú)立地代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或具有2-10個碳原子的鏈烯基；R2和R4獨(dú)立地代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或烷氧基、-CN、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2；S1、S2、S3和S4獨(dú)立地代表氫原子、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2；Z1、Z2和Z3獨(dú)立地代表-COO-、-CH2CH2-、-C≡C-或單鍵；A1、A2和A3獨(dú)立地代表或本發(fā)明的薄膜涂覆裝置的特征在于具有可在該裝置中移動或轉(zhuǎn)移襯底的襯底移動部分，在該襯底上形成薄膜的涂覆部分，將軟X-射線發(fā)射到襯底移動部分或襯底涂覆部分中的襯底上的軟X-射線照射部分。本發(fā)明的基本原理是在涂覆或形成薄膜的步驟中在襯底上產(chǎn)生的靜電可以容易地和有效地通過經(jīng)具有長波長的軟X-射線離子化氣態(tài)離子的吸收而消除，通過靜電消除作用可以防止涂覆了的表面上粘附顆粒和靜電擊穿，以提高產(chǎn)品的產(chǎn)量。用于本發(fā)明的軟X-射線照射裝置并沒有特別的限制，就軟X-射線的能量而言，只要它們能穩(wěn)定地控制其輸出為4-9.5keV即可。軟X-射線的照射時間也沒有特別的限制。然而，它通常為0.5秒或更長且優(yōu)選2-300秒。當(dāng)照射時間小于0.5秒時，軟X-射線照射的效果不大。雖然軟X-射線照射所經(jīng)過的距離沒有特別的限制，但是通常將該距離調(diào)節(jié)到小于1500mm且優(yōu)選10-400mm。用于本發(fā)明的軟X-射線照射裝置可以裝載在旋涂型光刻膠涂覆裝置、絕緣膜涂覆裝置或取向膜涂覆裝置上使用，這些裝置備有(a)稱之為給料器的溶液供給設(shè)備，可使溶液滴落到具有在其一側(cè)上形成的預(yù)定電極的透明襯底表面上和(b)用于通過離心力攤平滴落在透明襯底表面上的涂覆溶液的旋轉(zhuǎn)臺。在本發(fā)明中，軟X-射線在哪種氣氛中照射完全沒有限制，只要它是氣體即可。作為優(yōu)選的氣體可以提及的有空氣、氮?dú)狻⒍趸細(xì)?、水蒸汽、氦、氖、氬、它們中的至少一種與氧的混合氣、及其混合氣。用于本發(fā)明的軟X-射線由于其能量較低，在其穿過物質(zhì)的能力上是極弱的。其能力處于這樣的能級，在該能級下傳送軟X-射線能夠容易地被透明聚氯乙烯板或類似的材料屏蔽，因而軟X-射線對人體并不造成威脅，而且甚至從安全監(jiān)督的觀點(diǎn)來看也不會出現(xiàn)問題。參照附圖對采用光刻膠作為薄膜的本發(fā)明的薄膜涂覆裝置敘述如下。圖1是本發(fā)明的光刻膠涂覆裝置實(shí)例的前視圖。圖2是本發(fā)明的光刻膠涂覆裝置實(shí)例的側(cè)視圖。圖3是本發(fā)明的光刻膠涂覆裝置實(shí)例的平面圖。圖4是本發(fā)明的取向膜涂覆裝置實(shí)例的前視圖。圖5是本發(fā)明的取向膜涂覆裝置實(shí)例的側(cè)視圖。圖6是本發(fā)明的取向膜涂覆裝置實(shí)例的平面圖。圖1、2和3分別是說明本發(fā)明的一個實(shí)施方案的光刻膠涂覆裝置的前視圖、側(cè)視圖和平面圖。光刻膠涂覆裝置1主要由玻璃或類似材料制成并放在旋轉(zhuǎn)臺4表面上的透明襯底3組成；用來將光刻膠溶液滴落在透明襯底3表面上的給料器2；包括在上述旋轉(zhuǎn)臺4中且能抬高透明襯底3的一邊以便于將透明襯底3從旋轉(zhuǎn)臺4上拆除的自由突出式上推銷釘(freelyprojectablepushuppin)6；用于在襯底表面上照射軟X-射線的裝置8和9。在圖中，5是基座，10是軟X-射線的照射窗，12是裝置8的支桿，13是配備在柱11上用于支桿的金屬聯(lián)軸器。在上述結(jié)構(gòu)中，當(dāng)按操作段7中的啟動鈕(圖中未示出)時，預(yù)定量的光刻膠溶液即從給料器2中滴落在通過真空吸附固定在旋轉(zhuǎn)臺4上且其上具有形成了透明電極的透明玻璃襯底3的表面上，旋轉(zhuǎn)臺4按預(yù)定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)，從而使光刻膠溶液涂覆在該襯底的整個表面上。雖然在附圖中示出的光刻膠涂覆裝置中裝備了兩個軟X-射線照射裝置，第一個軟X-射線照射裝置8是在光刻膠涂覆處理實(shí)際上進(jìn)行(換言之，在光刻膠涂覆處理的過程中)的位置上照射旋轉(zhuǎn)臺4上的透明襯底，而第二個軟X-射線照射裝置9是在涂覆處理之前或之后準(zhǔn)備或等待(換言之在涂覆處理之前或之后)的位置(圖1的右邊)上照射旋轉(zhuǎn)臺4上的透明襯底3。調(diào)節(jié)軟X-射線照射裝置8和9的照射范圍(斜紋陰影區(qū))，致使軟X-射線從照射窗口10按110°(θ)的角度呈錐形照射到所有的方向。照射強(qiáng)度按照與距離的平方成反比增加，因此，當(dāng)比較照射范圍的中心部分和末端部分的照射強(qiáng)度時，末端部分的照射強(qiáng)度約小20％。因此，兩個軟X-射線照射裝置這樣安裝，致使它們能按任選高度和任選角度放置在基座5上。具體而言，軟X-射線照射裝置8，例如與可按基座5上的任選位置安裝的柱11一起堅固地支持在基座5上，支桿12可任意地按垂直于柱11的方向安置，呈夾鉗形式的金屬聯(lián)軸器13可以相對可移動的方式牢固地與柱和支桿連接。此外，用于本發(fā)明的軟X-射線照射裝置可以裝載在膠印型光刻膠涂覆裝置、絕緣膜涂覆裝置或取向膜涂覆裝置上使用，這些裝置備有(a)按平行于透明襯底表面固定的筒形印刷輥，該透明襯底具有在其一側(cè)上形成的預(yù)定電極且與印刷輥表面之間的距離可以改變(b)在旋轉(zhuǎn)該輥時，按預(yù)定方向相對于透明襯底移動印刷輥的驅(qū)動設(shè)備。圖4、5和6分別是說明本發(fā)明另一個實(shí)施方案的取向膜涂覆裝置的前視圖、側(cè)視圖和平面圖。取向膜涂覆裝置21主要由玻璃或類似材料的透明襯底22組成，該襯底具有在其一側(cè)形成的預(yù)定電極；在其上放置了襯底22的可移動臺23；以可移動方式水平支承的旋轉(zhuǎn)式筒形印刷輥24，這樣它能夠與放置在可移動臺23上的透明襯底22接觸，并具有環(huán)繞其外周圍表面的浮雕；用于傳送溶液以便在該凹形物的表面上形成取向膜的anirox輥25；用于滴落溶液以便形成取向膜的的給料器26；用于鋪平滴落的取向膜溶液的刮刀輥27。臺23以這樣的方式支承，即，它可以通過所謂的線性導(dǎo)向裝置按往返的方向(圖5中左和右的方向)移動，該導(dǎo)向裝置包括一對平行固定在基座28上的軌道29和滑動地裝配在其上的支承部件30，并通過由排列在軌道29和用球狀螺母擰緊的螺母元件32之間的球狀螺母31組成的所謂直接驅(qū)動裝置用伺服電動機(jī)(圖中未示出)驅(qū)動。在臺23頂面上，包括能夠抬高透明襯底22一邊的可自由上推的銷釘33，以便于將襯底22從臺23上拆除。筒形印刷輥24通過電動機(jī)轉(zhuǎn)動，并以柱部分34(基座28)支承，致使它能夠平行地按向上和向下的方向移動?；谏鲜鼋Y(jié)構(gòu)，當(dāng)按操作段35中的啟動鈕(圖中未示出)時，筒形印刷輥24按預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)，并按預(yù)定的距離下降，臺23按預(yù)定的速度移動，從而在透明玻璃襯底22表面上進(jìn)行取向膜涂覆，該透明玻璃襯底通過真空吸附固定在臺23上且其上具有形成的透明電極。雖然在本發(fā)明的取向膜涂覆裝置中甚至可以安裝兩個軟X-射線照射裝置(36和37)，第一個軟X-射線照射裝置36是在實(shí)際上進(jìn)行取向膜涂覆的位置上(換言之，在取向膜涂覆處理的過程中)照射臺23上的透明襯底22，而第二個軟X-射線照射裝置37是在涂覆處理之后(換言之在取向膜涂覆處理之后)當(dāng)臺23處于準(zhǔn)備或等待的位置(圖5的右邊)時，照射臺23上的透明襯底22。如上所述，雖然用于本發(fā)明的軟X-射線照射裝置在生產(chǎn)液晶顯示器的步驟中可以裝載在光刻膠涂覆裝置、絕緣膜涂覆裝置或取向膜涂覆裝置上使用，但是，本發(fā)明的這些裝置可以應(yīng)用到除上述裝置以外的任一種裝置上，只要它們是如像用于生產(chǎn)半導(dǎo)體的步驟中所用的光刻膠涂覆裝置和絕緣膜涂覆裝置(在這些裝置中，靜電的產(chǎn)生成為問題)即可。本發(fā)明的液晶顯示器的生產(chǎn)方法包括在一對透明襯底的表面上形成透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，根據(jù)預(yù)定的圖案在襯底表面上涂覆光刻膠的步驟，使涂覆在襯底上的光刻膠曝光的步驟，將該襯底進(jìn)行蝕刻處理的步驟，將該光刻膠從襯底上脫除的步驟，檢查透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，在該襯底上形成絕緣膜的步驟，在該襯底上形成取向膜的步驟，摩擦該襯底上形成的取向膜的步驟，在該襯底上涂布間隔層的步驟，在該襯底上涂覆密封劑的步驟，堆疊襯底的步驟，在襯底之間保持預(yù)定厚度的間隙的步驟，將襯底切割成預(yù)定尺寸的步驟，在間隙中填充液晶材料的步驟，將偏振片粘貼在該襯底上的步驟，以及將驅(qū)動器IC連接到上述透明電極上的步驟，該方法的特征在于在上述摩擦處理之前的至少一個步驟中在氣體中用軟X-射線照射該襯底。在本發(fā)明生產(chǎn)液晶顯示器的方法中所用的軟X-射線照射裝置可以裝載在各種裝置上。即，該軟X-射線照射裝置可以裝載在以下裝置上使用薄膜形成裝置，通過該裝置，采用濺射、等離子體CVD或真空淀積的方法，在透明襯底上形成透明電極和半導(dǎo)體電路元件；光刻膠涂覆裝置；接近式、透鏡投影型或反射鏡投影型光刻膠曝光裝置；采用氣體等離子體用于化學(xué)干蝕刻的或采用鹽酸、硝酸、氫氟酸等用于濕蝕刻的蝕刻裝置；采用強(qiáng)堿用于化學(xué)脫除過程或用于氧等離子體灰化過程的光刻膠脫除裝置；透明電極或半導(dǎo)體電路元件的檢查裝置；絕緣膜涂覆裝置；取向膜涂覆裝置。這些軟X-射線照射裝置并沒有特別的限制，通常只要它們能在液晶顯示器進(jìn)行摩擦處理之前的各個步驟中使用即可。在本發(fā)明中，優(yōu)選聚酰亞胺樹脂用作形成取向膜的材料?？梢圆捎玫木埘啺肥峭ㄟ^采用具有通式(1)表示的結(jié)構(gòu)單元的聚酰胺酸作為其前體制備的材料式中R1代表四價脂環(huán)族烴、芳族烴或雜環(huán)族烴的殘余物，其中它可以具有一種基團(tuán)例如鹵素，R2代表二價烴的殘余物，其中它可以具有-O-、-S-、鹵素原子或氰基。即，通過將二氨基化合物與具有芳環(huán)的四羧酸二酐例如均苯四酸二酐，或脂環(huán)族二酐例如環(huán)丁烷酸等反應(yīng)而得的聚酰胺酸均優(yōu)選采用。作為四羧酸二酐可以提及的有芳族四羧酸二酐例如均苯四酸二酐、3，3’，4，4’-聯(lián)苯四羧酸二酐、2，2’，3，3’-聯(lián)苯四羧酸二酐、2，3，3’，4’-聯(lián)苯四羧酸二酐、3，3’，4，4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2，3，3’，4’-二苯甲酮四羧酸二酐、2，2’，3，3’-二苯甲酮四羧酸二酐、雙(3，4-二羧基苯基)磺酸二酐、1，2，5，6-萘四羧酸二酐和2，3，6，7-萘四羧酸二酐，而作為脂環(huán)族四羧酸，具有環(huán)的脂環(huán)族四羧酸的二酐例如環(huán)丁烷、環(huán)己烷、環(huán)辛烷和二環(huán)辛烷以及具有以下結(jié)構(gòu)式之一的化合物均可提及式中m是1-4的整數(shù)作為是聚酰胺酸的起始材料的另一方面的二氨基化合物，芳族二氨基化合物可以提及的有例如1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-甲基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-乙基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-丙基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-丁基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-戊基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-己基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-庚基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]-4-辛基環(huán)己烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丁烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]戊烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]己烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]庚烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]辛烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]壬烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]癸烷、2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]十二烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]-4-甲基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]-4-乙基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]-4-丙基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]-4-丁基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]-4-戊基環(huán)己烷、1，1-雙[4-(4-氨基芐基)苯基]甲烷、4，4’-二氨基苯基醚、4，4’-二氨基二苯甲烷、4，4’-二氨基二苯砜、4，4’-二氨基二苯硫醚、4，4’-二(間-氨基苯氧基)二苯砜、4，4’-二(對-氨基苯氧基)二苯砜、鄰苯二胺、間苯二胺、對苯二胺、聯(lián)苯胺、2，2’-二氨基二苯甲酮、4，4’-二氨基二苯甲酮、4，4’-二氨基二苯基-2，2’-丙烷、1，5-二氨基萘、1，8-二氨基萘、和2，2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]六甲基丙烷和脂環(huán)族二氨基化合物例如1，4-二氨基環(huán)己烷和4，4’-二氨基二環(huán)己基甲烷。然而，用于本發(fā)明取向膜的起始材料的四羧酸二酐和二氨基化合物并不限于上述那些化合物。此外，酸酐和二氨基化合物可以采用其兩種或多種的組合。為了在襯底上形成本發(fā)明的取向膜，通常采用一種方法，其中將聚酰胺酸(它是聚酰亞胺化合物的前體且可通過四羧酸二酐與二氨基化合物縮合得到)溶于溶劑，然后將該溶液涂覆在襯底上并加熱以形成酰亞胺，因?yàn)榫埘啺坊衔锊蝗苡谌軇?。具體而言，可將聚酰胺酸溶于溶劑例如N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、二甲基乙酰胺(DMAC)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲亞砜(DMSO)、丁二醇一丁醚(BC)、二甘醇一乙醚、丙二醇一丁醚和3-甲基-3-甲氧基丁醇以制備具有濃度為0.1-30％(重量)、優(yōu)選1-10％(重量)的聚酰胺酸溶液，然后，采用刷涂法、浸涂法、旋涂法、噴涂法、印刷法等將該溶液涂覆在襯底上以便在該襯底上形成涂覆了的薄膜。形成薄膜后，在50-150℃、優(yōu)選80-120℃的溫度下將該溶劑蒸發(fā)除去，然后在150-400℃、優(yōu)選180-280℃的溫度下將該薄膜加熱以進(jìn)行脫氫環(huán)化反應(yīng)，從而形成包括聚芐基酰亞胺型聚合物的液晶取向膜。在這樣得到的聚合物膜粘附在襯底上不良的情況下，通過提前用硅烷偶合劑處理該襯底的表面，然后再形成聚合物膜，即可改進(jìn)其粘附。采用如上所述的這種方法，通過在襯底表面上形成有機(jī)聚合物薄膜，然后按某一規(guī)定的方向用布摩擦該薄膜的表面，即可獲得液晶的取向膜。作為用于本發(fā)明的液晶顯示器的液晶材料，除普通向列型液晶以外，任一種材料均可采用，只要這些材料是具有其中加進(jìn)了二色性染料的液晶、鐵電體液晶、反鐵電體液晶或可以用于普通顯示器的其他液晶。作為可以用于本發(fā)明的液晶組分，可以作為其實(shí)例提及的是通過以下通式(2)或(3)表示的液晶化合物式中R1代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或具有2-10個碳原子的鏈烯基；R2代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或烷氧基、-CN、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2；S1和S2代表氫原子、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2且這些原子或基團(tuán)可以是相同或不同的；Z1代表-COO-、-CH2CH2-、-C≡C-或單鍵；A1代表或式中R3具有與通式(2)中R1相同的意義；R4具有與通式(2)中R2相同的意義；S3和S4具有與通式(2)中S1和S2相同的意義，且它們可以是相同或不同的；Z2和Z3可以是相同或不同的，且具有與通式(2)中Z1相同的意義；A2和A3具有與通式(2)中A1相同的意義，且它們可以是相同或不同的。雖然這些液晶組合物可以由單一的組分或多種組分的混合物組成，然而，包括多種化合物的組合物是優(yōu)選的。此外，除上述的那些以外，可將其他化合物混入本發(fā)明的液晶顯示器所用的液晶混合物中，只要本發(fā)明的效果不受到損害即可?，F(xiàn)在，將參照一些實(shí)施例和對比例對本發(fā)明作更詳細(xì)的說明。然而，應(yīng)該理解的是，本發(fā)明的范圍絕不受這些具體的實(shí)施例和對比例的限制。實(shí)施例1通過采用裝備了軟X-射線照射裝置(HamamatsuPhotonicsCo.，Ltd.生產(chǎn)的L7120型)的旋涂型光刻膠涂覆裝置，以起始轉(zhuǎn)數(shù)為500rpm計3秒鐘、中等轉(zhuǎn)數(shù)為2000計5秒鐘、最后轉(zhuǎn)數(shù)為3000rpm計O.5秒鐘，將TokyoOhkaKogyoCo.，Ltd.生產(chǎn)的光刻膠(商品名OFPR-800)涂覆在其一側(cè)備有ITO電極的透明玻璃襯底表面上。此時，可以證實(shí)通過用軟X-射線照射5秒鐘，在其裝配到旋涂器(光刻膠涂覆裝置)之前，在玻璃襯底的輸送或其他操作期間，襯底表面上產(chǎn)生的大約5kV的靜電變?yōu)樾∮?00V。軟X-射線照射裝置的能量為6keV，且其電子管電壓和電子管電流分別為9.5kV和150微安。光刻膠涂覆完成后，在干凈的烘箱中于90℃下進(jìn)行預(yù)烘烤30分鐘以獲得厚度為1.4微米的光刻膠膜。將該襯底用15.6mW/cm2(405nm)的曝光裝置進(jìn)行接近曝光3秒鐘，用TokyoOhkaKogyoCo.，Ltd.生產(chǎn)的顯影劑(商品名NMD-32.38％)進(jìn)行浸漬式顯影60秒鐘，用超純水漂洗30秒鐘，然后在干凈的烘箱中于135℃下進(jìn)行后烘烤20分鐘。將該襯底用FeCl3＋HCl的酸進(jìn)行蝕刻處理，并用TokyoOhkaKogyoCo.，Ltd.生產(chǎn)的脫模液(商品名502A)脫除光刻膠。脫除完畢后，將該襯底用超純水漂洗、干燥并檢查ITO圖案中的短路和開路。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，與未照射軟X-射線的常規(guī)方法相比，通過用軟X-射線照射該襯底消除其靜電，從而減少了吸附在其上的灰塵量，ITO圖案的不合格率降低了10％。實(shí)施例2通過采用裝備了軟X-射線照射裝置(HamamatsuPhotonicsCo.，Ltd.生產(chǎn)的L7120型)的旋涂型絕緣膜涂覆裝置，在轉(zhuǎn)數(shù)為1000rpm下旋轉(zhuǎn)20秒鐘，將ChissoCorporation生產(chǎn)的用于形成絕緣膜的絕緣液(商品名LIXONCOATPMA-801P)涂覆到在其一側(cè)備有ITO電極的透明玻璃襯底表面上。經(jīng)證實(shí)通過軟X-射線照射，原來產(chǎn)生的10kV的最大靜電變?yōu)樾∮?00V。軟X-射線照射裝置的能量為6keV，且其電子管電壓和電子管電流分別為9.5kV和150微安。絕緣液涂覆完畢后，在100℃下干燥3分鐘，然后在熱空氣干燥爐中于200℃下加熱處理30分鐘以獲得固化薄膜。通過采用膠印型取向膜涂覆裝置，將ChissoCorporation生產(chǎn)的用于形成STN取向膜的取向膜液(用于形成取向膜的液體)(商品名LIXONALIGNERPIA-2424)涂覆在上述襯底的表面上。取向膜液涂覆完畢后，在100℃下干燥10分鐘，在熱空氣干燥爐中將溫度升高到200℃計1小時，然后在200℃下加熱處理90分鐘以便在配備有透明電極的襯底上獲得具有厚度約為600埃的聚酰亞胺薄膜。在將這樣得到其上具有形成的聚酰亞胺薄膜的透明玻璃襯底進(jìn)行摩擦后，通過采用濕式間隔層涂布裝置涂布6微米的間隔層。將密封劑涂覆在另一片沒有涂布間隔層的襯底的表面上。然后，將兩片襯底粘貼在一起以制成液晶盒，其中將扭轉(zhuǎn)角調(diào)節(jié)到240°。在將ChissoCorporation生產(chǎn)的STN液晶(商品名LIXON4032-000XX)填充到這樣得到的液晶盒中之后，將其在120℃下進(jìn)行各向同性處理計30分鐘，然后逐漸冷卻到室溫以制成液晶顯示器。采用與上述相同的方法，制備10片襯底，并將電流通過這樣得到的裝置以便檢查是否有不均勻顯示存在，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，盡管觀察到3片襯底有輕微的不均勻顯示，然而其余7片襯底未注意到有不均勻顯示。實(shí)施例3通過采用旋涂型絕緣膜涂覆裝置，在轉(zhuǎn)數(shù)為1000rpm下旋轉(zhuǎn)20秒鐘，將ChissoCorporation生產(chǎn)的用于形成絕緣膜的絕緣液(商品名LIXONCOATPMA-801P)涂覆在其一側(cè)備有ITO電極的透明玻璃襯底表面上。絕緣液涂覆完畢后，在100℃下干燥3分鐘，然后在熱空氣干燥爐中于200℃下加熱處理30分鐘以獲得固化薄膜。通過采用裝備了軟X-射線照射裝置(HamamatsuPhotonicsCo.，Ltd.生產(chǎn)的L7120型)的膠印型取向膜涂覆裝置，將ChissoCorporation生產(chǎn)的用于形成STN取向膜的取向膜液(商品名LIXONALIGNERPIA-2424)涂覆在上述襯底的表面上。經(jīng)證實(shí)通過軟X-射線照射，原來產(chǎn)生的10kV的最大靜電變?yōu)樾∮?00V。軟X-射線照射裝置的能量為6keV，且其電子管電壓和電子管電流分別為9.5kV和150微安。取向膜液涂覆完畢后，在100℃下干燥10分鐘，在熱空氣干燥爐中將溫度升高到200℃計1小時，然后在200℃下加熱處理90分鐘以便在配備有透明電極的襯底上獲得具有厚度約為600埃的聚酰亞胺薄膜。在將這樣得到的具有其上形成的聚酰亞胺薄膜的透明玻璃襯底進(jìn)行摩擦后，通過采用濕式間隔層涂布裝置涂布6微米的間隔層。將密封劑涂覆在另一片沒有涂布間隔層的襯底的表面上。然后，將兩片襯底粘貼在一起以制成液晶盒，其中將扭轉(zhuǎn)角調(diào)節(jié)到240°。在將ChissoCorporation生產(chǎn)的STN液晶(商品名LIXON4032-000XX)填充到這樣得到的液晶盒中之后，將其在120℃下進(jìn)行各向同性處理計30分鐘，然后逐漸冷卻到室溫以制成液晶顯示器。采用與上述相同的方法，制備10片襯底，并將電流通過這樣得到的裝置以便檢查是否有不均勻顯示存在，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，盡管觀察到3片襯底有輕微的不均勻顯示，然而其余7片襯底未注意到有不均勻顯示。對比例1除沒有進(jìn)行軟X-射線照射以外，采用與實(shí)施例2相同的方法，制備10片液晶顯示器的襯底。將電流通過這樣得到的10片襯底以便檢查是否有不均勻顯示存在，經(jīng)觀察發(fā)現(xiàn)在每個器件中均有不均勻顯示，在7片襯底上注意到有顯著的不均勻顯示。對比例2除沒有進(jìn)行軟X-射線照射以外，采用與實(shí)施例3相同的方法，制備10片液晶顯示器的襯底。將電流通過這樣得到的10片襯底以便檢查是否有不均勻顯示存在，經(jīng)觀察發(fā)現(xiàn)在每個器件中均有不均勻顯示，在7片襯底上注意到有顯著的不均勻顯示。根據(jù)本發(fā)明的薄膜涂覆裝置，可以容易地和有效地消除薄膜涂覆步驟中所產(chǎn)生的靜電。根據(jù)本發(fā)明的生產(chǎn)液晶顯示器的方法，在摩擦處理液晶顯示器之前的生產(chǎn)步驟中在氣體中通過用軟X-射線照射可以消除靜電并減少不均勻顯示和象素缺陷，從而改進(jìn)液晶顯示器的顯示質(zhì)量，并增加其產(chǎn)量。本發(fā)明優(yōu)選用于光刻膠涂覆裝置、絕緣膜涂覆裝置、取向膜涂覆裝置，其中，可以防止由于靜電而粘附到襯底上的顆粒；且在生產(chǎn)液晶顯示器的方法中優(yōu)選采用。權(quán)利要求1.一種薄膜涂覆裝置，該裝置包括能夠在該裝置中移動襯底的襯底移動部分，在該襯底上形成薄膜的涂覆部分，以及在襯底移動部分或襯底涂覆部分發(fā)射軟X-射線到襯底上的軟X-射線照射部分。2.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中在軟X-射線照射部分中的軟X-射線的能量為4-9.5keV。3.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中從襯底到軟X-射線源的距離小于1500mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中軟X-射線照射部分包括能夠分別在涂覆部分的前面和后面的位置發(fā)射軟X-射線到襯底上的第一和第二軟X-射線照射部分。5.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是光刻膠膜。6.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是絕緣膜。7.根據(jù)權(quán)利要求1的薄膜涂覆裝置，其中該薄膜是取向膜。8.一種涂覆薄膜的方法，該方法包括采用權(quán)利要求1中定義的薄膜涂覆裝置，將該襯底安置在襯底移動部分上，并在涂覆部分中在襯底上形成薄膜。9.根據(jù)權(quán)利要求8的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是光刻膠膜。10.根據(jù)權(quán)利要求8的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是絕緣膜。11.根據(jù)權(quán)利要求8的涂覆薄膜的方法，其中該薄膜是取向膜。12.一種生產(chǎn)液晶顯示器的方法，該方法包括在一對透明襯底的表面上形成透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，根據(jù)預(yù)定的圖案在襯底表面上涂覆光刻膠的步驟，使涂覆在襯底上的光刻膠曝光的步驟，將該襯底進(jìn)行蝕刻處理的步驟，將該光刻膠從襯底上脫除的步驟，檢查透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，在該襯底上形成絕緣膜的步驟，在該襯底上形成取向膜的步驟，摩擦該襯底上形成的取向膜的步驟，在該襯底上涂布間隔層的步驟，在該襯底上涂覆密封劑的步驟，堆疊襯底的步驟，在襯底之間保持預(yù)定厚度的間隙的步驟，將襯底切割成預(yù)定尺寸的步驟，在間隙中填充液晶材料的步驟，將偏振片粘貼在該襯底上的步驟，以及將驅(qū)動器IC連接到透明電極上的步驟，包括在摩擦取向膜步驟之前的至少一個步驟中在氣體中用軟X-射線照射該襯底的改進(jìn)。13.根據(jù)權(quán)利要求12的生產(chǎn)液晶顯示器的方法，其中該軟X-射線的照射能量為4-9.5keV。14.根據(jù)權(quán)利要求12的生產(chǎn)液晶顯示器的方法，其中從該襯底到軟X-射線源的距離小于1500mm。15.一種采用權(quán)利要求12中定義的方法生產(chǎn)的液晶顯示器。16.根據(jù)權(quán)利要求15的液晶顯示器，其中該液晶材料是包括至少一種以通式(2)或(3)表示的化合物的混合物式中R1和R3獨(dú)立地代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或具有2-10個碳原子的鏈烯基；R2和R4獨(dú)立地代表具有1-10個碳原子的直鏈烷基或烷氧基、-CN、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2；S1、S2、S3和S4獨(dú)立地代表氫原子、氟原子、氯原子、-CF3、-CHF2、-OCF3或-OCHF2；Z1、Z2和Z3獨(dú)立地代表-COO-、-CH2CH2-、-C≡C-或單鍵；A1、A2和A3獨(dú)立地代表或全文摘要公開了一種生產(chǎn)液晶顯示器的方法，該方法包括以下步驟在一對透明襯底的表面上形成透明電極和半導(dǎo)體電路元件的步驟，以及涂覆光刻膠、曝光、蝕刻、脫除光刻膠、檢查電極和半導(dǎo)體電路元件、形成絕緣膜、形成取向膜、摩擦取向膜、涂布間隔層、涂覆密封劑、裝配液晶盒、填充液晶、粘貼偏振片、連接驅(qū)動器IC等各種步驟，其特征在于，在摩擦取向膜之前的至少一個步驟中用軟X－射線照射襯底以高產(chǎn)量地生產(chǎn)液晶顯示器，在該顯示器中象素缺陷的數(shù)量是很少的。文檔編號G02F1/13GK1239445SQ98801372公開日1999年12月22日申請日期1998年8月21日優(yōu)先權(quán)日1997年8月22日發(fā)明者谷岡聰,村田鎮(zhèn)男,河野誠,平野雅之申請人:智索公司,飯沼標(biāo)準(zhǔn)制作所股份有限公司,浜松光子學(xué)株式會社