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結(jié)構(gòu)化顏料涂料及其制備和用途的制作方法

文檔序號(hào):2746842閱讀:324來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:結(jié)構(gòu)化顏料涂料及其制備和用途的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種由基體和在其上使用可溶性色素母體制備的顏料涂料所組成的材料的制備方法、由該法制備的一些材料以及其作為濾色鏡或永久保存數(shù)字信息方面的用途。
由EP-648770、EP-648817、<Angewandte Chemie>(68/4,133-150,1956)和<J.Org.Chem.>(22,127-132,1957)中獲知,有機(jī)顏料可以被轉(zhuǎn)化成為其它色料的可溶性衍生物。這些衍生物包括熒光染料,或者甕染料,但是其性能在許多著色用途上不理想,例如其光穩(wěn)定性差、色移趨勢(shì)強(qiáng)、熔點(diǎn)低或熒光弱。溶解在基體中的這種染料可以將其重新轉(zhuǎn)化成初始顏料或者能將其轉(zhuǎn)化為具有不同晶形的顏料。
與此相反,高級(jí)顏料具有高度光穩(wěn)定性,而且僅僅在很低程度上或者根本不溶于待著色的基體中。按照A.B.Marchant在<Optical Recording>(360-371頁(yè),Addison-Wesley出版公司1990出版)、W.Kem & L.Vossen在<Thin Film Processes>(1978)和JP-88/118098中的觀點(diǎn),雖然有機(jī)顏料可以直接升華(用氣相沉積法實(shí)施)在基體上,但是其有限的熱穩(wěn)定性意味著為了作到這一點(diǎn)通常必須采用高真空條件[H.Nakazumi等,<J.Soc.Dyes & Col.>106/11,367(1990)]。
因此,升華法是一種很慢、煩雜和不經(jīng)濟(jì)的涂敷技術(shù),對(duì)于高效、大量生產(chǎn)著色制品來(lái)說(shuō)是不理想的。而且難于控制晶體生長(zhǎng),以致用升華法得到的涂層常包含具有不希望粒度的顏料顆粒或者不被均勻和一致地著色到所需程度。升華法不能用于生產(chǎn)高清晰度圖案,而且存在顏料粒在所不希望的基體或設(shè)備位置處沉積的問(wèn)題。
結(jié)果,顏料幾乎總是只用于物質(zhì)著色,即簡(jiǎn)單地將其分散在適當(dāng)?shù)幕|(zhì)如塑料粒、膜或纖維)之中或者涂料或印刷油墨之中。然而,在物質(zhì)著色方面,還存在一些缺點(diǎn),例如流變問(wèn)題,尤其是極細(xì)顏料粒的流變問(wèn)題,顏料對(duì)于基體的光穩(wěn)定性的有害影響或者就基體性質(zhì)而言顏料穩(wěn)定性不令人滿意的問(wèn)題。
不僅如此,均勻著色需要在高剪切能量下和/或高溫下長(zhǎng)時(shí)間分散有機(jī)顏料;當(dāng)將其直接摻入基質(zhì)期間,在制造加工顏料或母料之前都要求如此。
另外,在物質(zhì)著色時(shí)根據(jù)所需的用途和結(jié)果,還必須依靠具有給定發(fā)色團(tuán)的不同顏料品種,例如透明或不透明的,不同的表面處理或不同的晶體結(jié)構(gòu)。這樣一來(lái),就會(huì)導(dǎo)致不必要和不經(jīng)濟(jì)地?cái)U(kuò)大必須貯存的顏料的品種規(guī)格。
而且,當(dāng)使用粘合劑時(shí),其中所含的所說(shuō)母體在整個(gè)期間經(jīng)歷所不希望的反應(yīng),形成著色的產(chǎn)物。
所以說(shuō),迄今為止尚不能滿足不使用粘合劑進(jìn)行簡(jiǎn)單涂敷的方法的要求。
本發(fā)明提供一種含有基體,在其表面上至少有一種顏料涂料的材料制備方法,該顏料涂層由一或多種式(I)或(II)顏料或其衍生物組成
A(D1)(D2)x(I)Pc (II)其中A是喹吖啶酮、蒽醌、苝、靛藍(lán)、偶氮、喹啉酮、異吲哚啉酮、異二氫吲哚、二噁嗪、酞菁或二酮吡咯并吡咯系列化合物生色團(tuán)的原子團(tuán),所說(shuō)的原子團(tuán)中含與D1和xD2相連的氮原子,A中存在的每個(gè)氮原子能夠互相獨(dú)立地連接到0、1或2個(gè)D1或D2基團(tuán)上,D1和D2是氫,x為0-4中整數(shù),以及Pc是酞菁系的發(fā)色團(tuán),所說(shuō)的涂層是利用(a)和(b)步驟將顏料涂于基質(zhì)上的(a)用至少一種式(III)潛在顏料或其衍生物溶液或熔體A(D3)(D4)x(III)或者至少一種式(IV)潛在顏料或其衍生物或其位置異構(gòu)物溶液或熔體
涂敷所說(shuō)的基體式(III)中,A和x的含意與式(I)中的相同,即A包含與D3和xD4相連的氮原子,而且A中存在的每個(gè)氮原子能夠互相獨(dú)立地連接到0、1或2個(gè)D3或D4基團(tuán)上,以及D3和D4互相獨(dú)立地是式(Va)、(Vb)或(Vc)基團(tuán) 或 而且式(IV)中,L1和L2互相獨(dú)立地是鹵素、C1-C18烷氧基、C2-C18二烷氨基、C1-C18環(huán)烷氨基、C1-C6烷基哌啶子基或嗎啉代基,而M是二個(gè)氫或至少二價(jià)金屬原子;(b)用消除基團(tuán)D3和D4,用氫將其取代,或者用消去基團(tuán)L1和L2,將所說(shuō)的潛在顏料部分或全部轉(zhuǎn)化為其不溶的顏料形態(tài)在式(Va)、(Vb)和(Vc)中,m、n和p互相獨(dú)立為0或1,X是C1-C14亞烷基、C2-C14亞烯基、C2-C14亞炔基、C4-C12亞環(huán)烷基或C4-C12亞環(huán)烯基,Y是-V-(CH2)q-基團(tuán),Z是-V-(CH2)r-基團(tuán),V是C3-C6亞環(huán)烷基,q為1-6中的數(shù)值r為0-6中數(shù)值R1和R2互相獨(dú)立地為氫、C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、鹵素、CN、NO2、被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或鹵素取代或未取代的苯基,或者苯氧基,Q是氫、CN、Si(R1)3或基團(tuán)C(R5)(R6)(R7),其中R5、R6和R7互相獨(dú)立地為氫、鹵素,而且R5、R6和R7中至少一個(gè)是鹵素、 (R1和R2定義如上)基團(tuán)、SO2R8或SR8(R8為C1-C4烷基)基團(tuán)、CH(R9)2(R9是被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或鹵素取代的或未取代的苯基)基團(tuán)、或者下式基團(tuán) R3和R4互相獨(dú)立為氫、C1-C18烷基或基團(tuán)
式中X、Y、R1、R2、m和n定義如上,或者R3和R4與其所連接的氮原子形成一個(gè)吡咯烷基、派啶基或嗎啉基團(tuán)。
在所說(shuō)的染料原子團(tuán)A中,與基團(tuán)D1、D2、D3或D4相連的每個(gè)氮原子優(yōu)選直接與至少一個(gè)羰基相鄰的,或者這些氮原子中每個(gè)氮原子都與羰基共軛。對(duì)于染料原子團(tuán)中的全部氮原子來(lái)說(shuō),都連接到基團(tuán)D1、D2、D3或D4上是不必要的,而且常常是不適當(dāng)?shù)?;精確地講,A(D1)(D2)x和A(D3)(D4)x必要時(shí)可以在原子團(tuán)A中含有 =N-、-NH-或-NH2基團(tuán)。
與此對(duì)照,在D1、D2、D3或D4基團(tuán)中,一個(gè)以上基團(tuán)可以連到單個(gè)氮原子上,例如當(dāng)生色團(tuán)中含-NH2基時(shí)有兩個(gè),所以其原子團(tuán)A可以是-NH-或-N。
A是具有已知生色團(tuán)的原子團(tuán),生色團(tuán)的基本結(jié)構(gòu)是A(H)(H)x,例如 式中,M定義如上,或者是 其中G1和G2互相獨(dú)立地為式 基團(tuán)或者對(duì)于每種結(jié)構(gòu),其任何已知的衍生物。Pc是具有以下基本結(jié)構(gòu)的酞菁或其任何已知衍生物 式中M例如是H2、Mg、Ca、Ti、V、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Zr、Pd、Cd、Sn、Ce、Hg、Pd或Bi,尤其是兩價(jià)金屬。
可能的衍生物實(shí)例,是上示基本結(jié)構(gòu)的單個(gè)取代或多取代的生色團(tuán);而在酞菁系情況下尤其是那些所說(shuō)金屬是以金屬氧化物、金屬鹽或金屬絡(luò)合物形式的,例如-Ti(O)-、-V(O)-、-Fe(OH)-或-[Co+(NH3)2]Cl-。在碳骨架上的取代基,必要時(shí)可以例如直接鍵合或者通過(guò)羰基、羰氧基、氧羰基、磺?;?、亞磺酰基、鹵素、硝基、氨基、羥基、C1-C18烷基、C5-C6環(huán)烷基、C1-C4烷氧基、C1-C18烷硫基、C1-C18烷氨基、C2-C18二烷氨基或C1-C18環(huán)烷氨基連接到碳骨架上。
C1-C14亞烷基或C4-C12亞環(huán)烷基X,是直鏈或支鏈亞烷基或亞環(huán)烷基,例如亞甲基、1,2-亞乙基、1,3-亞丙基、1-甲基亞甲基、1,1-二甲基亞甲基、1-乙基1,2-亞乙基、1,1-二甲基亞乙基、1-乙基-1-甲基亞乙基、1,1-二甲基-1,3-亞丙基、2,2-二甲基-1,3-亞丙基、1,4-亞丁基、1,1-二甲基-1,4-亞丁基、亞己基、亞癸基、1,1-二甲基亞癸基、1,1-二乙基亞癸基、亞十四烷基、1,2-亞環(huán)丁基、1,2-亞環(huán)戊基、1,2-亞環(huán)己基、1,4-亞環(huán)己基或2,2,6-三甲基-1,4-亞環(huán)己基。
作為C2-C14亞鏈烯基、C2-C14亞炔基或C4-C12亞環(huán)烯基的X,是直鏈或支鏈亞烯基、亞炔基或亞環(huán)烯基,例如1,2-亞乙烯基、亞烯丙基、2-甲代亞烯丙基、1-甲基-2-亞丁烯基、1,1-二甲基-3-亞丁烯基、2-亞丁烯基、2-亞己烯基、3-亞己烯基、1-甲基-2,6-亞丁炔-3-基或1,4-亞環(huán)己烷基。
鹵素取代基,例如是碘或氟,尤其是溴,而且優(yōu)選氯。
C1-C6烷基,例如是甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、叔戊基或己基;而且對(duì)于C1-C18烷基來(lái)說(shuō),其它們是庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基、十六烷基和十八烷基。
C5-C6環(huán)烷基,例如是環(huán)戊基,尤其是環(huán)己基。
C3-C6亞環(huán)烷基,例如亞環(huán)丙基、亞環(huán)丁基、亞環(huán)戊基,尤其是亞環(huán)己基。
C1-C4烷氧基,例如是甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基或丁氧基;而且C1-C18烷氧基還包括己氧基、癸氧基、十二烷氧基、十六烷氧基或十八烷氧基等等。
C1-C18烷硫基,例如是甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、辛硫基、癸硫基、十六烷硫基或十八烷硫基。
C1-C18烷氨基,例如是甲氨基、乙氨基、丙氨基、己氨基、癸氨基、十六烷氨基或十八烷氨基。
C2-C18二烷氨基,例如是二甲氨基、二乙氨基、甲丙氨基、乙己氨基、甲癸氨基、二辛氨基或乙基十六烷基氨基,其中兩個(gè)烷基原子團(tuán)的碳原子都是一起計(jì)數(shù)的。
C1-C18環(huán)烷氨基,例如是吡咯烷-1-基、哌啶子基、甲基吡咯烷-1-基、甲基哌啶子基、二甲基吡咯烷-1-基、二甲基哌啶子基、十二烷基吡咯烷-1-基、十二烷基哌啶子基,優(yōu)選哌啶子基、4-甲基哌啶子基、4-乙基哌啶子基、4-丙基哌啶子基和4-丁基哌啶子基。
在上述方法中,具有特殊意義的方法是使用這樣的式(III)潛在顏料,其中X為0或1而且D3和D4互相獨(dú)立地為式(Va)、(Vb)或(Vc)基團(tuán) 或 其中n和p均為0m為0或1Q為氫、CN、CCl3、基團(tuán) SO2CH3或SCH3,X為C1-C4亞烷基或C2-C5亞烷烯基,R1和R2互相獨(dú)立為氫、C1-C4烷基、甲氧基、氯或N2,而且R3和R4互相獨(dú)立為氫、C1-C4烷基或基團(tuán) 或者R3和R4共同形成哌啶基;而且特別是其中X為1以及D3和D4相同,都為下式基團(tuán) 或 在上述方法中,具有特殊價(jià)值的方法是使用其中L1和L2互相獨(dú)立為C2-C18二烷氨基或C1-C18環(huán)烷氨基的式(IV)潛在顏料的方法。
式(III)和(IV)的潛在顏料,是一些已知物質(zhì),其合成方法例如載于EP-648770、EP-648817、<Angewandte Chemie>68/4(133-150(1956)]或<J.Org.Chem>22[127-132頁(yè)(1957)]之中。其中一些也會(huì)是新化合物,可以按照與已知通用方法相似方式加以制備。作為其中L1和L2處于5/19位置的式(IV)潛在顏料的可能替代物,是其中L1和L2例如在5/6、5/13、5/26、5/28、6/13或6/20位的位置異構(gòu)體或位置異構(gòu)體混合物。很多情況下,不一定按照上述合成方法合成位置異構(gòu)體。
優(yōu)選的式(I)化合物是i)式(VI)的2,5-二氫吡咯并[3,4-C]吡咯 其中G1和G2互相獨(dú)立為下式基團(tuán)
以上諸式中G3是-O-、NR14-N=N-或-SO2-,R10和R11互相獨(dú)立為氫、氯、溴、C1-C4烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基、CN或苯基,R12和R13為氫,而且R14是氫、甲基或乙基;ii)式(VIIa)或(VIIb)苝甲酰亞胺類 或 式中,R15是氫、C1-C6烷基、未取代或者被鹵素或C1-C4烷基取代的苯基、芐基或苯乙基;iii)式(VIII)的喹吖啶酮類 式中R16和R17互相獨(dú)立為氫、鹵素、C1-C18烷基、C1-C4烷氧基或苯基;iv)式(IX)的二噁嗪類 式中R18是氫、鹵素或C1-C18烷基;v)式(Xa)、(Xb)和(Xc)的異二氫吲哚類 或 式中R19是氫、C1-C18烷基、芐基或基團(tuán) R19′是基團(tuán) 其中R20、R21、R20′和R21′互相獨(dú)立為氫、C1-C18烷基、C1-C4烷氧基、鹵素或三氟甲基;vi)式(XI)的靛藍(lán)衍生物 式中R22是氫、CN、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或鹵素;vii)式(XII)的苯并咪唑酮偶氮化合物 式中R23和R24互相獨(dú)立為氫、鹵素、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基;viii)式(XIII)的類蒽醌(anthraquinonoid)化合物 ix)式(XIV)的酞菁化合物 式中M是H2、Zn、Cu、Ni、Fe、TiO或VO,
R25是-CH(R27)-或-SO2-R26是氫、C1-C4烷基、-NHR27、-NHCOR28、-COR28或 R27為氫或C1-C4烷基R28是C1-C4烷基R29是氫、鹵素、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基Z為0或1,Y為1-4中數(shù)值。
優(yōu)選的式(III)化合物是x)式(XV)的酞菁類 式中M是H2、Zn、 Cu、Ni、Fe、TiO或VO。具體優(yōu)選的吡咯并吡咯類,是G1和G2相同,尤其是G1和G2同為式 (其中R10和R11互相獨(dú)立為氫、甲基、叔丁基、氯、溴、CN或苯基,更優(yōu)選R11為氫)的式(VI)化合物。
在酞菁化合物中,特別提出這樣一些式(XIV)化合物,其中M是H2、Cu或Zn,R25是-CH2-或-SO2-,R26是氫、-NHCOCH3或苯甲?;?,R27是氫,和Z為1;尤其是M為H2、Cu或Zn的式(XV)化合物。
對(duì)待涂覆的基體在化學(xué)組成和形狀方面的要求不嚴(yán)格。例如它可以包括金屬、金屬氧化物、塑料、非金屬或復(fù)合材料(如玻璃、陶瓷、光亮鋼、涂底漆鋼或鍍層鋼板、鋁、硅、銦/氧化錫、砷化鎵、聚氯乙烯、聚對(duì)苯二甲酸二乙酯、聚丙烯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、以及其混合物、合金或共聚物。這些基體可以包括任何物品,例如板材、金屬板、膜、管、纖維、紡織品、瓶、層制品或薄片。
若基體材料由塑料制成或含塑料時(shí),該塑料可以是任何高分子有機(jī)材料,例如乙烯基聚合物(如聚苯乙烯、聚-α-甲基苯乙烯、聚對(duì)甲基苯乙烯、聚對(duì)羥基苯乙烯、聚對(duì)羥苯基苯乙烯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酰胺和相應(yīng)的甲基丙烯酸化合物、聚馬來(lái)酸甲酯、聚丙烯腈、聚甲基丙烯腈、聚氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏二氯乙烯、聚偏二氟乙烯、聚酯酸乙烯酯、聚甲基乙烯基醚和聚丁基乙烯基醚);由C1-C6醛類(如甲醛和乙醛)和雙環(huán)(或優(yōu)選單環(huán))酚(未取代的,或者被一或二個(gè)C1-C9烷基、一或二個(gè)鹵原子或苯環(huán)取代的酚,如鄰、間或?qū)追?、二甲苯、?duì)叔丁基酚、對(duì)氯酚或?qū)Ρ交椒?,鄰、間或?qū)θ苫? 或者有一個(gè)以上酚基的化合物(如間苯二酚、雙(4-羥苯基)甲烷或2,2-雙(4-羥苯基)丙烷)衍生得到的酚醛清漆;由馬來(lái)酰亞胺和/或馬來(lái)酐衍生出的聚合物,如馬來(lái)酐與苯乙烯的共聚物;聚乙烯基吡咯烷酮、生物聚合物及其衍生物,例如纖維素、淀粉、殼多糖、脫乙酰殼多糖、明膠、玉米醇溶蛋白、乙基纖維素、硝基纖維素、乙酸纖維素和丁酸纖維素;天然和合成樹(shù)脂,如橡膠、酪蛋白、硅氧烷和有機(jī)硅樹(shù)脂、ABS、脲-密胺-甲醛樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、聚酰胺、聚亞酰胺、聚酰胺/亞胺、聚砜、聚醚砜、聚苯氧、聚氨基甲酸乙酯、聚脲、聚碳酸酯、聚亞芳基化合物、聚亞芳基硫醚、聚環(huán)氧化合物、聚烯烴和聚鏈二烯類。
優(yōu)選的高分子化合物是纖維素醚和纖維素酯(如乙基纖維素、硝基纖維素、乙酸纖維素或丁酸纖維素),天然樹(shù)脂或合成樹(shù)脂(如加成聚合樹(shù)脂或縮合樹(shù)脂),例如氨基樹(shù)脂,尤其是脲-密胺-甲醛樹(shù)脂、醇酸樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、聚碳酸酯、聚酯、聚烯烴、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚酰胺、聚氨酯、ABS、聚苯氧、硅氧烷和有機(jī)硅樹(shù)脂及其混合物。
對(duì)于涂布操作而言,將潛在顏料直接熔化或優(yōu)選溶于適當(dāng)溶劑中。潛在顏料的混合物也可以使用,將各個(gè)成分一起或依次熔化或?qū)⑵淙苡谶m當(dāng)溶劑之中,目的在于可以獲得很低的混合熔點(diǎn)和很高的濃度。優(yōu)選在攪拌和稍高的溫度(最好在30℃至溶劑沸點(diǎn)之間的溫度)下溶解該潛在顏料。
適用溶劑都是傳統(tǒng)溶劑,例如,尤其是烴、醇、酰胺、腈、硝基化合物、N雜環(huán)化合物、醚、酮和酯等,必要時(shí)這些溶劑還可以單個(gè)或多個(gè)不飽和的或氯代的物質(zhì);具體實(shí)例有甲醇、乙醇、異丙醇、二乙基醚、丙酮、甲乙酮、1,2-二甲氧乙烷、1,2-二乙氧乙烷、2-甲氧乙醇、乙酸乙酯、四氫呋喃、二烷、乙腈、芐腈、硝基苯、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亞砜、N-甲基吡咯烷酮、吡啶、甲基吡啶、喹啉、三氯乙烷、苯、甲苯、二甲苯、苯甲醚和氯苯。溶劑的另一些實(shí)例記載于許多匯集表和參考著作中。也可以使用二或多種溶劑的混合溶劑代替單一溶劑。
優(yōu)選的是根本不溶或以極慢速度溶解待涂基體的、其沸點(diǎn)處于40-170℃的那些溶劑,尤其是芳烴、醇、醚、酮和酯類溶劑。特別要提及的是甲苯、甲醇、乙醇、異丙醇、1,2-二甲氧乙烷、1,2-二乙氧乙烷、丙酮、甲乙酮、乙酸乙酯、四氫呋喃和二烷及其混合物。
潛在顏料在溶劑中的優(yōu)選濃度,約為飽和濃度的80-99%,同時(shí)可以使用過(guò)飽和溶液,而且在一些情況下可以使用,無(wú)溶劑化物早期性沉淀的過(guò)飽和溶液。對(duì)于式(III)和(IV)的許多潛在顏料來(lái)說(shuō),最佳濃度為~0.1-50重量%,常常是1-20重量%。
溶劑及最佳濃度的選擇,應(yīng)當(dāng)考慮所選擇涂 技術(shù)上的要求,例如密度、蒸氣壓以及尤其是粘度等溶液的物理性質(zhì)。
在溶液含不溶顆粒(如塵粒、顏料?;蚱渌s質(zhì)粒)或者采用旋涂之類復(fù)雜涂裝方法時(shí),最好在使用溶液之前水溶液過(guò)濾,而使用極細(xì)孔過(guò)濾器更佳。在無(wú)塵環(huán)境下,例如清潔的空氣房間內(nèi)操作為好。
涂裝可用任何所需的已知方法進(jìn)行,例如浸涂、噴涂、印刷涂、幕涂、刮涂或旋涂法。這些傳統(tǒng)方法及其優(yōu)缺點(diǎn)的說(shuō)明,詳細(xì)記載在許多出版物中。用旋涂法得到特別有利和均勻的涂層。
涂裝過(guò)期中,基質(zhì)可以被全部涂或優(yōu)選部分涂覆形成有色圖案。一些涂裝法自動(dòng)形成圖案,例如用印刷涂情況下用印刷板形成圖案。而采用其它涂裝法時(shí)可以使用傳統(tǒng)的形成圖案的工具(如噴涂時(shí)用的鏤花板)形成圖案。優(yōu)選在本發(fā)明方法的(a)步驟中僅僅部分涂敷待涂基體表面。
涂布操作之后,最好利用例如在0.1-1.0巴下蒸發(fā)溶劑的方法除去部分或全部溶劑。優(yōu)選在通風(fēng)櫥內(nèi),比溶劑閃點(diǎn)低1-50℃溫度和0.7-1.0巴壓力下蒸發(fā)溶劑至溶劑殘留量小于或等于潛在顏料的50重量%。
然后使以涂層形式施于基體上的潛在顏料部分或全部轉(zhuǎn)化為其不溶態(tài)顏料形式。這種情況下,必須消去式(III)中的基團(tuán)D3以及必要時(shí)的基團(tuán)D4,或者分別消去式(IV)中的L1和L2。對(duì)于式(III)的潛在顏料來(lái)說(shuō),這一步容易發(fā)生,生色團(tuán)上的基團(tuán)D3和必要時(shí)的D4碎裂且被氫原子取代。對(duì)于式(IV)潛在顏料來(lái)說(shuō),此步驟同樣容易發(fā)生,但是L1和L2是于氫原子之前消去(換句話說(shuō),發(fā)生正常的消去反應(yīng))。
潛在顏料轉(zhuǎn)化(b)為其不溶態(tài)的過(guò)程,也可以方便地利用熱處理(在例如50-400℃,優(yōu)選在100-200℃之間的溫度下加熱,尤其是利用熱源的接近作用或紅外光線的輻照加熱)、光解處理(利用波長(zhǎng)≤375nm的紫外線輻照)或化學(xué)處理(曝露于有機(jī)或無(wú)機(jī)布倫斯特酸或路易斯酸的或堿的蒸氣下,例如鹽酸、三氟乙酸、三氟化硼、氨或4-二甲氨基吡啶的蒸氣下)。所提及的轉(zhuǎn)化法也可以組合使用,例如利用未聚焦的(或者優(yōu)選用聚焦的)激光束輻照的情況下,例如使用帶或不帶倍頻的488和514毫微米波長(zhǎng)的氬離子激光器和約10微米波長(zhǎng)的CO2激光器或主波長(zhǎng)為1064毫微米的NdYAG激光器發(fā)出的激光束輻照。
通過(guò)選擇轉(zhuǎn)化(b)潛在顏料成為其不溶態(tài)用的條件,可以再現(xiàn)地影響顏料涂層的結(jié)構(gòu),尤其是顏料的粒度。例如,不同條件下可以選擇性地得到細(xì)(直徑≤0.1μm)、中(直徑~0.1~1μm)或大(直徑≥1μm)的顏料粒。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)。許多情況下在轉(zhuǎn)化期間將基質(zhì)本身加熱到稍微提高的溫度(~50-80℃)是有利的。
本發(fā)明方法的步驟(b)中,潛在顏料可以被定量地在全面積上轉(zhuǎn)化成其不溶性顏料態(tài)下。但是,步驟(b)優(yōu)選只發(fā)生在所選擇的面積上,可以容易地得到結(jié)構(gòu)化的有色圖案。這種結(jié)構(gòu)分辨率取決于轉(zhuǎn)化所用設(shè)備的尺寸,例如取決于作為熱源所用熱電偶的尺寸,或者取決于作為輻照手段所用聚焦或未聚過(guò)光束的直徑。
若選擇性轉(zhuǎn)化時(shí)使用了激光束,則在所得到的結(jié)構(gòu)化的有色圖案是具有特別高分辨率的結(jié)構(gòu)化有色圖案,而且分辨率可達(dá)到例如1μm~1mm,優(yōu)選5-200μm,特別優(yōu)選10-50μm。本文所說(shuō)的分辨率,是指在兩條靠近的線之間被空白線隔開(kāi)的最小可能的間隔。使用激光束和熱電偶,例如使用激光標(biāo)示裝置或者按照已知的激光印刷或熱印刷技術(shù),可以簡(jiǎn)單而迅速得到結(jié)構(gòu)化有色圖案。優(yōu)選用程序控制,更優(yōu)選用完全自動(dòng)方式,尤其是采用存貯器-程序控制或帶恒定或可變數(shù)據(jù)計(jì)算機(jī)進(jìn)行這種操作。結(jié)構(gòu)化有色圖案的選擇是任意的,它可以包括依次排列的象素(例如以螺旋方式或條碼形式排列的)、字母或線劃,以及幾何圖形或藝術(shù)設(shè)計(jì)(如商標(biāo)符號(hào))。
不需要高分辨率之處,例如為裝飾目的,也可以采用在(a)步驟中按上述方式產(chǎn)生有色圖案,然后在(b)步驟中再于整個(gè)面積上將其轉(zhuǎn)化成不溶性顏料態(tài)。但是,也可以在(a)步驟中形成所需有色圖案的大體輪廓,然后再于(b)步驟中使所需的具有高分辨率的有色圖案轉(zhuǎn)變成不溶性顏料態(tài)下。同樣,也可以利用穿過(guò)固定的或可程控的掩膜進(jìn)行輻照,例如穿過(guò)模板或液晶屏的方法形成析像良好的結(jié)構(gòu)。
僅在所選定的區(qū)域進(jìn)行步驟(b)的情況下,不僅留下帶顏料涂層的區(qū)域,而且還會(huì)留下包含未變的潛在顏料的區(qū)域。若潛在顏料轉(zhuǎn)化為不溶性顏料態(tài)的條件,比該潛在顏料的穩(wěn)定性要弱些,則有時(shí)也可以只對(duì)一些潛在顏料進(jìn)行部分轉(zhuǎn)化,以便使該顏料涂層的包含一些可溶性部分。這兩種情況下,最好在步驟(a)和(b)之后再附加包括除去殘余潛在顏料的步驟(c)。
所說(shuō)的殘余顏料優(yōu)選用溶劑除去,例如用逆流浸沾法或者用加壓注射漂洗法或者在冷凝蒸汽中,使用或不用刷洗等機(jī)械裝置、攪動(dòng)或超聲波除去殘余顏料。優(yōu)選的溶劑與涂布操作中所用的相同?;厥盏臍堄酀撛陬伭先芤嚎梢灾苯踊蛘咴诶缃?jīng)過(guò)濾凈化后再循環(huán)使用。
利用本發(fā)明方法將一種顏料涂于基體上之后,可以按同樣方式涂布另一種顏料,從而使基體上有兩種或多種顏料層。此操作原則上可以按需要加以重復(fù)。
因此,本發(fā)明還提供一種利用依次涂布兩種或多種顏料層,每個(gè)顏料的涂布均重復(fù)(a)至(c)操作,從而在基體表面上形成兩種或多種涂層的方法。
本發(fā)明方法可以驚人地形成均勻一致和透明的高穩(wěn)定性多種涂層。在有色圖案的邊緣處,有一個(gè)狹窄區(qū),其寬度取決于轉(zhuǎn)化方法的分辨率和基體的熱導(dǎo)率,例如,當(dāng)使用充分聚焦的激光時(shí)其寬度例如≤5-10μm。該顏料涂層厚度的均一性,與該潛在顏料的相當(dāng);根據(jù)涂布方法不同其變化不超過(guò)±25%,通常不超過(guò)±10%,而且在采用離心法等精密涂布法時(shí),厚度變化甚至于小于±1%。反射光譜定性地說(shuō)在各點(diǎn)處具有相等的不透明度,定量地說(shuō)僅僅取決于涂層厚度。
除此之外,在潛在顏料轉(zhuǎn)化成其不溶態(tài)之處顏料涂層大體均一。尤其是可以得到極均勻分布的、細(xì)顏料顆粒(其直徑例如≤0.1μm),從而導(dǎo)致極為透明和明亮的著色。該顏料層上完全不存在未處理(即轉(zhuǎn)化潛在顏料為其不溶性顏料態(tài))的區(qū)域,因此這些區(qū)域的光學(xué)透明度與裸基體的相當(dāng)。
因此,本發(fā)明還提供出這樣一種材料,其中包含一基體,在該基體表面上至少有一種由權(quán)利要求1中式(I)或(II)的一或多種顏料組成的顏料層,該涂層在一部分基體表面上基本上均勻而且不存在于其余的基體表面上。
為了預(yù)防外部影響,本發(fā)明還可以提供具有保護(hù)層的材料,這種保護(hù)層例如由上述塑料中一種組成而且必要時(shí)還包含進(jìn)一步改善該顏料性質(zhì)的添加劑,例如受阻胺之類光穩(wěn)定劑,羥基苯酮、羥苯基苯并三唑、羥苯基三嗪或N,N′-二苯基乙二酰胺之類紫外吸收劑。有兩或多層顏料層時(shí),在單個(gè)涂層之間也可以有保護(hù)層,所以隨后的顏料層不直接涂于基體上,而是涂于這種中間層上。
本發(fā)明的材料可以有一或多層顏料層。當(dāng)基體上涂布兩種或多種顏料層時(shí),應(yīng)當(dāng)提出其中包括式(I)或(II)或其混合物等具有不同吸收(例如具有寬或窄吸收帶或不同吸收極大值,如450nm和/或550nm或650nm)的顏料層。這種情況下,每個(gè)顏料層最好形成獨(dú)立的、其遮蓋率不同于其它顏料層圖案的遮蓋率的圖案,結(jié)果形成多色圖案。因此,本發(fā)明還提供這樣一種材料,其中基體涂有數(shù)個(gè)顏料層,這些顏料層不形成具有相同遮蓋率的圖案而且具有不同的光吸收和/或不同的吸收極大值。
特別指出這樣一種材料,其中的顏料涂層由其性質(zhì)和排列能顯示出蘭、綠和紅色區(qū)域的顏料組成,而且其中的基體是透明的。
代替數(shù)個(gè)不同顏色顏料層的,可以有數(shù)個(gè)不同厚度的、包含同種顏料或相同顏色顏料的涂層。這些層重疊之處,根據(jù)重疊的方式形成顏色強(qiáng)度不同的圖案。在至少有一層顏料的每個(gè)像素之處,由疊加的全部顏料層之顏色強(qiáng)度總和引起的全部吸收,最好是最小吸收值的倍數(shù)。該最小吸收是最薄顏料層的吸收值,而且發(fā)生在這種最薄涂層與其它顏料涂層不相重疊的像素之處。優(yōu)選的顏料層是其相對(duì)涂層厚度(或其相對(duì)光吸收)處于1、2、4、8……2n比值的那些,從而通過(guò)控制重疊情況也可以獲得一些中間值。不同的涂層厚度也可以與不同顏色的顏料層組合。
本發(fā)明的材料可以用于裝飾性著色。但是優(yōu)選用于數(shù)字信息的永久性存貯上,而且尤其是用作濾色鏡片上,對(duì)于已經(jīng)提到的那些由透明基體和具有蘭、綠和紅色顏料涂層的一些區(qū)域組成的材料是尤其適用的。使用所說(shuō)的材料作為濾色鏡片或用于貯存數(shù)字信息時(shí),與相應(yīng)的可溶染料相比突出的優(yōu)點(diǎn)是高分辨率、高透明度和優(yōu)良的顏料穩(wěn)定性,而且相對(duì)于原料著色來(lái)說(shuō)涂層要薄的多。
使用本發(fā)明材料存貯數(shù)字信息時(shí),用光源(如聚焦的激光束)照射該材料的方法可以記錄這種信息,而且通過(guò)測(cè)量反射或透射的(優(yōu)選具有很低能量的)光束強(qiáng)度可以讀取信息。該顏料涂層的均勻性和穩(wěn)定性,可以頻繁而精確地進(jìn)行讀出操作而不降低讀取質(zhì)量。具有數(shù)個(gè)不同厚度的同種顏料重疊層的材料產(chǎn)生不同強(qiáng)度數(shù)個(gè)信號(hào),從而在每個(gè)象素上可以貯存數(shù)個(gè)畢特。因此,本發(fā)明還提供一種通過(guò)光源輻照并測(cè)量反射或透射光束強(qiáng)度來(lái)讀取存貯在本發(fā)明材料上數(shù)字信息的方法。
下面的實(shí)施例將詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。
實(shí)施例1將由100mg式(XV1a)的N,N′-雙(叔丁氧羰基)-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯 在2ml二噁烷中的溶液被旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上。形成的涂層在90℃下干燥1分鐘。淡黃色涂層厚度為~360nm,λmax=430nm下的光密度為0.90。然后在預(yù)熱至200℃的電熱板上加熱被涂載體5分鐘,此時(shí)顏色變?yōu)?,5-二氫-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯(式XV1b)的特性紅色。形成的涂層厚度為~250nm,λmax=540nm處的光密度為0.80。熱處理后得到的吸收光譜與2,5-二氫-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯的相同。該涂層具有極好的透明性和均勻性。
實(shí)施例2
將100mg式(XVIIa)的無(wú)色酞菁 在2ml二噁烷中的溶液被旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上。形成的涂層在90℃下干燥1分鐘。該黃色涂層厚度為~320nm,λmax=311nm下的光密度為1.05。然后在預(yù)熱至200℃的電熱板上加熱被涂載體5分鐘,此時(shí)顏色變成(式XV1Ib)酞菁銅的特性蘭色。形成的涂層厚度為~300nm,λmax=620nm處的光密度為0.87。熱處理后得到的吸收光譜與酞菁銅的相同。該涂層具有極好的透明度和均勻性。
實(shí)施例3將由100mg式(XV1a)的N,N′-雙(叔丁氧羰基)-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯在2ml二噁烷中的溶液被旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上。形成的涂層在90℃下干燥2分鐘。該黃色涂層厚度為~360nm,λmax=430nm處光密度為0.90。然后在氯化氫蒸氣中25℃下貯存被涂載體30分鐘,此時(shí)顏色變式(XV1b)之2,5-二氫-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯的特性紅色。所形成的涂層厚度為~250nm,λmax=540nm下的光密度為0.80。酸處理之后得到的吸收光譜與2,5-二氫-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-c]吡咯的相同。該涂層具有極好的透明度和均勻性。
實(shí)施例4將100mg式(XVIIIa)的二噁嗪衍生物 在2ml二噁烷中的溶液旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上,形成的涂層在90℃干燥1分鐘,此紅色涂層厚度為~120nm,λmax=561nm下的光密度為0.56。然后在預(yù)熱至200℃的電熱板上加熱被涂載體5分鐘,此時(shí)顏色變成式(XV1IIb=C.I.顏料紫37)二噁嗪顏料 的特性紫色。形成的涂層厚度為~80nm,λmax=553nm處的光密度為0.43。熱處理后得到的吸收光譜與C.I.顏料紫37的相同。該涂層具有極好的透明度和均勻性。
實(shí)施例5將100mg式(XVIIIa)化合物在2ml二噁烷中的溶液旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上,形成的涂層在90℃下干燥1分鐘,黃色涂層厚度為~120nm,λmax=561nm處光密度為0.56。然后使用聚焦的氬離子激光束(全部光像均可見(jiàn),主線波長(zhǎng)488和514nm)將被涂載體曝光,此操作中借助于激光標(biāo)識(shí)設(shè)備中的可移動(dòng)反射鏡,在計(jì)算機(jī)控制下以預(yù)定速度將激光束射向整個(gè)涂層。于1.5瓦特激光輸出功率下,將寫(xiě)速度設(shè)在75和400mm/秒之間,標(biāo)記區(qū)內(nèi)顏色變成式(XVIIIb=C.I.顏料紫37)的二噁嗪顏料的特性紫色。然后用20ml二乙醚洗滌載體,這種情況下不僅僅在該玻璃載體上留下標(biāo)記過(guò)的(不溶性)結(jié)構(gòu)。分辨率≤50μm。
實(shí)施例6除了使用50×75×2mm聚碳酸酯片(Makrolon,拜爾公司品,作載體而且在1.0瓦輸出功率下標(biāo)記之外,重復(fù)實(shí)施例5中操作,試驗(yàn)結(jié)果與實(shí)施例5相當(dāng)。
實(shí)施例7重復(fù)實(shí)施例1的操作,但是在0.4瓦輸出功率下使用帶UV鏡的氬離子激光器的(各光線均為紫外光,主線波長(zhǎng)351和364nm)聚焦光束曝光,結(jié)果與實(shí)施例5中的相當(dāng)。
實(shí)施例8像實(shí)施例1那樣,將100mg式(XVIa)的N,N′-雙(叔丁氧羰基)-3,6-二苯基-1,4-二酮基吡咯并[3,4-C]吡咯的2ml二噁烷溶液旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上,形成的涂層于90℃下干燥1分鐘;該黃色涂層厚~360nm,λmax=430nm處光密度為0.90。然后使用聚焦的氬離子激光(諸線均可見(jiàn),主線波長(zhǎng)488和514nm)束使被涂載體曝光。在2.5瓦激光輸出功率下,寫(xiě)速度設(shè)置在75mm/秒,標(biāo)記區(qū)內(nèi)顏色變成式(XVIb)二酮基吡咯并吡咯顏料的特性紅色。
實(shí)施例9重復(fù)實(shí)施例8的操作,但是使用帶UV鏡的聚焦的Ar離子激光束(諸線均為紫外光,主線波長(zhǎng)為351和364nm)于0.8瓦輸出功率和5mm/秒寫(xiě)速度下進(jìn)行曝光,結(jié)果與實(shí)施例8中的相當(dāng)。
實(shí)施例10如實(shí)施例2中那樣,將式(XVIIa)的100mg無(wú)色酞菁在2ml二噁烷中的溶液旋涂(1000轉(zhuǎn)/分)在38×26×1mm玻璃載體上,涂層于90℃下干燥1分鐘;該談黃色涂層厚~320nm,λmax=311nm處光密度為1.05。然后用聚焦的Ar離子激光束(諸線均可見(jiàn),主線波長(zhǎng)488和514nm)使被涂載體曝光,激光輸出功率2.5瓦,寫(xiě)速度為75-200mm/秒,標(biāo)記區(qū)內(nèi)顏色變成式(XVIIb)酞菁顏料的特性蘭色。
實(shí)施例11重復(fù)實(shí)施例10中操作,但是使用0.8瓦輸出功率和5-60mm/秒寫(xiě)速度的帶UV鏡的聚焦Ar離子激光束(諸線均為紫外線,主線波長(zhǎng)為351和364nm)進(jìn)行曝光,結(jié)果與實(shí)施例10相當(dāng)。
實(shí)施例12重復(fù)實(shí)施例10中操作,但是代替式(XVIIa)產(chǎn)物的是使用式(XIXa)的N,N′-雙(新戊氧羰基)二噁嗪(使用EP-648817中所述方法加以制備的)。 然后用聚焦的Ar離子激光束(諸線均可見(jiàn),主線波長(zhǎng)488和514nm)使被涂載體曝光;當(dāng)激光輸出功率為2.5瓦,寫(xiě)速度為75~200mm/秒時(shí),標(biāo)記區(qū)內(nèi)顏色變成式(XIXb)的二噁嗪顏料的特性紫色 然后用20ml二乙醚洗滌載體,玻璃載體上只留下經(jīng)過(guò)標(biāo)記的(不溶性)結(jié)構(gòu)。分辨率≤50μm。
權(quán)利要求
1.一種在其表面至少含有一種顏料涂層的基體的材料制備方法,所說(shuō)的顏料涂層由一或多種式(I)或式(II)顏料或其衍生物組成A(D1)(D2)x(I)Pc (II)其中A是喹吖啶酮、蒽醌、苝、靛蘭、偶氮、喹啉酮、異吲哚啉酮、異二氫吲哚、二噁嗪、酞菁或二酮吡咯并吡咯系生色團(tuán)的原子團(tuán),所說(shuō)的原子團(tuán)中含與D1和xD2相連的氮原子,A中存在的每個(gè)氮原子能夠互相獨(dú)立地連接到0、1或2個(gè)D1或D2上,D1和D2是氫,x為0-4中整數(shù),以及Pc是酞菁系的生色團(tuán),所說(shuō)的涂層是利用(a)和(b)步驟將顏料涂于基質(zhì)上的(a)用至少一種式(III)潛在顏料或其衍生物溶液或熔體A(D3)(D4)x(III)或者至少一種式(IV)潛在顏料或其衍生物或其位置異構(gòu)物溶液或熔體 涂敷所說(shuō)的基體式(III)中,A和x的含意與式(I)中的相同,即A包含與D3和xD4相連的氮原子,而且A中存在的每個(gè)氮原子能夠互相獨(dú)立地連接到0、1或2個(gè)D3或D4基團(tuán)上,以及D3和D4互相獨(dú)立地是式(Va)、(Vb)或(Vc)基團(tuán) 而且式(IV)中,L1和L2互相獨(dú)立地是鹵素、C1-C18烷氧基、C2-C18環(huán)烷氨基、C1-C18環(huán)烷氨基、C1-C6烷基哌啶子基或嗎啉代基,而M是二個(gè)氫或至少二價(jià)金屬原子;以及(b)用消除基團(tuán)D3和D4,用氫將其取代,或者用消去基團(tuán)L1和L2,將所說(shuō)的潛在顏料部分或全部轉(zhuǎn)化為其不溶性顏料形態(tài)在式(Va)、(Vb)和(Vc)中,m、n和p互相獨(dú)立為0或1,X是C1-C14亞烷基、C2-C14亞烯基、C2-C14亞炔基、 C4-C12亞環(huán)烷基或C4-C12亞環(huán)烯基,Y是-V-(CH2)q-基團(tuán),Z是-V-(CH2)r-基團(tuán),V是C3-C6亞環(huán)烷基,q為1-6中的數(shù)值r為0-6中數(shù)值R1和R2互相獨(dú)立地為氫、C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、鹵素、CN、NO2、被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或鹵素取代或未取代的苯基,或者苯氧基,Q是氫、CN、Si(R1)3或基團(tuán)C(R5)(R6)(R7),其中R5、R6和R7互相獨(dú)立地為氫、鹵素而且R5、R6和R7中至少一個(gè)是鹵素、 (R1和R2定義如上)基團(tuán)、SO2R8或SR8(R8為C1-C4烷基)基團(tuán)、CH(R9)2(R9是被C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或鹵素取代的或未取代的苯基)基團(tuán)、或者下式基團(tuán) R3和R4互相獨(dú)立為氫、C1-C18烷基或基團(tuán) 式中X、Y、R1、R2、m和n定義如上,或者R3和R4與其所連接的氮原子形成一個(gè)吡咯烷基、派啶基或嗎啉基團(tuán)。
2.權(quán)利要求1中方法,其中在步驟(a)和(b)之后,附加包括除去殘余的潛在顏料的步驟(c)。
3.權(quán)利要求1的方法,其中于步驟(a)內(nèi)僅對(duì)部分基體表面上涂敷。
4.權(quán)利要求1的方法,其中利用浸涂、噴涂、印刷涂、幕涂、刮涂或旋涂法實(shí)施步驟(a)操作。
5.權(quán)利要求4的方法,其中用旋涂法實(shí)施步驟(a)。
6.權(quán)利要求1的方法,其中借助于聚焦的激光束實(shí)施步驟(b)操作。
7.權(quán)利要求1的方法,其中利用接近熱源的作用實(shí)施步驟(b)操作。
8.權(quán)利要求1的方法,其中利用曝露在有機(jī)或無(wú)機(jī)布隆斯特或路易斯或堿蒸氣中的方法實(shí)施步驟(b)操作。
9.權(quán)利要求1的方法,其中只在所選擇的區(qū)域上實(shí)施步驟(b)操作。
10.權(quán)利要求9的方法,其中利用程序控制實(shí)施步驟(b)操作。
11.權(quán)利要求2的方法,其中借助于溶劑實(shí)施步驟(c)操作。
12.權(quán)利要求2的方法,其中在基體表面涂佈兩或多個(gè)顏料涂層,方法是依次涂佈這些顏料層,每個(gè)顏料層都重復(fù)步驟(a)至(c)操作。
13.一種材料,其中包含基體,在基體表面帶有至少一種顏料涂層,該顏料涂層由一或多種權(quán)利要求1的式(I)或(II)顏料組成,該涂層在部分基體表面上基體上均勻涂布而且在其余基體表面上不存在。
14.權(quán)利要求13的材料,其中至少一種顏料涂層構(gòu)成了分辨率為10-50μm的有色圖案。
15.權(quán)利要求13的材料,其中還設(shè)有保護(hù)涂層。
16.權(quán)利要求13的材料,其中在基體上涂有圖案遮蓋度不等而且吸收和/或吸收最大值不同的多種顏料涂層。
17.權(quán)利要求16的材料,其中所說(shuō)的顏料涂層由其性質(zhì)和排列形成蘭、綠和紅色區(qū)域的顏料構(gòu)成,其中所說(shuō)的基體是透明的。
18.權(quán)利要求13的材料,其中所說(shuō)的具有不同厚度、含相同顏料或相同顏色顏料的數(shù)個(gè)顏料層形成圖案,從而使在至少有一個(gè)顏料涂層的每個(gè)象素之處由全部重疊的顏料涂層的強(qiáng)度之和產(chǎn)生的總光吸收,等于最小光吸收值的倍數(shù)。
19.使用權(quán)利要求13的材料作為濾色鏡片。
20.使用權(quán)利要求13的材料永久性存貯數(shù)字信息。
21.一種讀出存貯在權(quán)利要求13的材料上的數(shù)字信息的方法,包括用光源輻照并測(cè)量反射或透射光束的強(qiáng)度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種制備含有其表面至少有一種顏料涂層的基體的材料的方法,該涂層由一或多種式(I)或式(II)的顏料或其衍生物組成A(D
文檔編號(hào)G02B1/10GK1150166SQ9611034
公開(kāi)日1997年5月21日 申請(qǐng)日期1996年5月11日 優(yōu)先權(quán)日1995年5月12日
發(fā)明者J·贊布尼斯, M·霍夫曼 申請(qǐng)人:西巴-蓋爾基股份公司
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