技術總結
本實用新型公開了一種帶有透明真空吸盤的倒置曝光設備，屬于直寫曝光機技術領域。本實用新型的帶有透明真空吸盤的倒置曝光設備，包括支撐結構、曝光裝置、對準裝置、載樣裝置和控制裝置；所述支撐結構下部為一箱體結構，曝光裝置和控制裝置位于所述箱體結構內，所述載樣裝置嵌于箱體結構上表面并位于曝光裝置上方；所述支撐結構上部為墻面結構或龍門結構，所述對準裝置與支撐結構上部連接且位于載樣裝置的上方；所述載樣裝置4包括透明真空吸盤和真空發(fā)生裝置。本實用新型的設備能夠實現(xiàn)對產品雙面曝光圖像精確對位；設備簡單，節(jié)約成本。同時，樣品夾放于密閉環(huán)境或真空環(huán)境中，可以避免受到外界環(huán)境的污染，保證了曝光的良好質量。

技術研發(fā)人員：傅志偉
受保護的技術使用者：上海譽刻智能裝備有限公司
文檔號碼：201720050159
技術研發(fā)日：2017.01.16
技術公布日：2017.08.15