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一種掩膜板遮光器的制作方法

文檔序號(hào):11560850閱讀:366來(lái)源:國(guó)知局
一種掩膜板遮光器的制造方法與工藝

本實(shí)用新型涉及顯示器的制作領(lǐng)域,特別涉及一種掩膜板遮光器。



背景技術(shù):

在現(xiàn)有的顯示裝置的制作方法中,需要采用掩膜板在基板上制作出功能圖形,例如,用于維持顯示面板盒間距離的隔墊物。

以制作隔墊物為例,假設(shè)只在支撐區(qū)域A上制作隔墊物,現(xiàn)有技術(shù)采用Mark Shutter(掩膜板遮光器)來(lái)遮擋其他區(qū)域,防止掩膜對(duì)其他區(qū)域進(jìn)行曝光,而Mark Shutter的形狀固定的,對(duì)于不同類(lèi)型的顯示基板,支撐區(qū)域與非支撐區(qū)域往往是不規(guī)則形狀,Mark Shutter并不能很好地貼合非支撐區(qū)域,從而出現(xiàn)以下問(wèn)題:

即Mark Shutter要大于非支撐區(qū)域,因此在實(shí)際制作過(guò)程中,可能會(huì)或多或少遮擋了一部分支撐區(qū)域,使得支撐區(qū)域被遮擋的部分無(wú)法形成隔墊物。這一問(wèn)題會(huì)導(dǎo)致顯示產(chǎn)品無(wú)法得到有效的支撐,導(dǎo)致后續(xù)制作過(guò)程中,如切割或者產(chǎn)品使用過(guò)程中易于受到應(yīng)力影響,最終使顯示畫(huà)面出現(xiàn)泛黃的現(xiàn)象。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是提供一種可以使掩膜板遮光器變形的技術(shù)方案,從而貼合任一想要遮擋的區(qū)域。

為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供一種掩膜板遮光器,包括:

多個(gè)相互獨(dú)立的遮光部,每個(gè)遮光部上設(shè)置有子遮光圖形;

分別與每一遮光部連接、驅(qū)動(dòng)每一遮光部朝預(yù)設(shè)方向進(jìn)行移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)模塊,所述遮光部在被所述驅(qū)動(dòng)模塊移動(dòng)后,多個(gè)遮光部的子遮光圖形組成一遮光圖形。

進(jìn)一步地,每個(gè)遮光部為尺寸相同的矩形板,并在垂直于所述預(yù)設(shè)方向的方向上并行排列。

進(jìn)一步地,每個(gè)遮光部的其中一對(duì)側(cè)邊平行于所述預(yù)設(shè)方向。

進(jìn)一步地,所述多個(gè)遮光部分為多層,同一層相鄰的兩個(gè)遮光部彼此相隔一定間隙。

進(jìn)一步地,同層相鄰的兩個(gè)遮光部之間的間隙被另一層的遮光部所遮擋。

進(jìn)一步地,所述多個(gè)遮光部分為兩層。

進(jìn)一步地,所述驅(qū)動(dòng)模塊包括:

與所述多個(gè)遮光部一一對(duì)應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī);

所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)在接收驅(qū)動(dòng)信號(hào)后,驅(qū)動(dòng)其對(duì)應(yīng)的遮光部朝預(yù)設(shè)方向進(jìn)行移動(dòng)。

進(jìn)一步地,所述子遮光圖形覆蓋所述遮光部表面的全部區(qū)域。

進(jìn)一步地,所述子遮光圖形的材料至少包括有聚四氟乙烯。

進(jìn)一步地,每一子遮光圖形包括:

內(nèi)芯和包覆所述內(nèi)芯的涂覆層;

所述內(nèi)芯由鐵或鐵的混合物制成,所述涂覆層由聚四氟乙烯制成。

本實(shí)用新型的上述技術(shù)方案的有益效果如下:

本實(shí)用新型的掩膜板遮光器在實(shí)際應(yīng)用中,可以根據(jù)待遮擋區(qū)域的形狀適應(yīng)性組成對(duì)應(yīng)的遮光圖形,從而更加貼合遮擋區(qū)域,避免出現(xiàn)過(guò)遮擋或者少遮擋的現(xiàn)象,進(jìn)而提高顯示產(chǎn)品的制作工藝。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的掩膜板遮光器的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2和3為本實(shí)用新型的掩膜板遮光器的應(yīng)用示意圖;

圖4為本實(shí)用新型的掩膜板遮光器的子遮光圖形的側(cè)視圖;

圖5和圖6分別為本實(shí)用新型的掩膜板遮光在不同實(shí)現(xiàn)方式中的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。

針對(duì)現(xiàn)有掩膜板遮光器不能改變形狀,從而貼合遮擋區(qū)域的問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種解決方案。

參考圖1,本實(shí)用新型具體提供一種掩膜板遮光器,包括:

多個(gè)相互獨(dú)立的遮光部11,每個(gè)遮光部11上設(shè)置有子遮光圖形(即圖1所示的陰影部分);

分別與每一遮光部11連接、驅(qū)動(dòng)每一遮光部11朝預(yù)設(shè)方向(即圖1箭頭所示的方向)進(jìn)行移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)模塊12。其中,遮光部11在被驅(qū)動(dòng)模塊12移動(dòng)后,多個(gè)遮光部11的子遮光圖形共同組成一遮光圖形,該遮光圖形在使用掩膜板的制作工藝中,用于遮擋有遮擋需求的區(qū)域,如背景技術(shù)所介紹的非支撐區(qū)域。

通過(guò)以上描述可以知道,本實(shí)施例的掩膜板遮光器在實(shí)際應(yīng)用中,可以根據(jù)待遮擋區(qū)域的形狀適應(yīng)性組成對(duì)應(yīng)的遮光圖形,從而更加貼合遮擋區(qū)域,避免出現(xiàn)“過(guò)遮擋”或者“少遮擋”的現(xiàn)象,進(jìn)而提高顯示產(chǎn)品的制作工藝。

示例性地,參考圖2,假設(shè)在一支撐區(qū)A上制作隔墊物,則需要使用掩膜板遮光器對(duì)其他已經(jīng)制作好的功能圖形21進(jìn)行遮擋,顯然圖2所示的支撐區(qū)A為不規(guī)則形狀,因此需要如圖3所示那樣,控制掩膜板遮光器的遮光部進(jìn)行移動(dòng),以形成與支撐區(qū)A邊緣貼合的遮光圖形,該遮光圖形能夠遮擋功能圖形21。

下面結(jié)合具體應(yīng)用,對(duì)本實(shí)施例的掩膜板遮光器進(jìn)行詳細(xì)介紹。

本實(shí)施例掩膜板遮光器的每個(gè)遮光部的子遮光圖形具體為尺寸相同的矩形板,并在垂直于預(yù)設(shè)方向的方向上并行排列,且每個(gè)遮光部的其中一對(duì)側(cè)邊平行于所述預(yù)設(shè)方向。

具體地,多個(gè)遮光部分為多層,同一層相鄰的兩個(gè)遮光部彼此相隔一定間隙,從而避免移動(dòng)過(guò)程中相互剮蹭,造成結(jié)構(gòu)上的損傷,或是產(chǎn)生碎屑影響后續(xù)制作工藝。此外,本實(shí)施例同層相鄰的兩個(gè)遮光部之間的間隙被另一層的遮光部所遮擋,從而保證能夠完全遮擋住有遮擋需求的區(qū)域。

作為一個(gè)較佳的實(shí)現(xiàn)方式,如圖4所示,本實(shí)施例的多個(gè)遮光部分為兩層,假設(shè)每個(gè)遮光部按照并行排列的方向劃分有對(duì)應(yīng)的有效序號(hào),則相鄰兩個(gè)有效序號(hào)的遮光片處于不同層。例如1、3、5、7……奇數(shù)位的遮光部設(shè)置在一層,2、4、6、8……偶數(shù)位的遮光部設(shè)置在另一層,且有效序號(hào)是4的遮光部要完全遮擋有效序號(hào)是1和3的兩個(gè)遮光部之間的空隙,有效序號(hào)是5的遮光部要完全遮擋有效序號(hào)是4和6的兩個(gè)遮光部之間的空隙,以此類(lèi)推。

另一方面,如圖5所示,本實(shí)施例的驅(qū)動(dòng)模塊12包括:

與多個(gè)遮光部一一對(duì)應(yīng)的驅(qū)動(dòng)電機(jī)121;

驅(qū)動(dòng)電機(jī)121在接收驅(qū)動(dòng)信號(hào)后,驅(qū)動(dòng)其對(duì)應(yīng)的遮光部朝預(yù)設(shè)方向進(jìn)行移動(dòng)。

需要給予說(shuō)明的是,控制驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)物體移動(dòng)為常見(jiàn)的現(xiàn)有技術(shù)手段,本方案并不需要為了實(shí)現(xiàn)遮光部的驅(qū)動(dòng),而對(duì)驅(qū)動(dòng)電機(jī)的控制方法進(jìn)行任何改進(jìn)。

此外,本實(shí)施例的遮光部可以如圖3所示那樣,完全由子遮光圖形組成,即子遮光圖形覆蓋其遮光部的全部區(qū)域;

或者,如圖6所示那樣,本實(shí)施例的遮光部只有一部分是由子遮光圖形(即圖6中陰影區(qū)域)組成,即遮光部除子遮光圖形的部分為透光區(qū)域,在移動(dòng)后,各遮光部的透光區(qū)域會(huì)組成一個(gè)較大的透光區(qū)域,使用掩膜板可以在該較大的透光區(qū)域制作相關(guān)功能圖形,特別適用于小體積、高精度的圖形制作要求。

此外,本實(shí)施例的子遮光圖形的材料至少包括有聚四氟乙烯,該聚四氟乙烯材料為不透光材料,還具有一定的吸光性,在使用掩膜板進(jìn)行曝光流程時(shí),吸光性的材料可以避免將光線再反射回掩膜板,進(jìn)而提高曝光的質(zhì)量。

進(jìn)一步地,作為示例性介紹,本實(shí)施例的子遮光圖形可以包括:

內(nèi)芯和包覆內(nèi)芯的涂覆層;

內(nèi)芯由鐵或鐵的混合物制成,為整體結(jié)構(gòu)提供一定強(qiáng)度和韌性,涂覆層則由聚四氟乙烯制成,實(shí)現(xiàn)吸光功能。

以上所述是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本實(shí)用新型所述原理的前提下,還可以作出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

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