本發(fā)明屬于納米壓印技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種納米壓印機(jī)卡位機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的納米壓印機(jī)主要是通過(guò)模型壓頭對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行壓印成型，但是由于產(chǎn)品的規(guī)格和大小不一，產(chǎn)品放置于支撐平臺(tái)上是，位置存在一定的誤差，這樣就導(dǎo)致模型壓頭和產(chǎn)品的接觸位置存在誤差，從而使得壓印效果不佳，產(chǎn)品質(zhì)量較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明目的：為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，提供一種能夠自動(dòng)精確化調(diào)整產(chǎn)品位置的納米壓印機(jī)卡位機(jī)構(gòu)。

技術(shù)方案：為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種納米壓印機(jī)卡位機(jī)構(gòu)，包括支撐平臺(tái)、下壓平臺(tái)、模型壓頭和液壓升降缸，所述支撐平臺(tái)上固定設(shè)置有限位平臺(tái)，所述限位平臺(tái)為空心結(jié)構(gòu)，所述限位平臺(tái)上分別設(shè)置有橫向的第一開(kāi)口和縱向的第二開(kāi)口，所述限位平臺(tái)內(nèi)設(shè)置有伸縮電機(jī)，所述伸縮電機(jī)具備四個(gè)伸縮軸，所述四個(gè)伸縮軸上均設(shè)置有限位桿，所述四個(gè)限位桿分別穿過(guò)第一開(kāi)口和第二開(kāi)口朝著限位平臺(tái)上方延伸。

進(jìn)一步地，所述第一開(kāi)口和第二開(kāi)口的長(zhǎng)度分別等于限位平臺(tái)的長(zhǎng)度和寬度，這樣使得伸縮軸的活動(dòng)范圍達(dá)到最大化。

進(jìn)一步地，所述第一開(kāi)口和第二開(kāi)口的重合區(qū)域位于限位平臺(tái)的中心位置。

進(jìn)一步地，所述第一開(kāi)口和第二開(kāi)口的寬度相同且均等于伸縮軸的寬度，這樣伸縮軸便不會(huì)發(fā)生左右晃動(dòng)，提高了伸縮軸的穩(wěn)定性。

進(jìn)一步地，所述模型壓頭位于下壓平臺(tái)下端的中心位置。

有益效果：本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過(guò)對(duì)伸縮電機(jī)中四個(gè)伸縮軸的位置參數(shù)的分別設(shè)定，使得能夠?qū)χ纹脚_(tái)上的待壓印的產(chǎn)品的位置進(jìn)行精確化的限位固定，從而大幅提升了產(chǎn)品在支撐平臺(tái)上的位置精確度，因此大幅提升了壓印的位置精確度，產(chǎn)品的壓印質(zhì)量得到了提升和保障。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為限位平臺(tái)的俯視圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本發(fā)明，應(yīng)理解這些實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍，在閱讀了本發(fā)明之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本發(fā)明的各種等價(jià)形式的修改均落于

本技術(shù)：
所附權(quán)利要求所限定的范圍。

如圖1所示，本發(fā)明提供一種納米壓印機(jī)卡位機(jī)構(gòu)，包括支撐平臺(tái)1、下壓平臺(tái)3、模型壓頭4和液壓升降缸8，所述支撐平臺(tái)1上固定設(shè)置有限位平臺(tái)2，所述限位平臺(tái)2為空心結(jié)構(gòu)，所述限位平臺(tái)2上分別設(shè)置有橫向的第一開(kāi)口21和縱向的第二開(kāi)口22，所述限位平臺(tái)2內(nèi)設(shè)置有伸縮電機(jī)6，所述伸縮電機(jī)6具備四個(gè)伸縮軸7，所述四個(gè)伸縮軸7上均設(shè)置有限位桿5，所述四個(gè)限位桿5分別穿過(guò)第一開(kāi)口21和第二開(kāi)口22朝著限位平臺(tái)2上方延伸，所述第一開(kāi)口21和第二開(kāi)口22的長(zhǎng)度分別等于限位平臺(tái)2的長(zhǎng)度和寬度，所述第一開(kāi)口21和第二開(kāi)口22的重合區(qū)域位于限位平臺(tái)2的中心位置，所述第一開(kāi)口21和第二開(kāi)口22的寬度相同且均等于伸縮軸7的寬度，所述模型壓頭4位于下壓平臺(tái)3下端的中心位置。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種納米壓印機(jī)卡位機(jī)構(gòu)，包括支撐平臺(tái)、下壓平臺(tái)、模型壓頭和液壓升降缸，所述支撐平臺(tái)上固定設(shè)置有限位平臺(tái)，所述限位平臺(tái)為空心結(jié)構(gòu)，所述限位平臺(tái)上分別設(shè)置有橫向的第一開(kāi)口和縱向的第二開(kāi)口，所述限位平臺(tái)內(nèi)設(shè)置有伸縮電機(jī)，所述限位平臺(tái)具備四個(gè)伸縮軸，所述四個(gè)伸縮軸上均設(shè)置有限位桿，所述四個(gè)限位桿分別穿過(guò)第一開(kāi)口和第二開(kāi)口朝著限位平臺(tái)上方延伸。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過(guò)對(duì)伸縮電機(jī)中四個(gè)伸縮軸的位置參數(shù)的分別設(shè)定，使得能夠?qū)χ纹脚_(tái)上的待壓印的產(chǎn)品的位置進(jìn)行精確化的限位固定，從而大幅提升了產(chǎn)品在支撐平臺(tái)上的位置精確度，因此大幅提升了壓印的位置精確度，產(chǎn)品的壓印質(zhì)量得到了提升和保障。

技術(shù)研發(fā)人員：趙敏潔;楊彥濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：無(wú)錫英普林納米科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.08.29
技術(shù)公布日：2017.11.14