技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種可見光區(qū)域SiO2柱狀納米結(jié)構(gòu)陣列增透膜的制備方法，包括以下步驟：第一步、對(duì)石英襯底進(jìn)行清洗；第二步、在石英襯底的其中一面合成膠體晶體模板；第三步、合成單面SiO2納米柱狀結(jié)構(gòu)陣列膜；第四步、在石英襯底的另一面合成膠體晶體模板；第五步、合成雙面SiO2納米柱狀結(jié)構(gòu)陣列膜。本發(fā)明的SiO2柱狀納米陣列膜與石英襯底之間的結(jié)合十分牢固，超聲清洗半小時(shí)對(duì)薄膜的形貌沒有任何影響。本發(fā)明還公開了一種可見光區(qū)域SiO2柱狀納米結(jié)構(gòu)陣列增透膜。

技術(shù)研發(fā)人員：李志剛;馮尚申
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺(tái)州學(xué)院
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.21
技術(shù)公布日：2017.08.04