本發(fā)明涉及光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，特別涉及一種曝光光源。

背景技術(shù)：

曝光顯影包括曝光與顯影兩個工序，曝光的物理含意是指光線使感光層面(涂了感光化學(xué)物)產(chǎn)生潛影。顯影為曝光后的工序，顯影為使?jié)撚帮@現(xiàn)并固化。工業(yè)上很多設(shè)備都應(yīng)用了曝光的原理，用以將圖文信號轉(zhuǎn)移到需要的材料上，而顯影則是常用于印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影，正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應(yīng)靜電潛像電位(電荷的多少)的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復(fù)印機中。反轉(zhuǎn)顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同，顯影時，通過感光鼓和顯影輥之間的電場作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域，其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位，多用在數(shù)碼復(fù)合機與激光打印機中。

曝光顯影工藝是3D鏡片產(chǎn)品裝飾中常選用的一種后制程裝飾方案。在玻璃、有機玻璃、藍寶石、注塑件等3D產(chǎn)品(如前蓋、嵌件、裝飾件等)德加工過程中，一般都會涉及到曝光顯影工藝，且該工藝可適用于多種高厚度多曲面要求的3D產(chǎn)品的裝飾。目前而言，常用的曝光光源一般為汞燈光源或LED曝光光源，但是汞燈光源能量低、能耗高，效率低下，而LED曝光光源能量高，效率高，因此，大部分產(chǎn)品一般都使用LED曝光光源。實際操作中，由于不同的波長一般與不同的感光材料相對應(yīng)，而LED曝光光源只能提供單一波長，如此，產(chǎn)品一旦更換感光材料則會造成先前LED曝光光源無法適應(yīng)，導(dǎo)致生產(chǎn)通用匹配性不足，嚴重影響了生產(chǎn)作用過程的順利進行。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題為提供一種曝光光源，該曝光光源通過其結(jié)構(gòu)設(shè)計，可有效解決因更換感光材料導(dǎo)致光源匹配性不足的問題，確保正常的生產(chǎn)作業(yè)。

一種曝光光源，包括燈箱體，所述燈箱體的側(cè)壁上設(shè)置有第一光源體與第二光源體，所述第一光源體與所述第二光源體用于光束的發(fā)射，所述燈箱體的側(cè)壁上設(shè)置有光闌，所述第一光源體及所述第二光源體與所述光闌位于所述燈箱體的不同側(cè)壁，所述光闌用于光束發(fā)射方向與形狀的限制，所述燈箱體的內(nèi)腔設(shè)置有合束鏡，所述合束鏡用于將所述第一光源體與所述第二光源體發(fā)射的光束合并射向所述光闌，所述光闌下方的光束發(fā)射方向上設(shè)置有擴束鏡，所述擴束鏡用于光束發(fā)射面積的擴大。

優(yōu)選地，所述第一光源體與所述第二光源體發(fā)射的光束波長不同。

優(yōu)選地，所述第一光源體與所述第二光源體均由至少兩個LED燈珠組合而成，所述LED燈珠呈圓形排布或矩陣排布。

優(yōu)選地，所述第一光源體發(fā)射的光束波長范圍為280nm～450nm。

優(yōu)選地，所述第二光源體發(fā)射的光束波長范圍為280nm～450nm。

優(yōu)選地，所述燈箱體為方形箱體，所述光闌設(shè)置在所述方形箱體的底端側(cè)壁上，所述第一光源體設(shè)置在所述方形箱體的頂端側(cè)壁上，所述第二光源體設(shè)置在所述方形箱體的邊端側(cè)壁上。

優(yōu)選地，所述合束鏡設(shè)置在由所述燈箱體內(nèi)兩平行對角線構(gòu)成的平面上。

優(yōu)選地，所述燈箱體下方設(shè)置有支撐架，所述擴束鏡安裝在所述支撐架上。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供的該曝光光源通過其結(jié)構(gòu)設(shè)計，在燈箱體內(nèi)設(shè)置第一光源體與第二光源體兩個光束發(fā)射機構(gòu)，根據(jù)欲曝光工件的需要，選用不同波長的第一光源體與第二光源體進行組合，再利用合束鏡將光束集中導(dǎo)向光闌，最后通過擴束鏡將光束覆蓋欲曝光工件進行曝光，可有效解決因更換感光材料導(dǎo)致光源匹配性不足的問題，確保正常的生產(chǎn)作業(yè)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實施例一種曝光光源的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本申請中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。

基于本申請中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本申請保護的范圍。

參見圖1，圖1提供了本發(fā)明一種曝光光源的具體實施例，其中，圖1為本發(fā)明實施例一種曝光光源的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

如圖1所示，本發(fā)明提供了一種曝光光源，用于感光材料的曝光，既可以發(fā)射一種單一波長的光束，也可以發(fā)射兩種不同波長的光束。該曝光光源包括燈箱體1，第一光源體2，第二光源體3，光闌4，合束鏡5與擴束鏡6。

本方案中，該曝光光源包括燈箱體1，燈箱體1用于給第一光源體2，第二光源體3，光闌4與合束鏡5的安裝提供空間。燈箱體1的具體形狀根據(jù)實際需要選擇，以不影響實際操作為準(zhǔn)。本方案選用了正方體形狀的燈箱體1。

燈箱體1的側(cè)壁上設(shè)置有第一光源體2與第二光源體3，第一光源體2與第二光源體3用于光束的發(fā)射。

燈箱體1的側(cè)壁上設(shè)置有光闌4，第一光源體2及第二光源體3與光闌4位于燈箱體1的不同側(cè)壁，光闌4用于光束發(fā)射方向與形狀的限制。也就是說，第一光源體2及第二光源體3可以位于燈箱體1的不同側(cè)壁，第一光源體2及第二光源體3也可以位于燈箱體1的相同側(cè)壁，但光闌4布置的側(cè)壁與第一光源體2及第二光源體3均不相同。光闌4中可以設(shè)置圓形的透光孔或方形的透光孔來控制光束發(fā)射形狀。

燈箱體1的內(nèi)腔設(shè)置有合束鏡5，合束鏡5用于將第一光源體2與第二光源體3發(fā)射的光束合并射向光闌4。具體的，合束鏡5的主要作用是光束傳導(dǎo)方向的控制轉(zhuǎn)換。

光闌4下方的光束發(fā)射方向上設(shè)置有擴束鏡6，擴束鏡6用于光束發(fā)射面積的擴大。通過擴束鏡6，可以將光束轉(zhuǎn)換成面發(fā)射，從而覆蓋至欲曝光的感光材料上。

下面對該曝光光源發(fā)射單一波長光束情況與兩不同波長光束情況分別舉例說明。

例1：

通過本發(fā)明提供的曝光光源對一種需求365nm波長的感光材料進行曝光操作：

首先，根據(jù)規(guī)定的涂布工藝，將需求365nm波長的感光材料涂布至工件表面；

其次，根據(jù)產(chǎn)品感光材料波長365nm要求，選用可發(fā)射波長365nm光束的第一光源體2，開啟第一光源體2，關(guān)閉第二光源體3，此時該曝光光源僅僅提供365nm光譜；

再次，根據(jù)感光材料需求能量設(shè)定曝光能量；

最后，利用規(guī)定的顯影工藝，得到需求圖案。

例2：

通過本發(fā)明提供的曝光光源對一種同時需求365nm波長與405nm波長的感光材料進行曝光操作：

首先，根據(jù)規(guī)定的涂布工藝，將同時需求365nm波長與405nm波長的感光材料涂布至工件表面；

其次，根據(jù)產(chǎn)品感光材料365nm波長，405nm波長要求，選用可發(fā)射波長365nm光束的第一光源體2，開啟第一光源體2，同時選用可發(fā)射波長405nm光束的第二光源體3，開啟第二光源體3，此時該曝光光源同時提供365nm、405nm波長光譜；

再次，根據(jù)感光材料需求能量設(shè)定曝光能量；

最后，利用規(guī)定的顯影工藝，得到需求圖案。

整體來說，本發(fā)明提供的該曝光光源通過其結(jié)構(gòu)設(shè)計，在燈箱體1內(nèi)設(shè)置第一光源體2與第二光源體3兩個光束發(fā)射機構(gòu)，根據(jù)欲曝光工件的需要，選用不同波長的第一光源體2與第二光源體3進行組合，再利用合束鏡5將光束集中導(dǎo)向光闌4，最后通過擴束鏡6將光束覆蓋欲曝光工件進行曝光，可有效解決因更換感光材料導(dǎo)致光源匹配性不足的問題，確保正常的生產(chǎn)作業(yè)。

本實施例中，為方便該曝光光源對需求兩者不同波長光束感光材料的曝光操作，第一光源體2與第二光源體3發(fā)射的光束波長不同。

本實施例中，為進一步方便第一光源體2與第二光源體3光束的發(fā)射，第一光源體2與第二光源體3均由至少兩個LED燈珠組合而成，所述LED燈珠呈圓形排布或矩陣排布。

本實施例中，為更好地方便感光材料的曝光需求，優(yōu)選地，所述第一光源體2發(fā)射的光束波長范圍為280nm～450nm。優(yōu)選地，所述第二光源體3發(fā)射的光束波長范圍為280nm～450nm。

本實施例中，為進一步方便光束的轉(zhuǎn)換處理，所述燈箱體1為方形箱體，所述光闌4設(shè)置在所述方形箱體的底端側(cè)壁上，所述第一光源體2設(shè)置在所述方形箱體的頂端側(cè)壁上，所述第二光源體3設(shè)置在所述方形箱體的邊端側(cè)壁上。所述合束鏡5設(shè)置在由所述燈箱體1內(nèi)兩平行對角線構(gòu)成的平面上。

本實施例中，為方便擴束鏡6的安裝固定，燈箱體1下方設(shè)置有支撐架7，所述擴束鏡6安裝在所述支撐架7上。

以上對本發(fā)明所提供的一種曝光光源進行了詳細介紹。本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。