1.一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，包括本體（11），其特征在于：所述本體（11）包括第一插接座（1）、第二插接座（3）和第三插接座（4），所述第三插接座（4）包括卡柱（8）,所述卡柱（8）至少設(shè)置有4組，且所述卡柱（8）與卡柱（8）連接有防護(hù)筋（7），所述卡柱（8）的頂部安裝有插接柱（6），所述插接柱（6）的一側(cè)設(shè)置有限位球（5），所述卡柱（8）的一側(cè)安裝有彈性卡墊（9），所述彈性卡墊（9）的中部開設(shè)有插槽（10）。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，其特征在于：所述第二插接座（3）的一端開設(shè)有安裝孔，所述第三插接座（4）通過(guò)插接柱（6）與第二插接座（3）的安裝孔連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，其特征在于：所述第二插接座（3）的一側(cè)安裝有彈簧開關(guān)（2），且所述限位球（5）與彈簧開關(guān)（2）連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，其特征在于：所述彈性卡墊（9）的外壁包覆有防水樹脂膠。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，其特征在于：所述第二插接座（3）至少設(shè)置有三組，且兩兩插接。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于光學(xué)晶體清洗加工的固定裝置，其特征在于：所述第二插接座（3）的底部設(shè)置有與插槽（10）對(duì)應(yīng)的加固槽（12）。