本實(shí)用新型涉及顯示制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種ATR晶體固定裝置。
背景技術(shù):
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)等平面顯示裝置因具有高畫質(zhì)、省電、機(jī)身薄及應(yīng)用范圍廣等優(yōu)點(diǎn),而被廣泛的應(yīng)用于手機(jī)、電視、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、筆記本電腦、臺(tái)式計(jì)算機(jī)等各種消費(fèi)性電子產(chǎn)品,成為顯示裝置中的主流。
現(xiàn)有市場(chǎng)上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示器,其包括液晶顯示面板及背光模組(backlight module)。液晶顯示面板的工作原理是在兩片平行的玻璃基板當(dāng)中放置液晶分子,兩片玻璃基板中間有許多垂直和水平的細(xì)小電線,通過通電與否來控制液晶分子改變方向,將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。
通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF,Color Filter)、薄膜晶體管基板(TFT,Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC,Liquid Crystal)及密封膠框(Sealant)組成,其成型工藝一般包括:前段陣列(Array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板與CF基板貼合)及后段模組組裝制程(驅(qū)動(dòng)IC與印刷電路板壓合)。其中,前段Array制程主要是形成TFT基板,以便于控制液晶分子的運(yùn)動(dòng);中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶;后段模組組裝制程主要是驅(qū)動(dòng)IC壓合與印刷電路板的整合,進(jìn)而驅(qū)動(dòng)液晶分子轉(zhuǎn)動(dòng),顯示圖像。
液晶顯示器大多生產(chǎn)制程均在無塵車間里面進(jìn)行,但制程中人員、設(shè)備、物料、方法、環(huán)境等方面仍可能產(chǎn)生異物,這些異物會(huì)在不同程度上影響產(chǎn)品的性能及級(jí)別,因而實(shí)驗(yàn)室需要對(duì)異物進(jìn)行分析,目前一般采用傅里葉變化紅外光譜儀(FTIR)進(jìn)行異物分析,測(cè)試方式為使用顯微衰減全反射 (Attenuated Total Reflection,ATR)晶體接觸異物檢測(cè)得到紅外圖譜,然后對(duì)該紅外圖譜進(jìn)行分析。
如圖1所示,目前ATR晶體的固定方式為:通過粘結(jié)劑20將ATR晶體30粘接到晶體連接柱10上。在實(shí)際測(cè)試過程中,ATR晶體30易受到橫向或斜向的力,從而導(dǎo)致ATR晶體30從晶體連接柱10上脫落,導(dǎo)致ATR晶體30損壞,由于ATR晶體30非常昂貴,ATR晶體30的損壞會(huì)造成重大的設(shè)備成本損失。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于提供一種ATR晶體固定裝置,能夠防止ATR晶體從晶體連接柱上脫落,避免ATR晶體損壞,降低設(shè)備成本損失。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供一種ATR晶體固定裝置,包括:晶體連接柱、與所述晶體連接柱可拆卸連接的晶體固定件、與所述晶體固定件可拆卸連接的晶體鎖定件;
所述晶體固定件中形成有容置空間,所述晶體鎖定件上形成有通孔,ATR晶體一端容置于所述容置空間內(nèi),另一端從通孔延伸出來,位于所述容置空間內(nèi)的ATR晶體至少有一部分的軸徑大于所述通孔的直徑。
所述晶體連接柱與晶體固定件螺紋連接。
所述晶體連接柱的末端設(shè)有外螺紋,所述晶體固定件的頂端設(shè)有與所述晶體連接柱的末端的外螺紋對(duì)應(yīng)的內(nèi)螺紋。
所述晶體鎖定件與晶體固定件螺紋連接。
所述晶體鎖定件的頂端設(shè)有內(nèi)螺紋,所述晶體固定件的末端設(shè)有與所述晶體鎖定件的頂端的內(nèi)螺紋對(duì)應(yīng)的外螺紋。
所述晶體連接柱、晶體固定件、以及晶體鎖定件的材料均為不銹鋼材料。
所述ATR晶體的形狀為紡錘形,其軸徑從兩端往中間逐漸增大。
所述容置空間的形狀與尺寸對(duì)應(yīng)所述ATR晶體的形狀與尺寸設(shè)置。
本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型提供一種ATR晶體固定裝置,包括:晶體連接柱、與所述晶體連接柱可拆卸連接的晶體固定件、與所述晶體固定件可拆卸連接的晶體鎖定件,通過晶體固定件容置ATR晶體,通過晶體鎖定件將ATR晶體鎖定在晶體固定件中,并暴露出ATR晶體的樣品接觸面,相比于現(xiàn)有技術(shù)采用粘結(jié)層固定ATR晶體的方式,本實(shí)用新型采用的固定方法更加牢固, 且拆裝簡(jiǎn)便,能夠防止ATR晶體從晶體連接柱上脫落,避免ATR晶體損壞,降低設(shè)備成本損失。
附圖說明
為了能更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征以及技術(shù)內(nèi)容,請(qǐng)參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明與附圖,然而附圖僅提供參考與說明用,并非用來對(duì)本實(shí)用新型加以限制。
附圖中,
圖1為現(xiàn)有的ATR晶體固定結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖2為本實(shí)用新型的ATR晶體固定裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型的ATR晶體固定裝置中晶體固定件與晶體鎖定件的剖面圖。
具體實(shí)施方式
為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型所采取的技術(shù)手段及其效果,以下結(jié)合本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
請(qǐng)參閱圖2,本實(shí)用新型提供一種ATR晶體固定裝置,包括:晶體連接柱1、與所述晶體連接柱1可拆卸固定連接的晶體固定件2、與所述晶體固定件2可拆卸固定連接的晶體鎖定件3;
所述晶體固定件2中形成有容置空間21,所述晶體鎖定件3上形成有通孔31,ATR晶體一端容置于所述容置空間21內(nèi),另一端從通孔31延伸出來,位于所述容置空間21內(nèi)的ATR晶體至少有一部分的軸徑大于所述通孔31的直徑。
具體地,所述ATR晶體固定裝置的安裝步驟為:首先將晶體固定件2連接到晶體連接柱1的末端,然后將ATR晶體的樣品接觸面朝外,將ATR晶體裝入晶體固定件2內(nèi)的容置空間21內(nèi),最后將晶體鎖定件3固定在晶體固定件1上,使得ATR晶體的樣品接觸面穿過晶體鎖定件3的通孔31延伸到固定裝置的外部以進(jìn)行測(cè)試,而ATR晶體位于容置空間21內(nèi)的部分將會(huì)被通孔31卡住,從而實(shí)現(xiàn)將ATR晶體鎖定在晶體固定件2上,相比于現(xiàn)有技術(shù)采用粘結(jié)層固定ATR晶體的方式,本實(shí)用新型采用的固定方法更加牢固,且拆裝簡(jiǎn)便,能夠防止ATR晶體從晶體連接柱上脫落,避免ATR晶體損壞,降低設(shè)備成本損失。
優(yōu)選地,所述晶體連接柱1與晶體固定件2螺紋連接,其中,所述晶體連接柱1的末端設(shè)有外螺紋,所述晶體固定件2的頂端設(shè)有與所述晶體連接柱1的末端的外螺紋對(duì)應(yīng)的內(nèi)螺紋。
優(yōu)選地,請(qǐng)參閱圖3,所述晶體鎖定件3與晶體固定件2也采用螺紋連接,所述晶體鎖定件3的頂端設(shè)有內(nèi)螺紋,所述晶體固定件2的末端設(shè)有與所述晶體鎖定件3的頂端的內(nèi)螺紋對(duì)應(yīng)的外螺紋。
安裝時(shí),相應(yīng)擰緊晶體連接柱1末端與晶體固定件2頂端的內(nèi)外螺紋、以及晶體鎖定件3頂端與晶體固定件2末端的內(nèi)外螺紋,即可完成安裝。
可以理解的是,本實(shí)用新型中晶體連接柱1與晶體固定件2、以及晶體鎖定件3與晶體固定件2的連接方式并不限于螺紋連接,也可以采用鎖扣連接、或銷接等其他的可拆卸固定連接,本實(shí)用新型對(duì)此不做限制。
優(yōu)選地,所述晶體連接柱1、晶體固定件2、以及晶體鎖定件3的材料均為不銹鋼材料。
優(yōu)選地,所述ATR晶體的形狀為紡錘形,其軸徑從兩端往中間逐漸增大,此時(shí),所述通孔31的直徑大于所述ATR晶體兩端的最小軸徑且小于所述ATR晶體中間的最大軸徑,從而既能夠使得ATR晶體的樣品接觸面從通孔31內(nèi)延伸出來,以便于測(cè)試的順利進(jìn)行,還能夠使得ATR晶體被卡合固定在晶體固定件2與晶體鎖定件3之間,以防止ATR晶體脫落。
具體地,所述容置空間21的形狀與尺寸對(duì)應(yīng)所述ATR晶體的形狀與尺寸設(shè)置,從而使得ATR晶體更好的固定在晶體固定件2的容置空間21內(nèi),防止ATR晶體晃動(dòng)。
綜上所述,本實(shí)用新型提供一種ATR晶體固定裝置,包括:晶體連接柱、與所述晶體連接柱可拆卸連接的晶體固定件、與所述晶體固定件可拆卸連接的晶體鎖定件,通過晶體固定件容置ATR晶體,通過晶體鎖定件將ATR晶體鎖定在晶體固定件中,并暴露出ATR晶體的樣品接觸面,相比于現(xiàn)有技術(shù)采用粘結(jié)層固定ATR晶體的方式,本實(shí)用新型采用的固定方法更加牢固,且拆裝簡(jiǎn)便,能夠防止ATR晶體從晶體連接柱上脫落,避免ATR晶體損壞,降低設(shè)備成本損失。
以上所述,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,可以根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形,而所有這些改變和變形 都應(yīng)屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍。