技術(shù)特征：

1.一種超高反射率光學(xué)掃描振鏡，所述的光學(xué)掃描振鏡由玻璃基材層(1)及沉積鍍制在玻璃基材層上的高反膜(2)組成；其特征在于：

所述的高反膜(2)由9層膜層組成，9層膜層依照距離玻璃基材層從近至遠(yuǎn)的順序依次為：第一Al₂O₃膜層(21)、Ag膜層(22)、第二Al₂O₃膜層(23)、第一SiO₂膜層(24)、第一高折射率材料膜層(25)、第二SiO₂膜層(26)、第二高折射率材料膜層(27)、第三SiO₂膜層(28)、第三高折射率材料膜層(29)；

所述的第一高折射率材料膜層(25)、第二高折射率材料膜層(27)和第三高折射率材料膜層(29)均由折射率范圍為1.9～2.4的高折射率材料制成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高反射率光學(xué)掃描振鏡，其特征在于：第一Al₂O₃膜層(21)的厚度為98-100nm，Ag膜層(22)的厚度為100-120nm，第二Al₂O₃膜層(23)的厚度為12-15nm，第一SiO₂膜層(24)的厚度為118-120nm，第一高折射率材料膜層(25)的厚度為105-108nm，第二SiO₂膜層(26)的厚度為135-138nm，第二高折射率材料膜層(27)的厚度為105-108nm，第三SiO₂膜層(28)的厚度為135-138nm，第三高折射率材料膜層(29)的厚度為105-108nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高反射率光學(xué)掃描振鏡，其特征在于：所述的玻璃基材層(1)的外形為橢圓形或八角形狀。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超高反射率光學(xué)掃描振鏡，其特征在于：所述的玻璃基材層(1)是熔石英FS或K9玻璃；所述的高折射率材料為Nb₂O₅、TiO₂、Ta₂O₅或ZrO₂。