1.一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，其特征在于：包括控制電腦、固定平臺、X-Y移動平臺、高能量密度雕刻機、旋轉(zhuǎn)平臺、X-Y移動平臺控制器、旋轉(zhuǎn)平臺控制器和波形產(chǎn)生電路；所述高能量密度雕刻機活動設(shè)置在X-Y移動平臺的X軸上，所述X軸及X軸上的高能量密度雕刻機架設(shè)在所述X-Y移動平臺的Y軸上，所述X-Y移動平臺架設(shè)在所述固定平臺上，所述旋轉(zhuǎn)平臺設(shè)置在所述固定平臺上，所述X-Y移動平臺連接X-Y移動平臺控制器的輸出端，所述高能量密度雕刻機含有高能量密度發(fā)生器，所述高能量密度發(fā)生器控制端連接波形產(chǎn)生電路輸出端，所述旋轉(zhuǎn)平臺電連接所述旋轉(zhuǎn)平臺控制器輸出端，所述X-Y移動平臺控制器輸入端、所述旋轉(zhuǎn)平臺控制器輸入端、所述波形產(chǎn)生電路輸入端分別與所述控制電腦連接。
2.如權(quán)利要求1所述的淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，其特征在于：所述的X-Y移動平臺包括放置基材的固定平臺、支撐于固定平臺上的支撐架，所述固定平臺兩側(cè)設(shè)有一對相互平行的滑槽；所述支撐架包括兩個相互平行的垂直于固定平臺臺面的豎板和連接兩個豎板的平行于所述固定平臺的橫板，所述橫板方向為所述X-Y移動平臺的X軸方向，所述豎板為所述X-Y移動平臺的Y軸方向，所述兩個豎板配合所述滑槽移動，所述高能量密度雕刻機活動的設(shè)置在所述橫板上，所述支撐架與所述X-Y坐標檔控制器連接。
3.如權(quán)利要求1所述的淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，其特征在 于：所述高能量密度雕刻機為光刻機。
4.如權(quán)利要求3所述的淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，其特征在于：所述的光刻機包括光刻機基座、安裝在光刻機基座下方的光刻頭及從光刻頭發(fā)出的激光，所述光刻頭發(fā)出的激光的方向垂直于所述固定平臺的臺面，所述光刻機基座與X-Y坐標檔控制器連接。
5.如權(quán)利要求3所述的淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，其特征在于：所述的光刻機含有紅色激光自動對焦系統(tǒng)。