本實(shí)用新型涉及制版設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備。
背景技術(shù)：
現(xiàn)行的菲涅爾透鏡都是透過(guò)機(jī)械切割或者是澆鑄來(lái)制作，透鏡的外緣最深同心圓的切割紋路最淺都在5微米以上，且必須是一個(gè)一個(gè)制作，無(wú)法低成本大量復(fù)制，且透鏡的整體厚度無(wú)法降低，透鏡的最小直徑也無(wú)法降低，本實(shí)用新型是以高解析度的連續(xù)高能光束或電子束來(lái)切割紋路，可以透過(guò)大幅度提高紋路密度以及任意改變每圈紋路的反射角度，使最深紋路降低到3微米以內(nèi)，因此得以利用模壓技術(shù)做大量而低成本的復(fù)制，也可以制作微型透鏡以及微透鏡陣列用于防偽以及光學(xué)以及電子產(chǎn)業(yè)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
基于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，該制版設(shè)備可以制作超薄超小的菲涅爾透鏡。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：
一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，包括控制電腦、固定平臺(tái)、X-Y移動(dòng)平臺(tái)、高能量密度雕刻機(jī)、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、X-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器和波形產(chǎn)生電路；所述高能量密度雕刻機(jī)活動(dòng)設(shè)置在 X-Y移動(dòng)平臺(tái)的X軸上，所述X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè)在所述X-Y移動(dòng)平臺(tái)的Y軸上，所述X-Y移動(dòng)平臺(tái)架設(shè)在所述固定平臺(tái)上，所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)設(shè)置在所述固定平臺(tái)上，所述X-Y移動(dòng)平臺(tái)連接X(jué)-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器的輸出端，所述高能量密度雕刻機(jī)含有高能量密度發(fā)生器，所述高能量密度發(fā)生器控制端連接波形產(chǎn)生電路輸出端，所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)電連接所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器輸出端，所述X-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器輸入端、所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器輸入端、所述波形產(chǎn)生電路輸入端分別與所述控制電腦連接。
所述的X-Y移動(dòng)平臺(tái)包括固定平臺(tái)、支撐于固定平臺(tái)上的支撐架，所述固定平臺(tái)兩側(cè)設(shè)有一對(duì)相互平行的滑槽；所述支撐架包括兩個(gè)相互平行的垂直于固定平臺(tái)臺(tái)面的豎板和連接兩個(gè)豎板的平行于所述固定平臺(tái)的橫板，所述橫板方向?yàn)樗鯴-Y移動(dòng)平臺(tái)的X軸方向，所述豎板為所述X-Y移動(dòng)平臺(tái)的Y軸方向，所述兩個(gè)豎板配合所述滑槽移動(dòng)，所述高能量密度雕刻機(jī)活動(dòng)的設(shè)置在所述橫板上，所述支撐架與所述X-Y坐標(biāo)檔控制器連接。
所述高能量密度雕刻機(jī)為光刻機(jī)。
所述的光刻機(jī)包括光刻機(jī)基座、安裝在光刻機(jī)基座下方的光刻頭及從光刻頭發(fā)出的激光，所述光刻頭發(fā)出的激光的方向垂直于所述固定平臺(tái)的臺(tái)面，所述光刻機(jī)基座與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接。
所述的光刻機(jī)含有紅色激光自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)。
本實(shí)用新型的有益效果為：使用本實(shí)用新型的制版設(shè)備可以制作超薄超小的菲涅爾透鏡，可以用于數(shù)碼相機(jī)傳感器的微透鏡陣列，微 透鏡3D圖文防偽，包裝印刷產(chǎn)業(yè)的直觀防偽等。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型具體實(shí)施例的淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明，
一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備，包括控制電腦、固定平臺(tái)、X-Y移動(dòng)平臺(tái)、高能量密度雕刻機(jī)、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)、X-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器和波形產(chǎn)生電路；高能量密度雕刻機(jī)活動(dòng)設(shè)置在X-Y移動(dòng)平臺(tái)的X軸上，X軸及X軸上的高能量密度雕刻機(jī)架設(shè)在X-Y移動(dòng)平臺(tái)的Y軸上，X-Y移動(dòng)平臺(tái)架設(shè)在固定平臺(tái)上，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)設(shè)置在固定平臺(tái)上，X-Y移動(dòng)平臺(tái)連接X(jué)-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器的輸出端，高能量密度雕刻機(jī)含有高能量密度發(fā)生器，高能量密度發(fā)生器控制端連接波形產(chǎn)生電路輸出端，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)電連接旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器輸出端，X-Y移動(dòng)平臺(tái)控制器輸入端、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)控制器輸入端、波形產(chǎn)生電路輸入端分別與控制電腦連接。
如圖1所示，X-Y移動(dòng)平臺(tái)包括固定平臺(tái)1、支撐于固定平臺(tái)1上的支撐架2，固定平臺(tái)1兩側(cè)設(shè)有一對(duì)相互平行的滑槽12；支撐架12包括兩個(gè)相互平行的垂直于固定平臺(tái)1臺(tái)面的豎板21和連接兩個(gè)豎板21的平行于固定平臺(tái)的橫板22，橫板22方向?yàn)閄-Y移動(dòng)平臺(tái)的X軸方向，豎板21為X-Y移動(dòng)平臺(tái)的Y軸方向，兩個(gè)豎板21配合滑槽12移動(dòng)，高能量密度雕刻機(jī)3活動(dòng)的設(shè)置在橫板上，支撐架 2與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)4設(shè)置在固定平臺(tái)1上。
高能量密度雕刻機(jī)3為光刻機(jī)。
光刻機(jī)包括光刻機(jī)基座31、安裝在光刻機(jī)基座31下方沿與固定平臺(tái)1臺(tái)面平行的平面旋轉(zhuǎn)的光刻頭32及從光刻頭發(fā)出的激光，光刻頭32發(fā)出的激光的方向垂直于固定平臺(tái)1的臺(tái)面，光刻機(jī)基座31與X-Y坐標(biāo)檔控制器連接，光刻頭通過(guò)光刻機(jī)基座與角度檔控制器連接，深度檔控制器控制從光刻頭發(fā)出的激光的功率。
需要說(shuō)明的是，以上所述只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，本實(shí)用新型并不局限于上述實(shí)施方式，只要其以相同的手段達(dá)到本實(shí)用新型的技術(shù)效果，都應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。