技術(shù)編號：11856429
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及制版設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種淺紋菲涅耳透鏡的制版設(shè)備。背景技術(shù)現(xiàn)行的菲涅爾透鏡都是透過機械切割或者是澆鑄來制作，透鏡的外緣最深同心圓的切割紋路最淺都在5微米以上，且必須是一個一個制作，無法低成本大量復(fù)制，且透鏡的整體厚度無法降低，透鏡的最小直徑也無法降低，本實用新型是以高解析度的連續(xù)高能光束或電子束來切割紋路，可以透過大幅度提高紋路密度以及任意改變每圈紋路的反射角度，使最深紋路降低到3微米以內(nèi)，因此得以利用模壓技術(shù)做大量而低成本的復(fù)制，也可以制作微型透鏡以及微透鏡陣列用于防偽以及...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。