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光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:12659611閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種應(yīng)用于物體表面的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),所述光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)包括多個散射結(jié)構(gòu),該多個散射結(jié)構(gòu)被構(gòu)造為大致垂直于物體的表面延伸的多個壁,所述多個壁按一種圖形布置,從而基本防止反射光與物體的表面法線成30°或更大的角度離開物體表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述壁的橫截面是矩形、三角形或梯形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述壁形成六邊形、任意多邊形、或在非周期的空間相遇以形成非均勻空間的隨機曲線。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述壁的高度為1000-5000nm,且其中所述壁優(yōu)選設(shè)置為基本防止反射光以與表面法線呈20℃或更大的角度,優(yōu)選10°或更大角度離開物體表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述壁形成六邊形,其中所述六邊形的高度約為3000nm的,和/或

其中,所述六邊形的邊的長度為2000-7000nm,優(yōu)選約為5000nm,和/或

其中,所述六邊形包括垂直于物體表面延伸的多個板,其中所述板有規(guī)律地排列,所述板和壁的周期性元件間隔大于2000nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散射元件形成任意多邊形,寬1000-3000nm,優(yōu)選約2500nm,或其中,所述散射元件形成在非周期的空間相遇的隨機曲線,以形成寬1000nm-3000nm的非均勻空間,優(yōu)選約為2500nm。

7.一種光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),該光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)應(yīng)用于物體表面,以賦予物體亞光效果,所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括多個散射結(jié)構(gòu),該多個散射結(jié)構(gòu)至少在高度和寬度尺寸上為亞微米級,并以非周期方式排列,

其中,所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括多層反射體,該多層反射體包括交替堆疊的較高折射率層和較低折射率層,和

其中,所述散射結(jié)構(gòu)沉積在多層反射體的最上層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散射結(jié)構(gòu)是垂直于物體表面延伸的板。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述板具有大致為矩形、三角形或梯形的橫截面。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述板的長度為500nm-1500nm,優(yōu)選約1000nm,和/或

所述板的平均基部寬度為100nm-200nm,優(yōu)選約140nm-160nm,更優(yōu)選平均基部寬度約為150nm,和/或

所述板的高度約為1000nm-500nm,優(yōu)選約700nm-600nm,更優(yōu)選高度約為650nm。

11.根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述板由折射率為1.6或更大的透明材料制成,和/或

其中,所述輪廓元件包括透明或黑色材料,該材料具有與所述多層反射體的相鄰層至少相差0.5的折射率。

12.根據(jù)權(quán)利要求8-11中任意一項所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括透明覆蓋層,所述覆蓋層優(yōu)選具有的折射率至少比所述板的折射率高或低0.5。

13.根據(jù)權(quán)利要求7-12中任意一項所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu),其特征在于,所述多層反射體包括優(yōu)選選自以下各項的不同電介質(zhì)材料的交替層:二氧化硅、二氧化鈦、硫化鋅、氟化鎂和五氧化二鉭。

14.根據(jù)前面任意一項權(quán)利要求所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述散射結(jié)構(gòu)利用印刷技術(shù),優(yōu)選納米印刷,進行材料沉積來形成的,或通過壓印形成。

15.根據(jù)前面任意一項權(quán)利要求所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)與設(shè)置在物體表面的構(gòu)造的宏觀結(jié)構(gòu)結(jié)合。

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