專利名稱：光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域中的光刻工藝，尤其是一種光刻工藝中的 光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法。
技術(shù)背景光學(xué)臨近效應(yīng)是由光學(xué)系統(tǒng)的有限分辨率造成的。如圖1所示， 一個(gè) 直邊的成像位置會(huì)因透光部分的光強(qiáng)增強(qiáng)而向不透明方向移動(dòng)，即直邊的 成像位置會(huì)從光強(qiáng)強(qiáng)的地方向光強(qiáng)弱的地方移動(dòng)?，F(xiàn)有的光學(xué)系統(tǒng)分辨率 大多為有限的，光學(xué)臨近效應(yīng)難以避免。在半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域中的光刻工藝 中，掩膜板上各個(gè)區(qū)域透明度不同，有些區(qū)域透明度較高，而另一些區(qū)域 的透明度相對較低。光學(xué)臨近效應(yīng)會(huì)使得成像的位置向透明度較低的方向 移動(dòng)。掩膜板上孤立的圖形周圍的光強(qiáng)比在密集圖形之間的光強(qiáng)大，因而 成像位置會(huì)向光強(qiáng)弱的地方移動(dòng)。由于掩膜板上各個(gè)區(qū)域的圖形或集中或 鼓勵(lì)，因而造成掩膜板各個(gè)區(qū)域的透明度不同，光學(xué)臨近效應(yīng)會(huì)使圖形發(fā) 生形狀變化。現(xiàn)有技術(shù)通過在掩膜板上對在曝光過程中由于光學(xué)臨近效應(yīng)發(fā)生形狀 變化的圖形進(jìn)行補(bǔ)償，通常需要制作一塊測試掩膜板，并且通過實(shí)驗(yàn)確定 形狀變化的實(shí)際大小來決定修正值。這種做法不僅需要花費(fèi)較大人力物力 成本和時(shí)間，而且還會(huì)在光學(xué)臨近效應(yīng)較大時(shí)變得不精確。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ) 償方法，能夠?qū)鈱W(xué)臨近效應(yīng)發(fā)生形狀變化的圖形進(jìn)行補(bǔ)償，并且降低補(bǔ) 償所用的物質(zhì)和人工成本，提高生產(chǎn)效率。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法所 采用的技術(shù)方案是，包括以下步驟第一步，將透明度可編程薄濾光片固 定在掩膜板上；第二步，對固定在掩膜板上的透明度可編程薄濾光片進(jìn)行 曝光；第三步，將曝光過的透明度可編程薄濾光片在暗室進(jìn)行顯影，得到 透明度可編程薄濾光片的透明度分布。本發(fā)明的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法通過對固定在掩膜板上 的透明度可編程薄濾光片進(jìn)行曝光，并且對曝光過的透明度可編程薄濾光 片，得到濾光片的透明度分布，對掩膜板由于光學(xué)臨近效應(yīng)產(chǎn)生的圖形形 狀變化進(jìn)行補(bǔ)償，不僅能使補(bǔ)償圖形變化，而且大大簡化補(bǔ)償?shù)牟襟E，降 低補(bǔ)償?shù)某杀荆€提高補(bǔ)償?shù)木取?br>

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明圖l是光學(xué)臨近效應(yīng)的示意圖；圖2是本發(fā)明方法光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償示意圖；圖3是本發(fā)明方法流程示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖3所示，本發(fā)明的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，包括以 下步驟第一步，通過掩膜板四周的支架將一次性透明度可編程薄濾光片
固定在掩膜板上；第二步，采用光刻機(jī)光源對固定在掩膜板上的一次性透 明度可編程薄濾光片進(jìn)行曝光；第三步，將曝光過的一次性透明度可編程 薄濾光片在暗室進(jìn)行顯影，得到一次性透明度可編程薄濾光片的透明度分 布。所述的一次性透明度可編程薄濾光片根據(jù)所需要補(bǔ)償?shù)墓に囘x擇合適 感光度的感光物質(zhì)作為濾光片。本發(fā)明的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償 方法可應(yīng)用于各種尺寸硅片光刻設(shè)備。本發(fā)明通過使用放在靠近掩膜板的一次性透明度可編程薄濾光片來實(shí) 現(xiàn)對光學(xué)臨近效應(yīng)的部分補(bǔ)償。由于濾光片含有帶光吸收的材料，可以在 曝光過程中吸收光并且利用一定的顯定影方法使這種透明程度分布固定下 來，與掩膜板上透明度較高的區(qū)域所對應(yīng)的濾光片上的區(qū)域的透明度會(huì)相 應(yīng)地降低。如圖2所示，由于濾光片的感光隨光強(qiáng)遞增而增加，而且由于 孤立的圖形周圍的光強(qiáng)比在密集圖形之間的光強(qiáng)大，濾光片在孤立的圖形 周圍的感光比在密集圖形之間的感光大。因而濾光片在孤立的圖形周圍的 變得不透明程度也比在密集圖形之間的要大。光學(xué)臨近效應(yīng)所造成的線寬 疏密差可以得到補(bǔ)償。本發(fā)明通過在掩膜板上方增加一次性透明度可編程薄濾光片、對該濾 光片進(jìn)行曝光以及顯影定影的方法，實(shí)現(xiàn)了對光學(xué)臨近效應(yīng)的補(bǔ)償。本發(fā) 明不僅可以實(shí)現(xiàn)光學(xué)臨近效應(yīng)的補(bǔ)償，而且可以減少進(jìn)行光學(xué)臨近補(bǔ)償?shù)?物質(zhì)和人工成本，提高生產(chǎn)效率，同時(shí)還提高光學(xué)臨近補(bǔ)償?shù)木取?br> 權(quán)利要求
1、一種光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，其特征在于，包括以下步驟第一步，將透明度可編程薄濾光片固定在掩膜板上；第二步，對固定在掩膜板上的透明度可編程薄濾光片進(jìn)行曝光；第三步，將曝光過的透明度可編程薄濾光片在暗室進(jìn)行顯影，得到透明度可編程薄濾光片的透明度分布。
2、 如權(quán)利要求l所述的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，其特征 在于，所述的透明度可編程薄濾光片為一次性透明度可編程薄濾光片。
3、 如權(quán)利要求l所述的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，其特征 在于，第二步中采用光刻機(jī)光源對固定在掩膜板上的透明度可編程薄濾光 片進(jìn)行曝光。
4、 如權(quán)利要求1所述的光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，其特征 在于，第一步中，通過掩膜板四周的支架將透明度可編程薄濾光片固定在 掩膜板上方。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種光刻工藝中的光學(xué)臨近效應(yīng)補(bǔ)償方法，包括以下步驟第一步，將透明度可編程薄濾光片固定在掩膜板上；第二步，對固定在掩膜板上的透明度可編程薄濾光片進(jìn)行曝光；第三步，將曝光過的透明度可編程薄濾光片在暗室進(jìn)行顯影，得到透明度可編程薄濾光片的透明度分布。本發(fā)明通過在掩膜板上方固定透明度可編程薄濾光片，不僅能夠?qū)鈱W(xué)臨近效應(yīng)發(fā)生形狀變化的圖形進(jìn)行補(bǔ)償，并且降低補(bǔ)償所用的物質(zhì)和人工成本，提高生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)H01L21/027GK101118386SQ20061002961
公開日2008年2月6日 申請日期2006年8月1日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月1日
發(fā)明者蔣運(yùn)濤 申請人:上海華虹Nec電子有限公司