1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
在基層一側(cè)形成并排設(shè)置的至少第一色阻層、第二色阻層、至少第一凸塊、第二凸塊，所述第一凸塊由所述至少第一色阻層、第二色阻層中的兩個色阻層的各自一部分堆疊而成，所述第二凸塊是由所述至少第一色阻層、第二色阻層中的一個色阻層的一部分構(gòu)成，所述第一凸塊高于所述第二凸塊；
在所述基層一側(cè)形成與所述至少第一色阻層、第二色阻層一起并排設(shè)置的遮光層，并且所述第一凸塊之上的所述遮光層跟隨凸起以形成第一間隔柱，并高于所述第二凸塊之上的所述遮光層跟隨凸起以形成的第二間隔柱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在基層一側(cè)形成與所述至少第一色阻層、第二色阻層一起并排設(shè)置的遮光層包括：
在所述基層一側(cè)涂覆流體狀的遮光層材料，所述遮光層材料覆蓋所述至少第一凸塊、第二凸塊；
在所述遮光層材料流平之前，采用光罩對所述遮光層材料曝光，其中對應(yīng)像素區(qū)域之間遮光區(qū)域的所述光罩區(qū)域光線通過率相同；
蝕刻掉所述對應(yīng)像素區(qū)域的所述遮光層材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法進(jìn)一步包括：
在所述基層的一側(cè)進(jìn)一步形成第三色阻層，所述第三色阻層與所述至少第一色阻層、所述第二色阻層、所述至少第一凸塊、所述第二凸塊并排設(shè)置，所述第一凸塊由所述第一色阻層、第二色阻層的各自一部分堆疊而成，所述第二凸塊是由所述三色阻層的一部分構(gòu)成；
在形成所述第一色阻層、所述第二色阻層的同時，各留下一部分形成堆疊色阻塊，以形成所述第一凸塊，在形成所述第三色阻層的同時，留下一部分色阻塊而形成所述第二凸塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述遮光層沿著所述第一色阻層、第二色阻層的排列方向條狀延伸，同時也沿著所述第一色阻層、第二色阻層之間的分界線條狀延伸；或
所述遮光層僅沿著所述第一色阻層、第二色阻層的排列方向條狀延伸，所述陣列基板包括像素電極以及沿著所述第一色阻層、第二色阻層之間的分界線條狀延伸的陣列公共電極，所述陣列公共電極與所述像素電極同層設(shè)置，且電壓與對基板上的公共電極相同。
5.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板包括：
基層；
至少第一色阻層、第二色阻層，并排設(shè)置于所述基層一側(cè)；
遮光層，與所述至少第一色阻層、第二色阻層一起并排設(shè)置于所述基層一側(cè)；
至少第一凸塊、第二凸塊，設(shè)置于所述遮光層與所述基層之間，所述第一凸塊由所述至少第一色阻層、第二色阻層中的兩個色阻層的各自一部分堆疊而成，所述第二凸塊是由所述至少第一色阻層、第二色阻層中的一個色阻層的一部分構(gòu)成，所述第一凸塊高于所述第二凸塊，使得所述第一凸塊之上的所述遮光層跟隨凸起以形成第一間隔柱，并高于所述第二凸塊之上的所述遮光層跟隨凸起以形成的第二間隔柱。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述遮光層采用光罩蝕刻而成，且對應(yīng)所述遮光層的所述光罩區(qū)域光線通過率相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板進(jìn)一步包括第三色阻層，所述第一凸塊由所述第一色阻層、第二色阻層的各自一部分堆疊而成，所述第二凸塊是由所述三色阻層的一部分構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板，其特征在于，所述第一色阻層、第二色阻層分別是紅色色阻層、綠色色阻層，所述第三色阻層是藍(lán)色色阻層。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板，其特征在于，所述遮光層沿著所述第一色阻層、第二色阻層的排列方向條狀延伸，同時也沿著所述第一色阻層、第二色阻層之間的分界線條狀延伸；或
所述遮光層僅沿著所述第一色阻層、第二色阻層的排列方向條狀延伸，所述陣列基板包括像素電極以及沿著所述第一色阻層、第二色阻層之間的分界線條狀延伸的陣列公共電極，所述陣列公共電極與所述像素電極同層設(shè)置，且電壓與對基板上的公共電極相同。
10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求5至9中任一項所述的陣列基板。