技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示裝置。

背景技術(shù)：

液晶顯示裝置為了保持配置液晶層的盒間隙(cell gap)，在第1基板與第2基板之間具備間隔件。間隔件例如從第2基板的表面向第1基板側(cè)延伸。但是，在對(duì)顯示面板施加有外力的情況下，有可能間隔件將第1基板的取向膜損傷而引起液晶分子的取向異常。作為減小間隔件將開口區(qū)域的取向膜損傷的可能性的結(jié)構(gòu)，專利文獻(xiàn)1公開了一種液晶顯示裝置，其具備配置于第1基板的第1間隔件部、和配置于第2基板且與第1間隔件部交叉配置的第2間隔件部。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

根據(jù)一技術(shù)方案，提供一種顯示裝置，具備：第1基板；第2基板，與上述第1基板對(duì)置配置；第1間隔件，配置于上述第1基板，向上述第2基板側(cè)突出；以及第2間隔件，配置于上述第2基板，向上述第1基板側(cè)突出且與上述第1間隔件交叉；上述第1間隔件具備第1承接部和比上述第1承接部更向上述第2基板側(cè)突出的第1突出部；上述第2間隔件具備與上述第1承接部抵接的第2承接部。

附圖說(shuō)明

圖1是表示本實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖2是表示像素中的顯示面板的截面的圖。

圖3是表示遮光層及間隔件的配置例的平面圖。

圖4是表示沿著圖3所圖示的IV－IV’切斷線的顯示面板的截面的圖。

圖5是表示沿著圖3所圖示的V－V’切斷線的顯示面板的截面的圖。

圖6是在第1間隔件SP1與第2間隔件SP2之間夾著第1取向膜AL1及第2取向膜AL2的顯示面板的剖面圖。

圖7是表示接觸孔與間隔件的位置關(guān)系的平面圖。

圖8A及圖8B是表示間隔件形狀的變形例的圖。

圖9是表示第1間隔件的變形例的圖。

圖10是表示取向膜的配置的變形例的圖。

圖11是表示遮光層及間隔件的配置的第1變形例的圖。

圖12是表示遮光層及間隔件的配置的第2變形例的圖。

圖13是表示具備副間隔件的顯示面板的遮光層及間隔件的配置的圖。

圖14是沿著圖13所圖示的XIV－XIV’切斷線的顯示面板的切斷圖。

圖15是表示圖4所圖示的第1基板及第1間隔件的變形例的圖。

圖16是表示圖5所圖示的第2基板及第2間隔件的變形例的圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖對(duì)本實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，公開不過(guò)是一例，對(duì)于保持著發(fā)明主旨的適當(dāng)變更而能容易地想到的方案當(dāng)然包含在本發(fā)明的范圍中。此外，為了使說(shuō)明變得更明確，附圖存在與實(shí)際形態(tài)相比示意地表示各部的寬度、厚度、形狀等的情況，但不過(guò)是一例，并不限定本發(fā)明的解釋。此外，在本說(shuō)明書和各圖中，有時(shí)對(duì)發(fā)揮針對(duì)已記載的附圖而描述過(guò)的結(jié)構(gòu)相同或類的功能的構(gòu)成要素賦予相同標(biāo)號(hào)而將重復(fù)的詳細(xì)說(shuō)明適當(dāng)省略。

圖1是表示本實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

顯示裝置DSP具備顯示面板PNL、驅(qū)動(dòng)顯示面板PNL的驅(qū)動(dòng)IC芯片IC、將顯示面板PNL照明的照明裝置(背光單元)BL、控制顯示面板PNL及照明裝置BL的動(dòng)作的控制模組CM、向顯示面板PNL及照明裝置BL傳遞控制信號(hào)的柔性電路基板FPC1、FPC2等。

在本實(shí)施方式中，第1方向X例如是顯示面板PNL的短邊方向。第2方向Y是與第1方向X交叉的方向，是顯示面板PNL的長(zhǎng)邊方向。此外，第3方向Z是與第1方向X及第2方向Y交叉的方向。此外，所謂主面，是與由第1方向X和第2方向Y規(guī)定的X－Y平面平行的面。此外，所謂法線，是與X－Y平面垂直的線。

顯示面板PNL具備第1基板100、與第1基板100對(duì)置配置的第2基板200、和保持在第1基板100與第2基板200之間的液晶層(后述的液晶層LQ)。顯示面板PNL具備顯示圖像的顯示區(qū)域DA、以及位于顯示區(qū)域DA的周邊的邊框狀的非顯示區(qū)域NDA。在圖示的例子中，顯示區(qū)域DA形成為四邊形狀，但也可以形成為其他的多邊形狀，也可以形成為圓形狀或橢圓形狀等其他形狀。

照明裝置BL配置在與第1基板100對(duì)置的顯示面板PNL的背面?zhèn)?。作為這樣的照明裝置BL，能夠采用各種各樣的形態(tài)，并沒(méi)有特別限定，例如可以是將LED(Light Emitting Diode)等發(fā)光元件配置在與主面平行的面內(nèi)的正下型，也可以是將發(fā)光元件配置在未圖示的導(dǎo)光板的端部的邊緣型。驅(qū)動(dòng)IC芯片IC安裝在一方的短邊側(cè)的第1基板100上。柔性電路基板FPC1安裝在第1基板100上的驅(qū)動(dòng)IC芯片IC側(cè)，將顯示面板PNL與控制模組CM連接。柔性電路基板FPC2將照明裝置BL與控制模組CM連接。

這樣的結(jié)構(gòu)的顯示裝置DSP相當(dāng)于具備在各像素PX中使從照明裝置BL向顯示面板PNL入射的光有選擇地透射從而顯示圖像的透射顯示功能的、所謂透射型的液晶顯示裝置。但是，顯示裝置DSP也可以是具備在各像素PX中將從外部朝向顯示面板PNL入射的外光有選擇地反射從而顯示圖像的反射顯示功能的、所謂反射型的液晶顯示裝置，也可以是具備透射型及反射型的兩者的功能的半透射型的液晶顯示裝置。關(guān)于反射型的液晶顯示裝置，可以將照明裝置省略，也可以在與第2基板200對(duì)置的顯示面板PNL的前表面?zhèn)扰渲谜彰餮b置(前光單元)。另外，本實(shí)施方式并不限定于液晶顯示裝置，只要是具備隔開間隔對(duì)置的第1基板100及第2基板200的顯示裝置，就能夠適當(dāng)應(yīng)用。

以下，以透射型的液晶顯示裝置為例進(jìn)行說(shuō)明。

圖2是表示像素中的顯示面板的截面的圖。

圖2是表示顯示區(qū)域DA的像素PX中的顯示面板PNL的截面的圖。在顯示面板PNL所具備的各層中，假設(shè)上(上方)是從顯示面板PNL的第1基板100朝向第2基板200的方向、下(下方)是從顯示面板PNL的第2基板200朝向第1基板100的方向。

第1基板100具備第1絕緣基板10、開關(guān)元件SW、像素電極PE、共通電極CE、第1絕緣膜11、第2絕緣膜12、第3絕緣膜13、第4絕緣膜14、第5絕緣膜15、第1取向膜AL1等。在圖示的例子中，開關(guān)元件SW是單柵構(gòu)造的頂柵型薄膜晶體管，但也可以是雙柵構(gòu)造，也可以是底柵型薄膜晶體管。

第1絕緣基板10例如使用玻璃或樹脂等具有光透射性的絕緣材料形成。第1絕緣膜11配置在第1絕緣基板10之上，將第1絕緣基板10覆蓋。開關(guān)元件SW的半導(dǎo)體層SC以島狀配置在第1絕緣膜11之上。第2絕緣膜12配置在第1絕緣膜11及半導(dǎo)體層SC之上。開關(guān)元件SW的柵極電極WG配置在第2絕緣膜12之上，隔著第2絕緣膜12而與半導(dǎo)體層SC對(duì)置。第3絕緣膜13配置在第2絕緣膜12及柵極電極WG之上。開關(guān)元件PSW的源極電極WS及漏極電極WD配置在第3絕緣膜13之上，分別經(jīng)由接觸孔CH1及接觸孔CH2而與半導(dǎo)體層SC電連接。第4絕緣膜14配置在第3絕緣膜13、源極電極WS、漏極電極WD之上。

共通電極CE配置在第4絕緣膜14之上。第5絕緣膜15配置在第4絕緣膜14及共通電極CE之上。第1絕緣膜11、第2絕緣膜12、第3絕緣膜13及第5絕緣膜15例如由硅氮化物(SiN)、硅氧化物(SiO)等無(wú)機(jī)絕緣材料形成。第4絕緣膜14例如由有機(jī)絕緣材料形成。像素電極PE配置在第5絕緣膜15之上，經(jīng)由接觸孔CH3而與漏極電極WD電連接。像素電極PE在與后述的開口部AP對(duì)應(yīng)的區(qū)域中與共通電極CE對(duì)置。在開口部AP中，在像素電極PE形成有至少1個(gè)狹縫SL。共通電極CE及像素電極PE例如由氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)等透明的導(dǎo)電材料形成。第1取向膜AL1配置在第5絕緣膜15及像素電極PE之上。

在圖示的例子中，像素電極PE位于比共通電極CE更靠液晶層LQ側(cè)，但也可以是共通電極CE位于比像素電極PE更靠液晶層LQ側(cè)。在此情況下，狹縫SL形成于共通電極CE。此外，像素電極PE及共通電極CE也可以形成為梳齒狀，配置于同一層。

第2基板200具備第2絕緣基板20、遮光層SH、濾色器CF、外覆層OC及第2取向膜AL2。

第2絕緣基板20使用例如玻璃或樹脂等具有光透射性的絕緣材料形成。遮光層SH配置在第2絕緣基板20的下表面?zhèn)取Ｏ袼豍X在被遮光層SH包圍的區(qū)域具有開口部AP。濾色器CF配置在第2絕緣基板20及遮光層SH的下表面?zhèn)?。濾色器CF的各自的端部與遮光層SH重疊。濾色器CF例如具有紅色濾色器、綠色濾色器、藍(lán)色濾色器，但沒(méi)有特別限定，也可以具有白色(無(wú)著色)等其他顏色的濾色器。另外，濾色器CF也可以形成于第1基板100。外覆層OC配置在濾色器CF的下表面?zhèn)?，將濾色器CF覆蓋。

第2取向膜AL2配置在外覆層OC的下表面?zhèn)取５?取向膜AL1及第2取向膜AL2由例如聚酰亞胺等具有水平取向性的有機(jī)材料形成，被實(shí)施了摩擦(rubbing)處理及光取向處理等取向處理。

液晶層LQ保持在第1基板100與第2基板200的間隙中。液晶層LQ中包含的液晶分子在像素電極PE與共通電極CE之間沒(méi)有形成電場(chǎng)的狀態(tài)下從第1取向膜AL1及第2取向膜AL2受到取向限制力，初始取向?yàn)榕c第1基板100及第2基板200的主面平行的方向。

第1光學(xué)元件OD1配置在顯示面板PNL的背面?zhèn)龋?光學(xué)元件OD2配置在顯示面板PNL的前面?zhèn)?。?光學(xué)元件OD1具備第1偏光板PL1，第2光學(xué)元件OD2具備第2偏光板PL2。第1偏光板PL1及第2偏光板PL2例如以各自的吸收軸相互正交的方式配置。另外，第1光學(xué)元件OD1及第2光學(xué)元件OD2也可以具備相位差板、表面處理層等其他的功能層。

在圖示的例子中，顯示面板PNL具有在第1基板100上具備像素電極PE及共通電極CE兩者的、與主要利用與基板主面平行的橫電場(chǎng)的顯示模式相對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)。但是，顯示面板PNL并不被特別限制顯示模式，也可以具有與利用相對(duì)于基板主面垂直的縱電場(chǎng)、相對(duì)于基板主面傾斜方向的電場(chǎng)、或?qū)⑺鼈兘M合利用的顯示模式相對(duì)應(yīng)的結(jié)構(gòu)。在利用縱電場(chǎng)或傾斜電場(chǎng)的顯示模式中，例如可以采用在第1基板100具備像素電極PE、在第2基板200具備共通電極CE的結(jié)構(gòu)。

圖3是表示遮光層及間隔件的配置例的平面圖。

顯示面板PNL還在與遮光層SH對(duì)置的位置具備第1間隔件SP1及第2間隔件SP2。

遮光層SH具備第1延伸部SH1和與第1延伸部SH1交叉的第2延伸部SH2。在圖示的例子中，第1延伸部SH1在第1方向X上延伸，第2延伸部SH2在第2方向Y上延伸。開口部AP是由第1延伸部SH1及第2延伸部SH2包圍的區(qū)域，在圖示的例子中形成為長(zhǎng)方形狀，以矩陣狀排列。多個(gè)第1延伸部SH1相互離開，在第2方向Y上排列配置。多個(gè)第2延伸部SH2相互離開，在第1方向X上排列配置。例如，各個(gè)第1延伸部SH1以相同的寬度形成，各個(gè)第2延伸部以相同的寬度形成。第1延伸部SH1及第2延伸部SH2在圖示的例子中形成為直線狀，但并不限定于此，各自的至少一部分也可以彎曲。由于圖2所圖示的開關(guān)元件SW及第3接觸孔CH3與第1延伸部SH1對(duì)置配置，所以優(yōu)選的是，第1延伸部SH1在第2方向Y上的寬度比第2延伸部SH2在第1方向X上的寬度大。

第1間隔件SP1及第2間隔件SP2交叉。第1間隔件SP1及第2間隔件SP2配置在第1延伸部SH1與第2延伸部SH2的交叉位置。例如，第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的整體與第1延伸部SH1對(duì)置，第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的一部分與第2延伸部SH2對(duì)置。此外，第1間隔件SP1及第2間隔件SP2從開口部AP離開。

第1間隔件SP1具備第1承接部RE1及第1突出部PR1。第1承接部RE1相當(dāng)于圖中用向右上升的斜線表示的部分。第1突出部PR1位于第1承接部RE1的第2方向Y上的外側(cè)。第1承接部RE1及第1突出部PR1在第2方向Y上排列配置。第1承接部RE1及第1突出部PR1連續(xù)地形成。在圖示的例子中，第1突出部PR1配置在第1承接部RE1的兩端，但只要至少配置在一端側(cè)就可以。

第2間隔件SP2具備第2承接部RE2及第2突出部PR2。第2承接部RE2相當(dāng)于圖中用向右下降的斜線表示的部分。第2承接部RE2與第1承接部RE1的一部分對(duì)置。第2突出部PR2位于第2承接部RE2的第1方向X上的外側(cè)。第2承接部RE2及第2突出部PR2在第1方向X上排列配置。第2承接部RE2及第2突出部PR2連續(xù)地形成。在圖示的例子中，第2突出部PR2配置在第2承接部RE2的兩端，但只要至少配置在一端側(cè)就可以。

以下，對(duì)第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的截面構(gòu)造進(jìn)行說(shuō)明，但在圖中僅圖示了說(shuō)明所需要的結(jié)構(gòu)。

圖4是表示沿著圖3所圖示的IV－IV’切斷線的顯示面板的截面的圖。

在第1基板100與第2基板200之間，通過(guò)被第1間隔件SP1及第2間隔件SP2支承而形成盒間隙GP。盒間隙GP是第1基板100的位于第2基板200側(cè)的上表面與第2基板200的位于第1基板100側(cè)的下表面之間的第3方向Z(法線方向)上的距離。換言之，盒間隙GP是液晶層LQ的第3方向Z上的厚度。

第1間隔件SP1配置于第1基板100。第1間隔件SP1例如在第5絕緣膜15之上使用光致抗蝕劑形成。第1間隔件SP1向第2基板200側(cè)突出。第1突出部PR1比第1承接部RE1更向第2基板200側(cè)突出。但是，第1突出部PR1從第2基板200離開。在圖示的例子中，第1突出部PR1具備分別配置在第1承接部RE1的兩端的第1部分PA1及第2部分PA2。第1承接部RE1沿著第2方向Y位于第1部分PA1與第2部分PA2之間。

第2間隔件SP2配置于第2基板200。第2間隔件SP2例如使用光致抗蝕劑形成在外覆層OC之下。另外，第2間隔件SP2和外覆層OC也可以使用相同的材料一體地形成。第2間隔件SP2向第1基板100側(cè)突出。第1承接部RE1及第2承接部RE2在第3方向Z上相互支承。在圖示的例子中，第1承接部RE1及第2承接部RE2直接抵接，但也可以在兩者之間夾著其他部件(例如第1取向膜及第2取向膜)而間接地抵接。

第1承接部RE1具有位于上側(cè)的頂面RE1a。第1部分PA1具有位于上側(cè)的第1頂面PA1a。第2部分PA2也與第1部分PA1同樣，具有第2頂面PA2a。第2承接部RE2具有位于下側(cè)的頂面RE2a。在圖示的例子中，頂面RE1a與頂面RE2a抵接。第1頂面PA1a及第2頂面PA2a在第3方向Z上隔著液晶層LQ而與第2基板200對(duì)置。

第1承接部RE1具有高度HR1。第1突出部PR1具有高度HP1。第2承接部RE2具有高度HR2。另外，高度HR1是從第1間隔件SP1的位于下側(cè)的底面(與第5絕緣膜15的界面)到頂面RE1a的沿著第3方向Z的高度。此外，高度HP1是從第1間隔件SP1的底面到第1頂面PA1a及第2頂面PA2a的沿著第3方向Z的高度。高度HR2是從第2間隔件SP2的位于上側(cè)的底面(與外覆層OC的界面)到頂面HR2a的沿著第3方向Z的高度。另外，在圖示的例子中，第1部分PA1的高度和第2部分PA2的高度相等而設(shè)為高度HP1，但并不限定于此，也可以不同。盒間隙GP比第1突出部PR1的高度HP1大。盒間隙GP比第1突出部PR1的高度HP1與第2承接部RE2的高度HR2的合計(jì)小。

第2承接部RE2沿著第2方向Y具有寬度W2。第1承接部RE1沿著第2方向Y具有長(zhǎng)度D1。在圖示的例子中，長(zhǎng)度D1相當(dāng)于第1部分PA1與第2部分PA2之間的沿著第2方向Y的間隔。第1承接部RE1的長(zhǎng)度D1與第2承接部RE2的寬度W2相等或比其大。

圖5是表示沿著圖3所圖示的V－V’切斷線的顯示面板的截面的圖。例如，第1承接部RE1在第3方向Z上與濾色器CF的邊界對(duì)置。此外，第1承接部RE1沿著第1方向X位于各像素電極PE之間。另外，在圖示的例子中，共通電極CE的一部分位于第1承接部RE1的正下方。第2間隔件SP2也位于各像素電極PE之間。設(shè)置于該第2間隔件SP2的第2突出部PR2比第2承接部RE2更向第1基板100側(cè)突出。但是，第2突出部PR2從第1基板100離開。在圖示的例子中，第2突出部PR2具備分別配置在第2承接部RE2的兩端的第3部分PA3及第4部分PA4。第2承接部RE2沿著第1方向X位于第3部分PA3與第4部分PA4之間。

第1承接部RE1及第1突出部PR1由相同的材料形成。此外，第2承接部RE2及第2突出部PR2由相同的材料形成。但是，第1承接部RE1和第1突出部PR1也可以由不同的材料形成，第2承接部RE2和第2突出部PR2也可以由不同的材料形成。在第1承接部RE1及第1突出部PR1由相同的材料形成的情況下，第1承接部RE1及第1突出部PR1例如能夠使用灰色調(diào)掩模(gray tone mask)或半色調(diào)掩模(half tone mask)等多灰階掩模(multi-gradation mask)一并形成。

第3部分PA3具有位于下側(cè)的第3頂面PA3a。第4部分PA4也與第3部分PA3同樣，具有第4頂面PA4a。第3頂面PA3a及第4頂面PA4a在第3方向Z上隔著液晶層LQ而與第1基板100對(duì)置。

第2突出部PR2具有高度HP2。另外，高度HP2是從第2間隔件SP2的底面到第3頂面PA3a及第4頂面PA4a的沿著第3方向Z的高度。另外，在圖示的例子中，第3部分PA3的高度和第4部分PA4的高度相等而設(shè)為高度HP2，但并不限定于此，也可以不同。盒間隙GP比第2突出部PR2的高度HP2大。盒間隙GP比第2突出部PR2的高度HP2和第1承接部RE1的高度HR1的合計(jì)小。此外，盒間隙GP與高度HR1和高度HR2的合計(jì)相等。

但是，盒間隙GP也有在第1間隔件SP1及第2間隔件SP2彈性變形的狀態(tài)下形成的情況。在這樣的情況下，如果將第1基板100及第2基板200分離，則第1間隔件SP1及第2間隔件SP2復(fù)原，高度HR1及HR2有可能變得比分離前大?；蛘?，在第1承接部RE1，高度HR1也有支承著第2承接部RE2的部位比其他部位小的情況，此外，在第2承接部RE2，高度HR2也有支承著第1承接部RE1的部位比其他部位小的情況。因此，在本實(shí)施方式中，規(guī)定為，盒間隙GP是第1承接部RE1的高度HR1和第2承接部RE2的高度HR2的合計(jì)以下。

第1承接部RE1沿著第1方向X具有寬度W1。第2承接部RE2沿著第1方向X具有長(zhǎng)度D2。在圖示的例子中，長(zhǎng)度D2相當(dāng)于第3部分PA3與第4部分PA4之間的沿著第1方向X的間隔。第2承接部RE2的長(zhǎng)度D2與第1承接部RE1的寬度W1相等或比其大。

圖6是在第1間隔件SP1與第2間隔件SP2之間夾著第1取向膜AL1及第2取向膜AL2的顯示面板的剖面圖。

第1取向膜AL1在與顯示區(qū)域DA對(duì)應(yīng)的區(qū)域中遍及第1基板100的第2基板200側(cè)表面而連續(xù)地形成。由此，第1取向膜AL1將第1間隔件SP1覆蓋。此外，第2取向膜AL2在與顯示區(qū)域DA對(duì)應(yīng)的區(qū)域中遍及第2基板200的第1基板100側(cè)表面而連續(xù)地形成。由此，第2取向膜AL2將第2間隔件SP2覆蓋。即，第1取向膜AL1及第2取向膜AL2配置在頂面RE1a與頂面RE2a之間。

如以上這樣，本實(shí)施方式的顯示裝置DSP具備形成于第1基板100的第1間隔件SP1、和形成于第2基板200并與第1間隔件SP1交叉的第2間隔件SP2。第1間隔件SP1具備第1承接部RE1和位于第1承接部RE1的外側(cè)的第1突出部PR1，第2間隔件SP2具備支承第1承接部RE1的第2承接部RE2。因此，即使在對(duì)顯示面板PNL施加了外力的情況下，第2間隔件SP2也與第1突出部PR1接觸，從而抑制第2間隔件SP2向第1突出部PR1一方移動(dòng)的基板偏移。因而，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠提供一種能抑制基板偏移的顯示裝置DSP。

由于第1突出部PR1具備配置在第1承接部RE1的兩端的第1部分PA1和第2部分PA2，所以能夠抑制第2間隔件SP2向第1部分PA1的方向移動(dòng)的基板偏移、和第2間隔件SP2向第2部分PA2的方向移動(dòng)的基板偏移。

盒間隙GP比高度HP1大，第1突出部PR1從第2基板200離開。因此，在基板偏移時(shí)，第1頂面PA1a或第2頂面PA2a不與第2基板200的第1基板100側(cè)表面接觸。因而，第2基板200的第2取向膜AL2不會(huì)被第1突出部PR1損傷，此外，能夠抑制起因于第2取向膜AL2的損傷的液晶分子的取向紊亂。因此，在第1間隔件SP1的周圍，因液晶分子的取向紊亂造成的漏光等顯示不良的發(fā)生得以抑制，能夠抑制對(duì)比度的下降。因而，顯示裝置DSP能夠抑制顯示品質(zhì)的下降。

進(jìn)而，盒間隙GP比高度HP1和高度HR2的合計(jì)小。這在對(duì)顯示面板PNL進(jìn)一步施加外力而顯示面板PNL撓曲的情況下也是同樣的。因此，即使在對(duì)顯示面板PNL施加有較強(qiáng)的外力的情況下，第2承接部RE2也不會(huì)越過(guò)第1部分PA1或第2部分PA2。因而，顯示裝置DSP即使被施加較強(qiáng)的外力，也能夠抑制基板偏移，并且能夠通過(guò)第1間隔件SP1及第2間隔件SP2維持盒間隙。

長(zhǎng)度D1是寬度W2以上。在長(zhǎng)度D1與寬度W2相等的情況下，第1間隔件SP1與第2間隔件SP2牢固地嚙合，能夠進(jìn)一步抑制基板偏移。此外，在長(zhǎng)度D1比寬度W2大的情況下，即使第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的形成精度、第1基板100與第2基板200的貼合精度發(fā)生誤差，也能夠由第1承接部RE1和第2承接部RE2形成均勻的盒間隙。

另外，第2間隔件SP2也與第1間隔件SP1同樣，由于在第2承接部RE2的外側(cè)具備第2突出部PR2，所以能夠提供一種能夠抑制第1間隔件SP1向第2突出部PR2一方移動(dòng)的基板偏移的顯示裝置DSP。此外，由于第2突出部PR2具備配置在第2承接部RE2的兩端的第3部分PA3及第4部分PA4，所以能夠抑制第1間隔件SP1向第3部分PA3一方移動(dòng)的基板偏移、和向第4部分PA4一方移動(dòng)的基板偏移。

由于盒間隙GP比高度HP2大、第2突出部PR2從第1基板100離開，所以第1基板100的第1取向膜AL1不會(huì)被第2突出部PR2損傷，能夠抑制起因于第1取向膜AL1的損傷的液晶分子的取向紊亂。

進(jìn)而，盒間隙GP比高度HP2和高度HR1的合計(jì)小。因此，第1承接部RE1不會(huì)越過(guò)第3部分PA3或第4部分PA4。因而，顯示裝置DSP即使被施加較強(qiáng)的外力，也能夠抑制基板偏移。

長(zhǎng)度D2是寬度W1以上。在長(zhǎng)度D2與寬度W1相等的情況下，能夠進(jìn)一步抑制基板偏移。此外，在長(zhǎng)度D2比寬度W1大的情況下，能夠由第1承接部RE1和第2承接部RE2形成均勻的盒間隙。

第1間隔件SP1及第2間隔件SP2配置在第1延伸部SH1與第2延伸部SH2的交叉位置。由此，能夠?qū)⒌?承接部RE1及第2承接部RE2形成得較大，即使使作用于一組第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的負(fù)荷變大，也能夠支承盒間隙GP。因而，顯示裝置DSP能夠使第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的數(shù)量減少。

第1間隔件SP1被第1取向膜AL1覆蓋，第2間隔件SP2被第2取向膜AL2覆蓋。此時(shí)，只要將第1取向膜AL1勻稱地配置在第1基板100的表面就可以，所以第1取向膜AL1能夠容易地形成。第2取向膜AL2也與第1取向膜AL1同樣能夠容易地形成。

接著，對(duì)本實(shí)施方式的變形例進(jìn)行說(shuō)明。另外，在以下的變形例中，也能得到與上述同樣的效果。

圖7是表示接觸孔與間隔件的位置關(guān)系的平面圖。

在本變形例中，第1基板100具備掃描線G、第1信號(hào)線S1、第2信號(hào)線S2、第1開關(guān)元件SW1、第2開關(guān)元件SW2、第1漏極電極WD1、第2漏極電極WD2、第1像素電極PE1及第2像素電極PE2。

第1延伸部SH1形成為比第2延伸部SH2寬幅。掃描線G與第1延伸部SH1對(duì)置。第1信號(hào)線S1及第2信號(hào)線S2與相互鄰接的第2延伸部SH2對(duì)置。第1開關(guān)元件SW1及第2開關(guān)元件SW2與第1延伸部SH1對(duì)置。第1開關(guān)元件SW1與掃描線G及第1信號(hào)線S1電連接。第2開關(guān)元件SW2與掃描線G及第2信號(hào)線S2電連接。第1漏極電極WD1及第2漏極電極WD2與第1延伸部SH1對(duì)置。第1漏極電極WD1與第1開關(guān)元件SW1電連接。第1像素電極PE1經(jīng)由第1接觸孔C1而與第1漏極電極WD1電連接。第2漏極電極WD2與第2開關(guān)元件SW2電連接。第2像素電極PE2經(jīng)由第2接觸孔C2而與第2漏極電極WD2電連接。第1像素電極PE1及第2像素電極PE2配置在被遮光層SH包圍的區(qū)域。

第1間隔件SP1沿著第1延伸部SH1配置。第2間隔件SP2沿著第2延伸部SH2配置。第2間隔件SP2配置于配置有遮光層SH的第2基板200。通過(guò)將沿著比第1延伸部SH1細(xì)的第2延伸部SH2配置的第2間隔件SP2形成于配置有遮光層SH的一側(cè)的基板，能夠使貼合工序中的對(duì)于第1基板100和第2基板200的偏移的余量變大。

第1間隔件SP1配置于配置有第1漏極電極WD1及第2漏極電極WD2的第1基板100。第1間隔件SP1位于相鄰的第1接觸孔C1與第2接觸孔C2之間。因此，即使顯示裝置DSP高精細(xì)化而接觸孔間的間距變窄，通過(guò)第1基板100和第2基板200的貼合偏移及按壓時(shí)的基板偏移，也能夠抑制第1間隔件SP1或第2間隔件SP2向接觸孔的下落。因而，能夠由第1間隔件SP1及第2間隔件SP2維持希望的盒間隙。

圖8A及圖8B是表示間隔件形狀的變形例的圖。圖8A是第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的從第3方向Z的視點(diǎn)下的平面圖。圖8B是第1間隔件SP1的立體圖。

在本變形例中，第1間隔件SP1在第1承接部RE1具有縮頸部。第2間隔件SP2也在第2承接部RE2具有縮頸部。即，如圖8B所圖示那樣，在沿第2方向Y排列的第1承接部RE1及第1突出部PR1中，第1承接部RE1的第1方向X的寬度W11比第1突出部PR1的第1方向X的寬度W12窄。雖然省略了圖示，但在沿著第1方向X排列的第2承接部RE2及第2突出部PR2中，第2承接部RE2的第2方向Y的寬度比第2突出部PR2的第2方向Y的寬度窄。另外，縮頸形狀也可以僅第1間隔件SP1具有，也可以僅第2間隔件SP2具有。

圖9是表示第1間隔件的變形例的圖。

本變形例在第1間隔件SP1被配置在第4絕緣膜14之上這一點(diǎn)上與圖5所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。

共通電極CE配置在頂面RE1a上。第5絕緣膜15將第4絕緣膜14、第1間隔件SP1及共通電極CE覆蓋。第2承接部RE2隔著共通電極CE及第5絕緣膜15而支承著第1承接部RE1。第1間隔件SP1能夠由與第4絕緣膜14相同的材料形成。此外，第1間隔件SP1通過(guò)與第4絕緣膜14同時(shí)形成，能夠使第1基板100的制造工序簡(jiǎn)略化。因而，顯示裝置DSP能夠降低制造成本。

圖10是表示取向膜的配置的變形例的圖。

本變形例中，在第1間隔件SP1之下配置有第1取向膜AL1，在第2間隔件SP2之上配置有第2取向膜AL2，這一點(diǎn)與圖6所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。

在本變形例中，由于在基板偏移時(shí)在頂面RE1a與頂面RE2a之間不發(fā)生第1取向膜AL1及第2取向膜AL2的損傷，所以能夠抑制取向膜的碎片向液晶層LQ的混入。因而，能夠提供一種能夠抑制顯示品質(zhì)的下降的顯示裝置DSP。

圖11是表示遮光層及間隔件的配置的第1變形例的圖。

本變形在第1突出部PR1沿著第2延伸部SH2配置這一點(diǎn)上與圖3所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。第1承接部RE1配置在與比第2延伸部SH2寬幅的第1延伸部SH1對(duì)置的區(qū)域。第1突出部PR1的第1方向X的寬度比第1承接部RE1的第1方向X的寬度窄。此時(shí)，本變形能夠?qū)⒌?承接部RE1形成得較大。即，顯示裝置DSP能夠使作用于一組第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的負(fù)荷變大，能夠使第1間隔件SP1及第2間隔件SP2的數(shù)量減少。

圖12是表示遮光層及間隔件的配置的第2變形例的圖。

在本變形例中，與第1間隔件SP1或第2間隔件SP2對(duì)置的第2延伸部SH2的第1方向X的寬度WW2比不與第1間隔件SP1或第2間隔件SP2對(duì)置的第2延伸部SH2的第1方向X的寬度WW1寬。由此，能夠?qū)⑴c第2延伸部SH2對(duì)置配置的第1間隔件SP1形成得較大，能夠?qū)⒌?承接部RE1形成得較大。

圖13是表示具備副間隔件的顯示面板的遮光層及間隔件的配置的圖。

本變形例中，顯示面板PNL除了由第1間隔件SP1及第2間隔件SP2形成的主間隔件MS以外，還具備由第3間隔件SP3及第4間隔件SP4形成的副間隔件SS，這一點(diǎn)與圖12所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。另外，主間隔件MS沒(méi)有被特別限定，按照本實(shí)施方式的怎樣的結(jié)構(gòu)例形成都可以。主間隔件MS是在對(duì)顯示面板PNL沒(méi)有施加外力的狀態(tài)下支承盒間隙GP的間隔件。副間隔件SS在對(duì)顯示面板PNL沒(méi)有施加外力的狀態(tài)下，第3間隔件SP3和第4間隔件SP4在第3方向Z上離開。但是，副間隔件SS在對(duì)顯示面板PNL施加有外力的狀態(tài)下，第3間隔件SP3與第4間隔件SP4抵接，支承盒間隙GP。

第3間隔件SP3和第4間隔件SP4在第1延伸部SH1與第2延伸部SH2的交叉位置處交叉。例如，第3間隔件SP3沿著第2延伸部SH2配置，與第2延伸部SH2在第3方向Z上對(duì)置。此外，第4間隔件SP4沿著第1延伸部SH1配置，與第1延伸部SH1在第3方向Z上對(duì)置。在圖示的例子中，第3間隔件SP3及第4間隔件SP4與第1延伸部SH1及第2延伸部SH2雙方在第3方向Z上對(duì)置。第3間隔件SP3的沿著第1方向X的寬度比第1間隔件SP1的沿著第1方向X的寬度小，所以與副間隔件SS對(duì)置的第2延伸部SH2的第1方向X的寬度比與主間隔件MS對(duì)置的第2延伸部SH2的第1方向X的寬度窄。

圖14是沿著圖13所圖示的XIV－XIV’切斷線的顯示面板的切斷圖。

在圖示的例子中，第3間隔件SP3與第1間隔件SP1同樣，配置于第1基板100，向第2基板200側(cè)突出。此外，第4間隔件SP4與第2間隔件SP2同樣，配置于第2基板200，向第1基板100側(cè)突出。

在對(duì)顯示面板PNL沒(méi)有施加外力的狀態(tài)下，第3間隔件SP3和第4間隔件SP4在第3方向Z上離開。在對(duì)顯示面板PNL施加有外力的狀態(tài)下，第3間隔件SP3和第4間隔件SP4在第3方向Z上接近或抵接。在圖示的例子中，第3間隔件SP3具有沿著第3方向Z的高度HR3和沿著第2方向Y的長(zhǎng)度D3。第4間隔件SP4具有沿著第3方向Z的高度HR4和沿著第2方向Y的寬度W4。長(zhǎng)度D3比寬度W4長(zhǎng)。在這樣的具備副間隔件SS的結(jié)構(gòu)中，當(dāng)對(duì)顯示面板PNL施加有外力時(shí)，能夠緩和向主間隔件MS的沖擊的集中。

另外，第3間隔件SP3可以與第1間隔件SP1同樣地具備突出部。第4間隔件SP4也可以與第2間隔件SP2同樣地具備突出部。

圖15是表示圖4所圖示的第1基板及第1間隔件的變形例的圖。

本變形例中，第1基板100在第1承接部RE1之下具有凹部100a，這一點(diǎn)與圖4所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。

在凹部100a中，第1基板100的與第2基板200對(duì)置的一側(cè)的面凹陷。即，第1承接部RE1的底面比第1突出部PR1的底面更遠(yuǎn)離第2基板200。因此，即使第1承接部RE1的高度HR1與第1突出部PR1的高度HP1相等，第1突出部PR1也比第1承接部RE1更向第2基板200側(cè)突出。即，本變形例中，在第1間隔件SP1的形成時(shí)能夠不使用多灰階掩模而形成具有第1承接部RE1的第1間隔件SP1。

凹部100a例如通過(guò)使與第1承接部RE1對(duì)置的位置的第4絕緣膜14變薄來(lái)形成。但是，凹部100a沒(méi)有特別限定形成方法，例如，也可以通過(guò)使與第1承接部RE1對(duì)置的位置的第5絕緣膜15變薄來(lái)形成，也可以通過(guò)在與第1承接部RE1對(duì)置的位置處具有第5絕緣膜15、共通電極CE在第3方向Z上貫通的開口部而形成。換言之，也可以是，第1承接部RE1形成在第4絕緣膜14之上，第1突出部PR1形成在第5絕緣膜15或共通電極CE之上。

圖16是表示圖5所圖示的第2基板及第2間隔件的變形例的圖。

本變形例中，第2基板200在第2承接部RE2之上具有凹部200a，這一點(diǎn)與圖5所圖示的結(jié)構(gòu)例不同。

在凹部200a中，第2基板200的與第1基板100對(duì)置的一側(cè)的面凹陷。因此，本變形例中，即使第2承接部RE2的高度HR2與第2突出部PR2的高度HP2相等，第2突出部PR2也比第2承接部RE2更向第1基板100側(cè)突出。即，第2間隔件SP2在形成時(shí)能夠不使用多灰階掩模而形成具有第2承接部RE2的第2間隔件SP2。凹部200a例如通過(guò)使與第2承接部RE2對(duì)置的位置的外覆層OC變薄來(lái)形成。凹部200a也可以通過(guò)在與第2承接部RE2對(duì)置的位置處使濾色器CF或遮光層SH變薄、或在與第2承接部RE2對(duì)置的位置處開口以使外覆層OC、濾色器CF或遮光層SH在第3方向Z上貫通來(lái)形成。

如以上說(shuō)明，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠提供一種能夠抑制基板偏移的顯示裝置。

以上說(shuō)明了一些實(shí)施方式，但這些實(shí)施方式只是例示而不限制本發(fā)明的范圍。事實(shí)上，這里給出的新的實(shí)施方式可以通過(guò)各種各樣的形式來(lái)實(shí)施，進(jìn)而在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)能夠?qū)?shí)施方式的形式進(jìn)行各種各樣的省略、替代及變更。權(quán)利要求書包含本發(fā)明的范圍和主旨內(nèi)的這些形式或變更。