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曝光裝置以及制造物品的方法與流程

文檔序號:12269690閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種對基板上的第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域中的每一個進行曝光的曝光裝置,所述曝光裝置包括:

基板臺,被配置為能夠在保持所述基板的同時移動;以及

控制單元,被配置為在對第一拍攝區(qū)域進行曝光之后執(zhí)行對驅(qū)動基板臺的控制,并且然后在滿足用于對第二拍攝區(qū)域進行曝光的曝光條件的狀態(tài)中對第二拍攝區(qū)域進行曝光,

其中,控制單元

在不滿足所述曝光條件的情況下,在基于基板臺的驅(qū)動信息將基板臺從對第一拍攝區(qū)域進行曝光的結(jié)束位置驅(qū)動到對第二拍攝區(qū)域進行曝光的開始位置的同時,取消對第二拍攝區(qū)域進行曝光,并且然后

在滿足所述曝光條件的狀態(tài)中,在基于驅(qū)動信息將基板臺再次從所述結(jié)束位置驅(qū)動到所述開始位置之后對第二拍攝區(qū)域進行曝光。

2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置,其中,所述驅(qū)動信息包括表示基板臺的加速度與時間之間的關(guān)系的信息。

3.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置,其中,滿足曝光條件的狀態(tài)包括完成照射第二拍攝區(qū)域的光的成形的狀態(tài)。

4.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置,其中,曝光裝置通過在基板上掃描由用于對所述基板進行曝光的光形成的照射區(qū)域來對拍攝區(qū)域執(zhí)行曝光。

5.如權(quán)利要求4所述的曝光裝置,其中,所述驅(qū)動信息包括表示基板臺在所述照射區(qū)域的掃描方向上的加速度與時間之間的關(guān)系的信息。

6.一種制造物品的方法,所述方法包括:

使用根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的曝光裝置對基板進行曝光;

對曝光后的基板進行顯影;以及

處理顯影后的基板以制造所述物品。

7.一種用于制造物品的方法,所述方法包括:

使用曝光裝置對基板進行曝光;

對曝光后的基板進行顯影;以及

處理顯影后的基板以制造所述物品,

其中,所述曝光裝置對基板上的第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域中的每一個進行曝光,并且包括:

基板臺,被配置為能夠在保持所述基板的同時移動;以及

投影光學(xué)系統(tǒng),被配置為把掩模上所形成的圖案投影在所述基板上;以及

控制單元,被配置為在對第一拍攝區(qū)域進行曝光之后執(zhí)行對驅(qū)動基板臺的控制,并且然后在滿足用于對第二拍攝區(qū)域進行曝光的曝光條件的狀態(tài)中對第二拍攝區(qū)域進行曝光,

其中,所述控制單元

在不滿足所述曝光條件的情況下,在基于基板臺的加速度信息,按照垂直于所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸的方向,將基板臺從對第一拍攝區(qū)域進行曝光的結(jié)束位置驅(qū)動到對第二拍攝區(qū)域進行曝光的開始位置的同時,取消對第二拍攝區(qū)域進行曝光,并且然后

在滿足所述曝光條件的狀態(tài)中,在基于加速度信息將基板臺再次從所述結(jié)束位置驅(qū)動到所述開始位置之后對第二拍攝區(qū)域進行曝光,

其中,所述控制單元在根據(jù)預(yù)先通過基于加速度信息驅(qū)動基板臺而獲得的校正值來校正通過投影光學(xué)系統(tǒng)被投影到基板上的圖案圖像的狀態(tài)的同時,控制對第二拍攝區(qū)域進行曝光。

8.一種對在由能夠移動的基板臺保持的基板上的第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域中的每一個進行曝光的曝光方法,所述曝光方法包括:

在對第一拍攝區(qū)域進行曝光之后驅(qū)動基板臺,以及然后

在滿足用于對第二拍攝區(qū)域進行曝光的曝光條件的狀態(tài)中對第二拍攝區(qū)域進行曝光,

其中,在不滿足所述曝光條件的情況下,在基于基板臺的驅(qū)動信息將基板臺從對第一拍攝區(qū)域進行曝光的結(jié)束位置驅(qū)動到對第二拍攝區(qū)域進行曝光的開始位置的同時,取消對第二拍攝區(qū)域進行曝光,并且然后在滿足所述曝光條件的狀態(tài)中,在基于驅(qū)動信息將基板臺再次從所述結(jié)束位置驅(qū)動到所述開始位置之后對第二拍攝區(qū)域執(zhí)行曝光。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法,其中,所述驅(qū)動信息包括表示基板臺的加速度與時間之間的關(guān)系的信息。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法,其中,滿足曝光條件的狀態(tài)包括完成照射第二拍攝區(qū)域的光的成形的狀態(tài)。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法,其中,通過在基板上掃描由用于對所述基板進行曝光的光形成的照射區(qū)域來對在基板上的拍攝區(qū)域進行曝光。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法,其中,所述驅(qū)動信息包括表示基板臺在所述照射區(qū)域的掃描方向上的加速度與時間之間的關(guān)系的信息。

13.一種制造物品的方法,所述方法包括:

使用根據(jù)權(quán)利要求8至12中任一項所述的曝光方法對基板進行曝光;

對曝光后的基板進行顯影;以及

處理顯影后的基板以制造所述物品。

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