技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種曝光裝置以及一種制造物品的方法。

背景技術(shù)：

用于半導(dǎo)體器件等的制造步驟(光刻步驟)中所使用的裝置之一是曝光裝置，其將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。曝光裝置需要準(zhǔn)確地將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。為此，重要的是，使得投影光學(xué)系統(tǒng)的成像平面(聚焦平面)與曝光裝置中的基板表面一致。曝光裝置因此執(zhí)行聚焦測量，以測量基板表面的高度。

然而，由于與曝光裝置中的基板臺的加速或減速相伴隨生成反作用力，因此曝光裝置中的框架結(jié)構(gòu)變形并且由此可能生成聚焦測量結(jié)果的誤差?？赡茏兊秒y以準(zhǔn)確地將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。日本專利公開No.9-199386已經(jīng)提出了一種方法：根據(jù)基板臺的加速度預(yù)先測量基板上投影的圖像的偏移量，并且當(dāng)對基板進(jìn)行曝光時，將該偏移量作為校正值應(yīng)用于聚焦測量的結(jié)果。日本專利公開No.2011-238707已經(jīng)提出了一種方法：作為校正值，預(yù)先獲得基板臺的加速度和恒定速度移動期間的聚焦測量的各結(jié)果之間的差，并且基于該校正值來校正在基板臺的加速期間的聚焦測量的結(jié)果。

通常，在根據(jù)基板臺的加速度基于預(yù)先所獲得的校正值來校正聚焦測量的結(jié)果的同時，曝光裝置對基板上的多個拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光。然而，在多個拍攝區(qū)域當(dāng)中可能生成因?yàn)橹钡狡毓忾_始才滿足曝光條件所以尚未被曝光的拍攝區(qū)域(未曝光的拍攝區(qū)域)。為了增加成品率，即使未曝光的拍攝區(qū)域也需要曝光。當(dāng)對未曝光的拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光時，期望地應(yīng)用預(yù)先所獲得的校正值。因此，當(dāng)對未曝光的拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光時，應(yīng)以與當(dāng)按順序?qū)Χ鄠€拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光時相同的方式來驅(qū)動基板臺。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種有利于準(zhǔn)確地將掩模的圖案轉(zhuǎn)印到基板上的曝光裝置。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種對基板上的多個拍攝區(qū)域中的每一個進(jìn)行曝光的曝光裝置，包括：基板臺，被配置為能夠在保持基板的同時移動；以及控制單元；其中，所述多個拍攝區(qū)域包括第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域，第二拍攝區(qū)域接著第一拍攝區(qū)域被曝光，以及控制單元在對第一拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光結(jié)束之后直到第二拍攝區(qū)域的曝光開始的時段中根據(jù)基板臺的驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺，并且當(dāng)在該時段中不滿足用于對第二拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光的曝光條件時，控制單元根據(jù)所述驅(qū)動信息來再次驅(qū)動基板臺并然后對第二拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種制造物品的方法，該方法包括：使用曝光裝置對基板進(jìn)行曝光；對曝光后的基板進(jìn)行顯影；以及處理顯影后的基板以制造物品，其中，該曝光裝置對基板上的多個拍攝區(qū)域中的每一個進(jìn)行曝光，并且包括：基板臺，被配置為能夠在保持所述基板的同時移動；以及控制單元，其中，所述多個拍攝區(qū)域包括第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域，第二拍攝區(qū)域接著第一拍攝區(qū)域被曝光，以及控制單元在對第一拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光結(jié)束之后直到第二拍攝區(qū)域的曝光開始的時段中根據(jù)基板臺的驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺，并且當(dāng)在該時段中不滿足用于對第二拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光的曝光條件時，控制單元根據(jù)所述驅(qū)動信息來再次驅(qū)動基板臺并然后對第二拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供一種對基板上的多個拍攝區(qū)域中的每一個進(jìn)行曝光的曝光裝置，包括：基板臺，被配置為能夠在保持基板的同時移動；以及控制單元；其中，所述多個拍攝區(qū)域包括第一拍攝區(qū)域和第二拍攝區(qū)域，第二拍攝區(qū)域接著第一拍攝區(qū)域被曝光，以及控制單元在對第一拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光的結(jié)束之后直到第二拍攝區(qū)域的曝光開始的時段中驅(qū)動基板臺，并且當(dāng)在該時段中不滿足用于對第二拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光的曝光條件時，控制單元將基板臺驅(qū)動到第一拍攝區(qū)域已被曝光了的位置并然后再次驅(qū)動基板臺，以便開始第二拍攝區(qū)域的曝光。

從參照附圖的示例性實(shí)施例的以下描述，本發(fā)明的其它特征將變得清楚。

附圖說明

圖1是示出根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置的視圖；

圖2是示出曝光處理中的基板臺的驅(qū)動信息的圖；

圖3是用于解釋在曝光處理中驅(qū)動基板臺的視圖；

圖4是示出常規(guī)曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動信息的圖；

圖5是用于解釋常規(guī)曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動的視圖；

圖6是示出根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動信息的圖；

圖7是用于解釋根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動的視圖；

圖8是示出根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動信息的圖；以及

圖9是用于解釋根據(jù)驅(qū)動第二實(shí)施例的曝光裝置中的基板臺的驅(qū)動的視圖。

具體實(shí)施方式

以下將參照附圖描述本發(fā)明示例性實(shí)施例。注意，相同標(biāo)號在整個附圖表示相同構(gòu)件，并且將不給出其重復(fù)性描述。

<第一實(shí)施例>

將參照圖1描述根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的曝光裝置100。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的曝光裝置100的視圖。根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100是步進(jìn)&掃描型掃描曝光裝置，其使用狹縫形光對基板進(jìn)行掃描并且曝光。曝光裝置100包括照明光學(xué)系統(tǒng)10、掩模臺12、投影光學(xué)系統(tǒng)13、基板臺15、位置測量單元17、聚焦測量單元21和控制單元22。控制單元22包括CPU和存儲器，并且控制整個曝光裝置100(曝光裝置100的各個單元)。更具體地說，控制單元22控制將掩模11上所形成的圖案轉(zhuǎn)印到基板14上的處理(對基板14進(jìn)行掃描并且曝光的處理)。投影光學(xué)系統(tǒng)13被結(jié)構(gòu)16支撐。結(jié)構(gòu)16由固定到底板的基座20經(jīng)由柱狀物19支撐，以便抑制來自上面固定曝光裝置100的位置(底板)的振動?；迮_15經(jīng)由支撐臺18被基座20支撐，并且被配置為可在支撐臺18上在X方向和Y方向上移動。

照明光學(xué)系統(tǒng)10通過使用照明光學(xué)系統(tǒng)10中所包括的光屏蔽構(gòu)件(如掩模刀片)將光源(未示出)所發(fā)射的光形成為具有例如長度在X方向上的帶形或圓弧形的狹縫形光。然后，照明光學(xué)系統(tǒng)10用狹縫形光來照射掩模11的部分。掩模11和基板14分別被掩模臺12和基板臺15保持，并且經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)13被布置在光學(xué)上幾乎共軛的位置(投影光學(xué)系統(tǒng)13的物體平面和圖像平面)處。投影光學(xué)系統(tǒng)13具有預(yù)定投影放大率(例如1/2或1/4)，并且將掩模11上所形成的圖案通過狹縫形光投影到基板上。下文中，掩模上的圖案被投影到的基板上的區(qū)域(以狹縫形光照射的區(qū)域)將被稱為照射區(qū)域25。掩模臺12和基板臺15被配置為可在與投影光學(xué)系統(tǒng)13的光軸方向(Z方向)垂直的方向(第一實(shí)施例中，Y方向)上移動。掩模臺12和基板臺15以與投影光學(xué)系統(tǒng)13的投影放大倍率相對應(yīng)的速度比率彼此同步地相對掃描。在基板上Y方向上掃描照射區(qū)域25的同時，掩模11上所形成的圖案可以轉(zhuǎn)印到基板上的拍攝區(qū)域。通過在移動基板臺15的同時對于基板上的多個拍攝區(qū)域中的每一個依次重復(fù)這種掃描曝光，可以完成一個基板14上的曝光處理。

位置測量單元17包括例如激光干涉儀，并且測量基板臺15的位置。例如，激光干涉儀朝向基板臺15的反射板15a發(fā)射激光束，并且基于反射板15a所反射的激光束來檢測距基板臺15上的基準(zhǔn)位置的位移?；谠撐灰?，位置測量單元17可以獲得基板臺15的當(dāng)前位置。根據(jù)第一實(shí)施例的位置測量單元17使用激光束通過激光干涉儀來測量基板臺15的位置。然而，本發(fā)明不限于此，并且可以通過例如編碼器來測量基板臺15的位置。

在基板臺15正在移動的同時，聚焦測量單元21測量基板14的高度，以使得基板表面與投影光學(xué)系統(tǒng)13的成像平面(聚焦平面)一致。根據(jù)第一實(shí)施例的聚焦測量單元21是斜入射型的，其中，用光傾斜地照射基板14。聚焦測量單元21包括：照射單元21a，其用光來照射基板14；光接收單元21b，其接收基板14所反射的光。照射單元21a包括例如光源、投影標(biāo)記和光學(xué)系統(tǒng)。照射單元21a用光源所發(fā)射的光來照射投影標(biāo)記，并且經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)在基板上形成投影標(biāo)記的圖像。光接收單元21b包括例如成像光學(xué)系統(tǒng)和傳感器。光接收單元21b經(jīng)由成像光學(xué)系統(tǒng)在傳感器上形成基板14所反射的投影標(biāo)記的圖像。傳感器輸出例如表示形成有投影標(biāo)記的圖像的傳感器上的位置的信息。由于聚焦測量單元21傾斜地在基板14上形成投影標(biāo)記的圖像，因此基板14的高度的改變變?yōu)閭鞲衅魃系某上裎恢玫母淖儭Ｒ虼丝梢曰趤碜詡鞲衅鞯妮敵?表示傳感器上的成像位置的信息)來測量基板14的高度。

具有這種布置的曝光裝置100需要準(zhǔn)確地將掩模11的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。為此，重要的是，使得投影光學(xué)系統(tǒng)13的成像平面(聚焦平面)與基板表面一致。因此，在曝光裝置100中，聚焦測量單元21執(zhí)行聚焦測量，以測量基板表面的高度。然而，由于與曝光裝置100中的基板臺15的加速或減速相伴隨生成反作用力，因此框架結(jié)構(gòu)(例如結(jié)構(gòu)16)變形，并由此可能生成聚焦測量的測量結(jié)果的誤差。結(jié)果，經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)13在基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)可能改變?？赡茏兊秒y以準(zhǔn)確地將掩模11的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。為了解決該問題，在曝光裝置100中，在基板14的曝光處理中根據(jù)基板臺15的驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺15的同時，預(yù)先獲得用于校正聚焦測量的結(jié)果的校正值(偏移值)，即圖案圖像的狀態(tài)。在通過使用預(yù)先所獲得的校正值來校正基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)(聚焦測量的結(jié)果)的同時，多個拍攝區(qū)域14a中的每一個得以曝光?；迮_15的驅(qū)動信息表示基板臺15的加速度與時間之間的關(guān)系。通過改變基板14的高度、掩模11的高度以及投影光學(xué)系統(tǒng)13的投影倍率中的至少一個來校正基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)。

將參照圖2和圖3來解釋曝光處理中的基板臺15的驅(qū)動信息。圖2是示出當(dāng)驅(qū)動基板臺15時基板臺15的驅(qū)動信息的圖。圖3是用于解釋在曝光處理中基板臺15的驅(qū)動的視圖。圖3示出照射區(qū)域25中的中心路徑(箭頭26)。在圖2中，橫軸指示時間，縱軸指示Y方向上基板臺15的加速度。在基板上形成多個拍攝區(qū)域14a。當(dāng)對每個拍攝區(qū)域14a進(jìn)行曝光時，即當(dāng)照射區(qū)域25存在于每個拍攝區(qū)域14a中時，曝光裝置100(的控制單元22)控制基板臺15的驅(qū)動，以使得基板臺15按恒定速度移動。以下將解釋在多個拍攝區(qū)域14a中的拍攝區(qū)域A(第一拍攝區(qū)域)和接下來待曝光的拍攝區(qū)域B(第二拍攝區(qū)域)的曝光處理中在Y方向上驅(qū)動基板臺15。

控制單元22將+Y方向上的加速度101給予基板臺15，如圖2所示，直到拍攝區(qū)域A的曝光開始，即，直到照射區(qū)域到達(dá)拍攝區(qū)域A(圖3中的箭頭26a)。響應(yīng)于此，基板臺15可以在+Y方向上加速，以達(dá)到預(yù)定速度。在基板臺15達(dá)到預(yù)定速度之后，控制單元22以恒定速度來使得基板臺移動，以使得照射區(qū)域25在+Y方向上以恒定速度掃描拍攝區(qū)域A(圖3中的箭頭26b)?？刂茊卧?2在照射區(qū)域25達(dá)到拍攝區(qū)域A時開始拍攝區(qū)域A的曝光，而當(dāng)照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域A時結(jié)束拍攝區(qū)域A的曝光。在圖2中，時間102是對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的時間。在照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域A之后，控制單元22將-Y方向上的加速度103給予基板臺15，以使得基板臺15減速，如圖2所示(圖3中的箭頭26c)。甚至在基板臺15停止之后，控制單元22也保持將-Y方向上的加速度104給予基板臺15，以在-Y方向上使得基板臺15加速(圖3中的箭頭26d)。相應(yīng)地，基板臺15可以達(dá)到預(yù)定速度。在基板臺15達(dá)到預(yù)定速度之后，控制單元22以恒定速度來使得基板臺15移動，以使得照射區(qū)域25在-Y方向上以恒定速度掃描拍攝區(qū)域B(圖3中的箭頭26e)?？刂茊卧?2當(dāng)照射區(qū)域25達(dá)到拍攝區(qū)域B時開始拍攝區(qū)域B的曝光，而當(dāng)照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域B時結(jié)束拍攝區(qū)域B的曝光。在圖2中，時間105是對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間。

在根據(jù)如圖2所示而配置的驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺15的同時，根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100預(yù)先獲得用于校正基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)的校正值。在根據(jù)驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺15的同時，曝光裝置100對多個拍攝區(qū)域14a中的每一個進(jìn)行曝光。此時，通過使用預(yù)先所獲得的校正值來校正基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)(聚焦測量的結(jié)果)。即，當(dāng)獲得校正值時并且當(dāng)對多個拍攝區(qū)域14a中的每一個進(jìn)行曝光時，曝光裝置100根據(jù)相同的驅(qū)動信息來驅(qū)動基板臺15。

在曝光裝置100中，在對拍攝區(qū)域A(第一拍攝區(qū)域)進(jìn)行曝光結(jié)束之后直到拍攝區(qū)域B(第二拍攝區(qū)域)的曝光開始的時段中滿足用于對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的曝光條件。即，在圖2中的時段121中滿足用于對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的曝光條件。曝光條件的示例是：照射拍攝區(qū)域的狹縫形光的成形是否完成，如照明光學(xué)系統(tǒng)10中所包括的光屏蔽構(gòu)件(如掩模刀片)的驅(qū)動是否完成，或光源中的光的發(fā)射準(zhǔn)備是否完成。通常，滿足曝光條件所耗費(fèi)的時間在多個拍攝區(qū)域14a之間不同。例如，在時段121中，可能不滿足用于對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的曝光條件。在此情況下，曝光裝置100不對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。然而，為了提高成品率，曝光裝置100需要甚至對因?yàn)樵跁r段121中不滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件所以尚未被曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。當(dāng)在時段121中不滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件時，曝光裝置100中斷用于對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的基板臺15的驅(qū)動。然后，曝光裝置100驅(qū)動基板臺15以對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。將通過對常規(guī)曝光裝置與根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100進(jìn)行比較來解釋當(dāng)對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時的基板臺15的驅(qū)動。

將參照圖4解釋當(dāng)在常規(guī)曝光裝置中對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時的基板臺15的驅(qū)動。圖4是示出常規(guī)曝光裝置中的基板臺15的驅(qū)動信息的圖。在圖4中，橫軸指示時間，縱軸指示Y方向上基板臺15的加速度。將參照圖3解釋常規(guī)曝光裝置中的曝光處理中的基板臺15的驅(qū)動?？刂茊卧?2將+Y方向上的加速度401給予基板臺15，直到拍攝區(qū)域A的曝光開始，即直到照射區(qū)域25達(dá)到拍攝區(qū)域A(圖3中的箭頭26a)。響應(yīng)于此，基板臺15可以在+Y方向上加速，以達(dá)到預(yù)定速度。在基板臺15達(dá)到預(yù)定速度之后，控制單元22以恒定速度來使得基板臺15移動，以使得照射區(qū)域25在+Y方向上以恒定速度掃描拍攝區(qū)域A(圖3中的箭頭26b)?？刂茊卧?2當(dāng)照射區(qū)域25達(dá)到拍攝區(qū)域A時開始拍攝區(qū)域A的曝光，而當(dāng)照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域A時結(jié)束拍攝區(qū)域A的曝光。在圖4中，時間402是對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的時間。在照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域A之后，控制單元22將-Y方向上的加速度403給予基板臺15，以使得基板臺15減速(圖3中的箭頭26c)。甚至在基板臺15停止之后，控制單元22也保持將-Y方向上的加速度404給予基板臺15，以使得基板臺15在-Y方向上加速(圖3中的箭頭26d)。相應(yīng)地，基板臺15可以達(dá)到預(yù)定速度(圖3中的箭頭26e)。然而，在圖4所示的示例中，于在拍攝區(qū)域A的曝光的結(jié)束之后直到拍攝區(qū)域B的曝光開始的時段421中不滿足用于對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的曝光條件。即，滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件所耗費(fèi)的時間420變得比時段421更長，曝光裝置無法在時間405中對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。曝光裝置需要對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。因此，常規(guī)曝光裝置把照射區(qū)域25布置在位置27處，并且在-Y方向上從位置27掃描照射區(qū)域25，以對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光，如圖5所示。

在照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域B而沒有對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光之后，控制單元22將+Y方向上的加速度406給予基板臺15，以使得基板臺15減速并且停止(圖3中的箭頭26f)。然后，控制單元22將+Y方向上的加速度407給予基板臺15，以使得基板臺15在+Y方向上加速。此外，控制單元22將-Y方向上的加速度409給予基板臺15，以使得基板臺15減速并且停止。通過該操作，可以在位置27處布置照射區(qū)域25。此后，控制單元22將-Y方向上的加速度410給予基板臺15，以使得基板臺15加速(圖5中的箭頭28a)?；迮_15達(dá)到預(yù)定速度，以對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光(圖5中的箭頭28b)。在圖4中，時間411是對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間。以此方式，常規(guī)曝光裝置在位置27處布置照射區(qū)域25，并然后對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。

然而，當(dāng)在位置27處布置照射區(qū)域25并然后對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，如在常規(guī)曝光裝置中那樣，時段421中的基板臺15的驅(qū)動信息與時段422中的基板臺15的驅(qū)動信息變得彼此不同。即，直到對拍攝區(qū)域B的曝光開始的基板臺15的驅(qū)動信息改變，與基板臺15的驅(qū)動相伴隨的裝置變形在時段421與時段422之間不同。結(jié)果，應(yīng)該對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間405中的圖案圖像的狀態(tài)和實(shí)際上對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間411中的圖案圖像的狀態(tài)變得不同。因此，當(dāng)在時間411中對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，即使通過使用預(yù)先所獲得的校正值來校正圖案圖像的狀態(tài)，校正也可能是不充分的，并且可能變得難以準(zhǔn)確地將掩模11的圖案轉(zhuǎn)印到基板上。

接下來，將參照圖6解釋當(dāng)在根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100中對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時的基板臺15的驅(qū)動。圖6是示出根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置中的基板臺15的驅(qū)動信息的圖。在根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100中，當(dāng)對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，把照射區(qū)域25布置在位置29處，如圖7所示。控制單元22根據(jù)在對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的時間402中并且在對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的結(jié)束之后直到對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的開始的時段421中的基板臺15的驅(qū)動信息來再次驅(qū)動基板臺15。然后，控制單元22對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。在應(yīng)該對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間405之后，控制單元22將+Y方向上的加速度206給予基板臺15，以使得基板臺15減速，并且在-X方向上移動它。結(jié)果，照射區(qū)域25在時間221定位在位置29處。

在把照射區(qū)域25布置于位置29處之后，控制單元22將+Y方向上的加速度207給予基板臺，以使得基板臺15加速(圖7中的箭頭30a)。在將基板臺15保持在預(yù)定速度的同時，控制單元22控制照射區(qū)域25，以穿過拍攝區(qū)域A(圖7中的箭頭30b)。在圖6中，時間208是照射區(qū)域25穿過拍攝區(qū)域A的時間。由于已經(jīng)在時間402中對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光，因此控制單元22在時間208中不對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光。

在照射區(qū)域25離開拍攝區(qū)域A之后，控制單元22將-Y方向上的加速度209給予基板臺15，以使得基板臺減速，如圖6所示(圖7中的箭頭30c)。甚至在基板臺15停止之后，控制單元22也保持將-Y方向上的加速度210給予基板臺15，以使得基板臺15在-Y方向上加速(圖7中的箭頭30d)。然后，控制單元22控制基板臺15達(dá)到預(yù)定速度，并且對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光(圖7中的箭頭30e)。在圖6中，時間211是對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間。以此方式，在對因?yàn)椴粷M足曝光條件所以尚未被曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光之前，根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100在時段421中根據(jù)基板臺15的驅(qū)動信息來再次驅(qū)動基板臺15。時段421和時段222中的與基板臺15的驅(qū)動相伴隨的裝置形變可以彼此接近。因此，應(yīng)該對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間405中的圖案圖像的狀態(tài)和實(shí)際上對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間211中的圖案圖像的狀態(tài)可以變得彼此接近。即，當(dāng)在時間211中對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，可以通過使用預(yù)先所獲得的校正值來校正圖案圖像的狀態(tài)而將掩模11的圖案準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)印到拍攝區(qū)域B上。

如上所述，在根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100中，因?yàn)樵趯ε臄z區(qū)域A進(jìn)行曝光結(jié)束之后直到拍攝區(qū)域B的曝光開始的時段中不滿足曝光條件，所以拍攝區(qū)域B有時并未得以曝光。在此情況下，根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100在該時段中根據(jù)基板臺15的驅(qū)動信息再次驅(qū)動基板臺，然后對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。應(yīng)該對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間中的圖案圖像的狀態(tài)和實(shí)際上對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間中的圖案圖像的狀態(tài)可以變得彼此接近。當(dāng)對未曝光的拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，可以通過使用預(yù)先所獲得的校正值來校正圖案圖像的狀態(tài)。掩模的圖案可以準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)印到拍攝區(qū)域B上。

根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100根據(jù)在時間402和時段421中的基板臺15的驅(qū)動信息再次驅(qū)動基板臺15之后對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光，如參照圖6和圖7所描述那樣。然而，本發(fā)明不限于此。僅必須的是，在對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光之前，根據(jù)在對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的結(jié)束之后直到對拍攝區(qū)域B開始曝光的時段421中的基板臺15的至少驅(qū)動信息再次驅(qū)動基板臺。在根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100中，在照射區(qū)域25掃描拍攝區(qū)域B的結(jié)束之后立即驅(qū)動基板臺15以把照射區(qū)域25布置在位置29處。然而，本發(fā)明不限于此。例如，在照射區(qū)域25掃描基板上的所有拍攝區(qū)域之后，基板臺15可以被驅(qū)動，以把照射區(qū)域25布置在位置29處。此外，在第一實(shí)施例中，期望當(dāng)根據(jù)基板臺15的驅(qū)動信息再次驅(qū)動基板臺15時根據(jù)在時間402和時段421中的掩模臺12的驅(qū)動信息甚至再次驅(qū)動掩模臺12。

<第二實(shí)施例>

第二實(shí)施例將解釋在步進(jìn)&重復(fù)曝光裝置中對因?yàn)椴粷M足曝光條件所以尚未被曝光的拍攝區(qū)域進(jìn)行曝光的方法。步進(jìn)&重復(fù)曝光裝置當(dāng)對拍攝區(qū)域14a進(jìn)行曝光時不驅(qū)動基板臺15，并且在基板臺15停止的狀態(tài)下對拍攝區(qū)域14a進(jìn)行曝光。在根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置中，基板上用光所照射的照射區(qū)域25變?yōu)樵诔叽缟系扔谂臄z區(qū)域14a。根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置的布置與根據(jù)第一實(shí)施例的曝光裝置100的布置相同，將不重復(fù)其描述。

將參照圖8和圖9解釋在根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置中的曝光處理的基板臺15的驅(qū)動信息。圖8是示出當(dāng)驅(qū)動基板臺15時基板臺15的驅(qū)動信息的圖。圖9是用于解釋曝光處理中的基板臺15的驅(qū)動的視圖。圖9示出照射區(qū)域25中的中心路徑。在根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置中，在從基板臺15的停止起經(jīng)過預(yù)定時間600之后，獲得用于校正基板14上所投影的圖案圖像的狀態(tài)的校正值。

控制單元22將+Y方向上的加速度601給予基板臺15，以使得基板臺15加速(圖9中的箭頭30a)。然后，控制單元22將-Y方向上的加速度602給予基板臺15，以使得基板臺15減速(圖9中的箭頭30b)，并且使其停止。通過該操作，把照射區(qū)域25布置在拍攝區(qū)域A中。在滿足拍攝區(qū)域A的曝光條件并且從基板臺15的停止經(jīng)過預(yù)定時間600(穩(wěn)定時間621)之后，控制單元22對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光。在圖8中，時間611是滿足拍攝區(qū)域A的曝光條件的時間。時間612是對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的時間。在對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光的結(jié)束之后，控制單元22將+Y方向上的加速度603給予基板臺15，以使得基板臺15加速(圖9中的箭頭30c)?？刂茊卧?2將-Y方向上的加速度604給予基板臺15，以使得基板臺15減速(圖9中的箭頭30d)，并且使其停止。因此，照射區(qū)域25被布置在拍攝區(qū)域B中。在滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件并且從基板臺15的停止經(jīng)過預(yù)定時間600之后，控制單元22對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。在圖8中，時間613是滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件的時間。時間614是應(yīng)該對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間。

然而，如圖8所示，滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件的時間613的結(jié)束時間比預(yù)定時間600的結(jié)束時間晚。換句話說，在對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光之前的基板臺15的穩(wěn)定時間622變得比預(yù)定時間600長。如果在穩(wěn)定時間622之后的時間614中對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光，則在獲得校正值時的圖案圖像的狀態(tài)以及時間614中的圖案圖像的狀態(tài)彼此不同。為了防止這種情況，控制單元22在時間614中使得拍攝區(qū)域B的曝光停止，并且將-Y方向上的加速度605給予基板臺15。然后，控制單元22將+Y方向上的加速度606給予基板臺，以使得在時間624把照射區(qū)域25布置在拍攝區(qū)域A中。控制單元22將+Y方向上的加速度607給予基板臺，以使基板臺15在+Y方向上加速，以使得把照射區(qū)域25布置在拍攝區(qū)域B中(圖9中的箭頭30c)?？刂茊卧?2將-Y方向上的加速度608給予基板臺15，以使得基板臺15在-Y方向上減速(圖9中的箭頭30d)，并且使其停止。在從基板臺15的停止經(jīng)過預(yù)定時間600(穩(wěn)定時間623)之后，控制單元22對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。相應(yīng)地，在拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光的時間615中的圖案圖像的狀態(tài)可以接近于在獲得校正值時的圖案圖像的狀態(tài)。當(dāng)在時間615中對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，可以通過使用預(yù)先所獲得的校正值校正圖案圖像的狀態(tài)來將掩模的圖案準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)印到拍攝區(qū)域B上。

如上所述，在根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置中，在對拍攝區(qū)域A進(jìn)行曝光結(jié)束之后直到拍攝區(qū)域B的曝光開始的時段中，有時并不滿足拍攝區(qū)域B的曝光條件。在此情況下，根據(jù)第二實(shí)施例的曝光裝置在該時段中根據(jù)基板臺15的驅(qū)動信息再次驅(qū)動基板臺15，然后對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光。在對基板臺15進(jìn)行曝光之前的穩(wěn)定時間可以變?yōu)榈扔陬A(yù)定時間600。當(dāng)對拍攝區(qū)域B進(jìn)行曝光時，可以使用預(yù)先所獲得的校正值來校正圖案圖像的狀態(tài)。因此，掩模的圖案可以準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)印到拍攝區(qū)域上。

<制造物品的方法的實(shí)施例>

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制造物品的方法適合于制造如微器件(例如半導(dǎo)體器件)或具有微結(jié)構(gòu)的元件之類的物品。根據(jù)實(shí)施例的制造物品的方法包括：通過使用上述掃描曝光裝置在施加到基板的光敏劑上形成潛像圖案的步驟(對基板進(jìn)行曝光的步驟)；對在前一步驟中形成潛像圖案的基板進(jìn)行顯影的步驟。此外，該制造方法包括其它公知的步驟(例如氧化、沉積、氣相沉積、摻雜、平面化、刻蝕、抗蝕劑移除、切割、鍵合以及封裝)。根據(jù)該實(shí)施例的制造物品的方法在物品的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的至少一個方面優(yōu)于常規(guī)方法。

雖然已經(jīng)參照示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)理解，本發(fā)明不限于公開的示例性實(shí)施例。所附權(quán)利要求的范圍將要被賦予最寬泛的解釋，以便包括所有這樣的修改以及等效的結(jié)構(gòu)和功能。