技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
根據(jù)一些實(shí)施例提供一種光刻方法。該光刻方法包括：提供基底；形成交聯(lián)層于基底上方，其中交聯(lián)層與基底接觸；形成圖案化層于交聯(lián)層上方；藉由使用圖案化層作為掩模，以形成圖案于交聯(lián)層及基底中；藉由使用輻射源來(lái)處理交聯(lián)層，以將交聯(lián)層轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂袦p少的分子量的去交聯(lián)層；以及藉由使用不會(huì)導(dǎo)致基底損壞的溶液以移除去交聯(lián)層。

技術(shù)研發(fā)人員：翁明暉;劉朕與;張慶裕
受保護(hù)的技術(shù)使用者：臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.21
技術(shù)公布日：2017.08.04