本發(fā)明涉及感光性組合物、固化物的制造方法、固化膜、顯示裝置、及觸控板。
背景技術(shù):
::液晶顯示裝置、有機(jī)el(electroluminescence,場致發(fā)光)顯示裝置等平板顯示器被廣泛使用。此外,近年來,隨著智能手機(jī)、平板終端的普及,靜電容量式觸控板受到注目。靜電容量式觸控板的傳感器基板一般是在玻璃或膜上具有透明電極(ito(indiumtinoxide,氧化銦錫)及izo(indiumzincoxide,氧化銦鋅)等)及金屬電極(銀、銅、鉬、鈦、鋁等、以及它們的層疊體及合金等)被圖案化而成的布線,此外在布線的交叉部具有絕緣膜、保護(hù)ito及金屬的保護(hù)膜的結(jié)構(gòu)。此外,作為以往的感光性組合物,例如在日本特開2014-197171號公報中記載了一種感光性樹脂組合物,其特征在于,其是含有(a)堿可溶性樹脂、(b)金屬螯合物化合物、及(c)馬來酰亞胺化合物的感光性樹脂組合物,上述(b)金屬螯合物化合物為通式(1)所表示的化合物,上述(c)馬來酰亞胺化合物為具有通式(2)所表示的取代基的化合物。[化學(xué)式1](在通式(1)中,m表示鈦、鋯、鋁或鎂,r1表示氫、碳原子數(shù)為1~10的烷基、碳原子數(shù)為4~10的環(huán)烷基或碳原子數(shù)為6~15的芳基,r2及r3分別獨(dú)立地表示氫、碳原子數(shù)為1~20的烷基、碳原子數(shù)為4~10的環(huán)烷基、碳原子數(shù)為6~15的芳基、碳原子數(shù)為1~6的烷氧基或羥基,n及m表示0~4的整數(shù),為n+m=2~4。在通式(2)中,r4及r5分別獨(dú)立地表示氫、碳原子數(shù)為1~10的烷基、碳原子數(shù)為4~10的環(huán)烷基、碳原子數(shù)為6~15的芳基或以r4及r5形成環(huán)的碳原子數(shù)為1~10的亞烷基鏈、碳原子數(shù)為4~10的環(huán)亞烷基鏈或碳原子數(shù)為6~15的亞芳基鏈。)進(jìn)而,作為以往的感光性組合物,例如在日本專利第4273894號公報中記載了一種樹脂組合物,其特征在于,其是為了形成印刷電路板的保護(hù)膜而使用的樹脂組合物,包含(a)雙馬來酰亞胺化合物、(b)光聚合引發(fā)劑、(c)具有烯屬不飽和鍵的光聚合性化合物、(d)熱固化性樹脂、及(e)下述通式(1a)或(1b)所表示的三唑化合物,通過光及熱而固化。[化學(xué)式2](式中r1、r2及r3分別獨(dú)立地表示氫原子、氨基、巰基、羧基或肼基。其中,r1、r2及r3中的至少1個為氨基或巰基。)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明所要解決的課題本發(fā)明的一實(shí)施方式所要解決的課題是提供所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性優(yōu)異的感光性組合物、使用了上述感光性組合物的固化物的制造方法、使上述感光性組合物固化而得到的固化膜、以及使用了上述固化膜的顯示裝置及觸控板。用于解決課題的方案上述課題通過以下的<1>、<10>、<12>、<14>或<15>中記載的方案而解決。與作為優(yōu)選的實(shí)施方式的<2>~<9>、<11>及<13>一起記載于以下。<1>一種感光性組合物,其至少包含:具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物、光聚合引發(fā)劑、二氧化硅粒子、選自由三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物、馬來酰亞胺化合物和溶劑,感光性組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量為250g/mol以下。<2>根據(jù)<1>所述的感光性組合物,其中,上述光聚合引發(fā)劑為肟酯化合物。<3>根據(jù)<1>或<2>所述的感光性組合物,其中,上述二氧化硅粒子的含量相對于感光性組合物的全部固體成分為5質(zhì)量%以上且低于40質(zhì)量%。<4>根據(jù)<1>~<3>中任一項所述的感光性組合物,其中,上述二氧化硅粒子的平均一次粒徑為1~30nm。<5>根據(jù)<1>~<4>中任一項所述的感光性組合物,其中,上述雜環(huán)化合物為下述式d1~式d11中的任一者所表示的化合物,[化學(xué)式3]式d1~式d11中,r1、r5、r7、r9、r20及r25分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基或氨基,r2~r4、r8、r10~r13、r15~r18、r22及r24分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巰基、烷硫基或芳硫基,r6、r14、r21及r23分別獨(dú)立地表示鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巰基、烷硫基、芳硫基、羥基、烷氧基或芳氧基,r19表示氫原子、烷基、芳基或雜芳基,n1~n4分別獨(dú)立地表示0~4的整數(shù)。<6>根據(jù)<5>所述的感光性組合物,其中,上述雜環(huán)化合物為上述式d1、式d2及式d4~式d11中的任一者所表示的化合物。<7>根據(jù)<5>或<6>所述的感光性組合物,其中,上述雜環(huán)化合物為上述式d4~式d11中的任一者所表示的化合物。<8>根據(jù)<1>~<7>中任一項所述的感光性組合物,其中,上述馬來酰亞胺化合物包含下述式e1所表示的化合物,[化學(xué)式4]式e1中,re1分別獨(dú)立地表示單鍵、亞烷基、-so2-、-so-、-s-或-o-,re2分別獨(dú)立地表示鹵素原子或烷基,m1表示0~5的整數(shù),m2分別獨(dú)立地表示0~4的整數(shù)。<9>根據(jù)<1>~<8>中任一項所述的感光性組合物,其中,上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。<10>一種固化物的制造方法,其至少依次包含工序a~工序d:工序a:將<1>~<9>中任一項所述的感光性組合物涂布到基板上的涂布工序;工序b:從所涂布的感光性組合物中除去溶劑的溶劑除去工序;工序c:將除去了溶劑的感光性組合物的至少一部分利用活性光線進(jìn)行曝光的曝光工序;工序d:將曝光后的感光性組合物進(jìn)行熱處理的熱處理工序。<11>根據(jù)<10>所述的固化物的制造方法,其中,在工序c與工序d之間包含工序e,工序e:將曝光后的感光性組合物利用水性顯影液進(jìn)行顯影的顯影工序。<12>一種固化膜,其是將<1>~<9>中任一項所述的感光性組合物固化而成的。<13>根據(jù)<12>所述的固化膜,其為層間絕緣膜或外涂膜。<14>一種顯示裝置,其具有<12>或<13>所述的固化膜。<15>一種觸控板,其具有<12>或<13>所述的固化膜。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施方式,能夠提供所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性優(yōu)異的感光性組合物、使用了上述感光性組合物的固化物的制造方法、使上述感光性組合物固化而得到的固化膜、以及使用了上述固化膜的顯示裝置及觸控板。附圖說明圖1表示有機(jī)el顯示裝置的一個例子的構(gòu)成概念圖。表示底部發(fā)光型的有機(jī)el顯示裝置中的基板的示意性截面圖,具有平坦化膜4。圖2表示液晶顯示裝置的一個例子的構(gòu)成概念圖。表示液晶顯示裝置中的有源矩陣基板的示意性截面圖,具有作為層間絕緣膜的固化膜17。圖3表示具有觸控板的功能的液晶顯示裝置的一個例子的構(gòu)成概念圖。圖4表示具有觸控板的功能的液晶顯示裝置的另一個例子的構(gòu)成概念圖。具體實(shí)施方式以下,對本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)說明。以下記載的構(gòu)成要件的說明有時基于本發(fā)明的代表性實(shí)施方式而進(jìn)行,但本發(fā)明并不限定于那樣的實(shí)施方式。另外,本說明書中“~”以將其前后記載的數(shù)值作為下限值及上限值包含的意思使用。在本說明書中的基團(tuán)(原子團(tuán))的表述中,沒有記載取代及未取代的表述包含不具有取代基的基團(tuán),同時還包含具有取代基的基團(tuán)。例如“烷基”不僅包含不具有取代基的烷基(未取代烷基),還包含具有取代基的烷基(取代烷基)。此外,本說明書中的化學(xué)結(jié)構(gòu)式有時也以省略了氫原子的簡略結(jié)構(gòu)式記載。另外,本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸,“(甲基)丙烯?;北硎颈;凹谆;4送?,本發(fā)明中,將“聚合性單體”等也簡稱為“成分a”等。此外,本發(fā)明中,“質(zhì)量%”與“重量%”含義相同,“質(zhì)量份”與“重量份”含義相同。此外,本發(fā)明中,兩個以上的優(yōu)選的方式的組合為更優(yōu)選的方式。本發(fā)明中,聚合物成分中的重均分子量及數(shù)均分子量為以四氫呋喃(thf)作為溶劑時的以凝膠滲透色譜法(gpc)測定的聚苯乙烯換算的重均分子量。(感光性組合物)本發(fā)明的感光性組合物(以下,也簡稱為“組合物”。)至少包含具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物、光聚合引發(fā)劑、二氧化硅粒子、選自由三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物、馬來酰亞胺化合物和溶劑,感光性組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量為250g/mol以下。此外,本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選為負(fù)型感光性組合物。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選能夠進(jìn)行利用水性顯影液中的光刻法的圖案化。另外,在將本發(fā)明的感光性組合物利用水性顯影液中的光刻法進(jìn)行圖案化的情況下,所形成的圖案是感光部作為圖案殘留的負(fù)型的圖案。在顯示裝置或觸控板、特別是觸控板領(lǐng)域中,金屬布線存在低電阻化的趨勢。電阻值低的cu或cu合金、mo/al/mo層疊體等的布線的使用研究一直在發(fā)展。若使用這樣的金屬布線,則電阻值變低,但變得容易引起金屬腐蝕,對進(jìn)行涂敷的外涂材料等要求腐蝕功能。此外,在感光性組合物中,本發(fā)明人們發(fā)現(xiàn)通過使用雜環(huán)化合物,具有對金屬布線的防腐蝕作用,但同時還發(fā)現(xiàn),存在所得到的固化物的粘附性降低的課題。對此,本發(fā)明人們重復(fù)進(jìn)行了深入研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn),通過使感光性組合物中含有具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物、特定的雜環(huán)化合物、馬來酰亞胺化合物及二氧化硅粒子,并且將感光性組合物整體中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的固體成分量設(shè)定為特定的范圍,雖然詳細(xì)的機(jī)制不清楚,但它們協(xié)同地發(fā)揮作用,得到所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性優(yōu)異的感光性組合物。以下,對本發(fā)明的感光性組合物所含有的各成分進(jìn)行說明。本發(fā)明的感光性組合物的感光性組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量(也稱為“烯屬不飽和鍵當(dāng)量”或“c=c當(dāng)量”。)為250g/mol以下。若感光性組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量超過250g/mol,則所得到的固化物的粘附性差,此外,所得到的固化物的硬度也差。另外,本發(fā)明中,感光性組合物中的“固體成分”是指除溶劑等揮發(fā)性成分以外的成分。此外,感光性組合物中的“有機(jī)固體成分”是指從上述的固體成分中除去二氧化硅粒子等無機(jī)成分的成分。本發(fā)明中,所謂組合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量是組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量,所謂化合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量是化合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的質(zhì)量。具體而言,例如能夠如以下那樣求出組合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量、及化合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量?!ざ疚焖拇剂┧狨?dpha、分子量為578、烯屬不飽和鍵為6個)的烯屬不飽和鍵當(dāng)量:578÷6=96.3(g/mol)·苯乙烯(分子量為104、烯屬不飽和鍵為1個)的烯屬不飽和鍵當(dāng)量:104÷1=104(g/mol)·“dpha10g與非反應(yīng)性有機(jī)聚合物90g的混合組合物”的烯屬不飽和鍵當(dāng)量:578÷6÷(10÷(90+10))=963(g/mol)本發(fā)明中的烯屬不飽和鍵當(dāng)量能夠通過公知的方法確定化合物的分子量及烯屬不飽和鍵的數(shù)目、以及組合物中的烯屬不飽和化合物的組成,并通過上述計算方法求出。本發(fā)明的感光性組合物中的相對于1mol烯屬不飽和鍵的有機(jī)固體成分量優(yōu)選為30~250g/mol,更優(yōu)選為80~250g/mol,進(jìn)一步優(yōu)選為100~250g/mol,特別優(yōu)選為130~250g/mol,最優(yōu)選為150~220g/mol。若為上述范圍,則所得到的固化物的粘附性及硬度更優(yōu)異。此外,本發(fā)明的感光性組合物的分子量(重均分子量)超過1,000的有機(jī)化合物(例如聚合物等)的含量相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為50質(zhì)量%以下,更優(yōu)選為30質(zhì)量%以下。若為上述范圍,則容易將感光性組合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量設(shè)定為上述范圍,此外,所得到的固化物的粘附性及硬度更優(yōu)異。此外,上述分子量(重均分子量)超過1,000的有機(jī)化合物優(yōu)選為具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物、即符合后述的具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物的化合物。若為上述方式,則容易將感光性組合物的烯屬不飽和鍵當(dāng)量設(shè)定為上述范圍,此外,所得到的固化物的粘附性及硬度更優(yōu)異。此外,從粘附性的觀點(diǎn)出發(fā),上述化合物的分子量(重均分子量)優(yōu)選為100,000以下,更優(yōu)選為50,000以下,進(jìn)一步優(yōu)選為40,000以下。<具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物>本發(fā)明的感光性組合物含有具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物。上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物優(yōu)選為不具有馬來酰亞胺環(huán)結(jié)構(gòu)的化合物、即除后述的馬來酰亞胺化合物以外的化合物。上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物可以是低分子的化合物,也可以是低聚物,還可以是聚合物,但優(yōu)選本發(fā)明的感光性組合物中包含的具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物的總量中的30質(zhì)量%以上為分子量為1,000以下的化合物,更優(yōu)選40質(zhì)量%以上為分子量為1,000以下的化合物,特別優(yōu)選50質(zhì)量%以上為分子量為1,000以下的化合物。本發(fā)明中使用的具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物的分子量(在具有分子量分布的情況下,為重均分子量)從固化物的硬度的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選為100~100,000,更優(yōu)選為200~50,000,進(jìn)一步優(yōu)選為300~40,000。上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物中的烯屬不飽和鍵的數(shù)目沒有特別限制,但若為分子量為1,000以下的化合物,則優(yōu)選為2~20,更優(yōu)選為3~16,進(jìn)一步優(yōu)選為4~10。上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物優(yōu)選包含烯屬不飽和鍵當(dāng)量低于150g/mol的化合物,更優(yōu)選包含烯屬不飽和鍵當(dāng)量為100g/mol以下的化合物。此外,優(yōu)選本發(fā)明的感光性組合物中包含的具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物的總量中的30質(zhì)量%以上為烯屬不飽和鍵當(dāng)量低于150g/mol的化合物,更優(yōu)選40質(zhì)量%以上為烯屬不飽和鍵當(dāng)量低于150g/mol的化合物,特別優(yōu)選50質(zhì)量%以上為烯屬不飽和鍵當(dāng)量低于150g/mol的化合物。作為上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物,沒有特別限制,可以根據(jù)目的而適當(dāng)選擇??闪信e出例如酯化合物、酰胺化合物、氨基甲酸酯化合物及其他化合物。其中,優(yōu)選包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。作為上述酯化合物,可列舉出例如(甲基)丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、異巴豆酸酯、馬來酸酯、其他酯化合物等。它們中,優(yōu)選多官能(甲基)丙烯酸酯(多官能(甲基)丙烯酸酯化合物)等。作為上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物,可列舉出例如聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亞甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇三(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇四(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。其中,特別優(yōu)選季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、和/或二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。此外,作為上述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的其他例子,可列舉出使甘油或三羥甲基乙烷、雙酚a等多官能醇上加成環(huán)氧乙烷或環(huán)氧丙烷后進(jìn)行(甲基)丙烯酸酯化而得到的化合物、日本特公昭48-41708號公報、日本特公昭50-6034號公報、日本特開昭51-37193號公報中記載的氨基甲酸酯丙烯酸酯類、日本特開昭48-64183號公報、日本特公昭49-43191號公報、及日本特公昭52-30490號公報中記載的聚酯丙烯酸酯類、環(huán)氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應(yīng)產(chǎn)物即環(huán)氧丙烯酸酯類、日本特開昭60-258539號公報中記載的(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或乙烯基酯等。作為其他多官能烯屬不飽和化合物,可列舉出例如三羥甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、日本粘附協(xié)會志(日本接著協(xié)會誌)vol.20,no.7,第300~308頁中記載的光固化性單體及低聚物等。此外,作為上述的酰胺化合物,可列舉出例如不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的酰胺(單體)等,具體而言,可列舉出亞甲基雙(甲基)丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙(甲基)丙烯酰胺、二亞乙基三胺三(甲基)丙烯酰胺、苯二甲基雙(甲基)丙烯酰胺等,此外,可列舉出日本特開昭60-258539號公報中記載的(甲基)丙烯酸酰胺等。此外,作為上述的氨基甲酸酯化合物,可例示出使用異氰酸酯與羥基的加成反應(yīng)而制造的氨基甲酸酯鏈?zhǔn)骄酆闲曰衔铮闪信e出例如季戊四醇三丙烯酸酯與六亞甲基二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物、季戊四醇三丙烯酸酯與甲苯二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物、季戊四醇三丙烯酸酯與異佛爾酮二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物、二季戊四醇五丙烯酸酯與六亞甲基二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物、二季戊四醇五丙烯酸酯與甲苯二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物、及二季戊四醇五丙烯酸酯與異佛爾酮二異氰酸酯的氨基甲酸酯化物等。具體而言,可例示出如日本特開2011-126921號公報、日本特開昭51-37193號公報、日本特公平2-32293號公報、日本特公平2-16765號公報中記載的那樣的氨基甲酸酯丙烯酸酯類,這些記載被納入本申請說明書中。此外,作為其他多官能烯屬不飽和化合物,可列舉出日本特開昭60-258539號公報、國際公開第2010/050580號中記載的烯丙基化合物或含有烯基的化合物等。具體而言,可列舉出1,2-二乙烯基苯、1,4-二乙烯基苯、1,2-二烯丙基苯、1,3-二烯丙基苯、1,4-二烯丙基苯、1,3,5-三乙烯基苯、1,3,5-三烯丙基苯、1,2,4,5-四烯丙基苯、六烯丙基苯、二乙烯基甲苯、雙酚a二烯丙基醚、1,2-二烯丙氧基苯、1,4-二烯丙氧基苯、對苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、1,4-雙(二甲基乙烯基甲硅烷基)苯、二乙烯基甲基苯基硅烷、二乙烯基二苯基硅烷、及二烯丙基二苯基硅烷等。此外,作為上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物,使用聚合物等分子量(在具有分子量分布的情況下,為重均分子量)超過1,000的化合物的情況下,從顯影性的觀點(diǎn)出發(fā),上述分子量超過1,000的化合物優(yōu)選具有酸基。作為酸基,優(yōu)選羧基。此外,作為上述分子量超過1,000的化合物,可以使用具有2個以上烯屬不飽和鍵的各種樹脂。其中,優(yōu)選具有2個以上烯屬不飽和鍵的丙烯酸樹脂,更優(yōu)選含有具有烯屬不飽和鍵的構(gòu)成單元的丙烯酸樹脂。作為上述分子量超過1,000的化合物所具有的烯屬不飽和基,沒有特別限制,但優(yōu)選可列舉出烯丙基。本發(fā)明的感光性組合物可以單獨(dú)含有1種上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物,也可以含有兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物中的具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物的含量相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為20~85質(zhì)量%,更優(yōu)選為30~80質(zhì)量%,特別優(yōu)選為40~75質(zhì)量%以上。若為上述范圍,則所得到的固化物的粘附性更優(yōu)異,此外,所得到的固化物的硬度及透明性優(yōu)異。<光聚合引發(fā)劑>本發(fā)明的感光性組合物含有光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑,優(yōu)選包含光自由基聚合引發(fā)劑??梢杂糜诒景l(fā)明的光自由基聚合引發(fā)劑為能夠通過光引發(fā)并促進(jìn)烯屬不飽和化合物等的聚合的化合物。所謂“光”只要是通過其照射能夠賦予能夠由光聚合引發(fā)劑產(chǎn)生引發(fā)種的能量的活性能量射線,則沒有特別限制,廣泛包含α射線、γ射線、x射線、紫外線(uv)、可見光線、電子射線等。它們中,優(yōu)選至少包含紫外線的光。作為光聚合引發(fā)劑,可列舉出例如肟酯化合物、有機(jī)鹵代化合物、噁二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、有機(jī)過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、金屬茂化合物、六芳基聯(lián)咪唑化合物、有機(jī)硼酸化合物、二磺酸化合物、鎓鹽化合物、及?;⒀趸锘衔?。它們中,從靈敏度的方面出發(fā),優(yōu)選肟酯化合物和/或六芳基聯(lián)咪唑化合物,更優(yōu)選肟酯化合物。作為肟酯化合物,可以使用日本特開2000-80068號公報、日本特開2001-233842號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2007-231000號公報、日本特開2009-134289號公報中記載的化合物。肟酯化合物優(yōu)選為下述式b-1或式b-2所表示的化合物。[化學(xué)式5]式b-1或式b-2中,ar表示芳香族基或雜芳香族基,rb1表示烷基、芳香族基或烷氧基,rb2表示氫原子或烷基,進(jìn)而rb2也可以與ar基鍵合而形成環(huán)。式b-1或式b-2中,ar表示芳香族基或雜芳香族基,優(yōu)選為從苯環(huán)化合物、萘環(huán)化合物或咔唑環(huán)化合物中除去1個氫原子而得到的基團(tuán),更優(yōu)選與rb2一起形成了環(huán)的萘基、咔唑基。作為雜芳香族基中的雜原子,優(yōu)選可列舉出氮原子、氧原子、及硫原子。rb1表示烷基、芳香族基或烷氧基,優(yōu)選甲基、乙基、芐基、苯基、萘基、甲氧基或乙氧基,更優(yōu)選甲基、乙基、苯基或甲氧基。rb2表示氫原子或烷基,優(yōu)選氫原子或取代烷基,更優(yōu)選氫原子、與ar一起形成環(huán)的取代烷基或甲苯硫代烷基。此外,ar優(yōu)選為碳原子數(shù)為4~20的基團(tuán),rb1優(yōu)選為碳原子數(shù)為1~30的基團(tuán),此外,rb2優(yōu)選為碳原子數(shù)為1~50的基團(tuán)。肟酯化合物進(jìn)一步優(yōu)選為下述式b-3、式b-4或式b-5所表示的化合物。[化學(xué)式6]式b-3~式b-5中,rb7表示烷基、芳香族基或烷氧基,xb表示-ch2-、-c2h4-、-o-或-s-,rb3分別獨(dú)立地表示鹵素原子,rb4分別獨(dú)立地表示烷基、苯基、烷基取代氨基、芳硫基、烷硫基、烷氧基、芳氧基或鹵素原子,rb5表示氫原子、烷基或芳基,rb6表示烷基,n1及n2分別獨(dú)立地表示0~6的整數(shù),n3表示0~5的整數(shù)。rb7優(yōu)選rb11-x’-亞烷基-所表示的基團(tuán)(rb11表示烷基或芳基,x’表示硫原子或氧原子。)。rb11優(yōu)選芳基,更優(yōu)選苯基。作為rb11的烷基及芳基也可以被鹵素原子(優(yōu)選氟原子、氯原子或溴原子)或烷基取代。xb優(yōu)選硫原子。rb3及rb4可以在芳香環(huán)上的任意的位置進(jìn)行鍵合。rb4優(yōu)選烷基、苯基、芳硫基或鹵素原子,更優(yōu)選烷基、芳硫基或鹵素原子,進(jìn)一步優(yōu)選烷基或鹵素原子。作為rb4中的烷基,優(yōu)選碳原子數(shù)為1~5的烷基,更優(yōu)選甲基或乙基。作為鹵素原子,優(yōu)選氯原子、溴原子或氟原子。此外,rb4的碳原子數(shù)優(yōu)選為0~50,更優(yōu)選為0~20。rb5優(yōu)選烷基。作為rb5中的烷基,優(yōu)選碳原子數(shù)為1~5的烷基,更優(yōu)選甲基或乙基。作為rb5中的芳基,優(yōu)選碳原子數(shù)為6~10的芳基。rb6優(yōu)選碳原子數(shù)為1~5的烷基,更優(yōu)選甲基或乙基。n1及n2分別表示式b-3或式b-4中的芳香環(huán)上的rb3的取代數(shù),n3表示式b-5中的芳香環(huán)上的rb4的取代數(shù)。n1~n3分別獨(dú)立地優(yōu)選為0~2的整數(shù),更優(yōu)選為0或1。以下,示出本發(fā)明中優(yōu)選使用的肟酯化合物的例子。然而,本發(fā)明中使用的肟酯化合物當(dāng)然并不限定于這些。另外,me表示甲基,ph表示苯基。此外,這些化合物中的肟的雙鍵的順式-反式異構(gòu)可以是ez中的任一者,也可以是ez的混合物。[化學(xué)式7][化學(xué)式8][化學(xué)式9]作為有機(jī)鹵代化合物的例子,具體而言,可列舉出若林等“bullchem.soc.japan”42、2924(1969)、美國專利第3,905,815號說明書、日本特公昭46-4605號公報、日本特開昭48-36281號公報、日本特開昭55-32070號公報、日本特開昭60-239736號公報、日本特開昭61-169835號公報、日本特開昭61-169837號公報、日本特開昭62-58241號公報、日本特開昭62-212401號公報、日本特開昭63-70243號公報、日本特開昭63-298339號公報、m.p.hutt,etal.,joumalofheterocyclicchemistry,7,511(1970)等中記載的化合物,特別是可列舉出三鹵代甲基取代的噁唑化合物、均三嗪化合物。作為六芳基聯(lián)咪唑化合物的例子,可列舉出例如日本特公平6-29285號公報、美國專利第3,479,185號、美國專利第4,311,783號、美國專利第4,622,286號等各說明書中記載的各種化合物。作為?;⒀趸锘衔?,可例示出單?;⒀趸锘衔?、及雙?;⒀趸锘衔?,具體而言,可列舉出例如basf公司制的irgacure819、darocur4265、darocurtpo等。光聚合引發(fā)劑可以使用1種或?qū)煞N以上組合使用。本發(fā)明的感光性組合物中的光聚合引發(fā)劑的總量相對于感光性組合物中的全部固體成分100質(zhì)量份優(yōu)選為0.05~30質(zhì)量份,更優(yōu)選為0.1~20質(zhì)量份,進(jìn)一步優(yōu)選為0.1~10質(zhì)量份,特別優(yōu)選為0.1~5質(zhì)量份。<敏化劑>本發(fā)明的感光性組合物中,除了光聚合引發(fā)劑以外,還可以加入敏化劑。敏化劑吸收活性光線或放射線而變成激發(fā)狀態(tài)。變成激發(fā)狀態(tài)的敏化劑通過與光聚合引發(fā)劑的相互作用,產(chǎn)生電子轉(zhuǎn)移、能量轉(zhuǎn)移、發(fā)熱等作用,能夠引發(fā)和/或促進(jìn)聚合。作為本發(fā)明中可以使用的典型的敏化劑,可列舉出crivello〔j.v.crivello,adv.inpolymersci.,62,1(1984)〕中公開的物質(zhì),具體而言,可列舉出芘、苝、吖啶橙、噻噸酮、2-氯噻噸酮、苯并黃素(benzofiavin)、n-乙烯基咔唑、9,10-二丁氧基蒽、蒽醌、香豆素、酮香豆素、菲、樟腦醌、及吩噻嗪衍生物等。敏化劑相對于光聚合引發(fā)劑優(yōu)選以50~200質(zhì)量%的比例添加。<二氧化硅粒子>本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選含有二氧化硅粒子。通過含有二氧化硅粒子,所得到的固化物的粘附性及硬度變得優(yōu)異。本發(fā)明中使用的二氧化硅粒子的平均一次粒徑優(yōu)選為1~200nm,更優(yōu)選為1~100nm,進(jìn)一步優(yōu)選為1~50nm,特別優(yōu)選為1~30nm。平均一次粒徑是指通過電子顯微鏡測定任意的200個粒子的粒徑并進(jìn)行其算術(shù)平均。此外,在粒子的形狀不是球形的情況下,將外徑的最大徑作為粒子的粒徑。此外,從固化物的硬度的觀點(diǎn)出發(fā),二氧化硅粒子的空隙率優(yōu)選低于10%,更優(yōu)選低于3%,特別優(yōu)選沒有空隙。粒子的空隙率為利用電子顯微鏡的截面圖像的空隙部分與粒子整體的面積比的200個的算術(shù)平均。作為二氧化硅粒子,只要是包含二氧化硅的無機(jī)氧化物的粒子則沒有特別問題,優(yōu)選包含二氧化硅或其水合物作為主要成分(優(yōu)選為80質(zhì)量%以上)的粒子。上述粒子也可以包含鋁酸鹽作為少量成分(例如低于5質(zhì)量%)。作為有時作為少量成分包含的鋁酸鹽,可列舉出鋁酸鈉、鋁酸鉀等。此外,二氧化硅粒子也可以包含氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、氫氧化銨等無機(jī)鹽類或四甲基氫氧化銨等有機(jī)鹽類。作為這樣的二氧化硅的例子,可例示出膠體二氧化硅。作為膠體二氧化硅的分散介質(zhì),沒有特別限制,可以是水、有機(jī)溶劑、及它們的混合物中的任一種。它們可以單獨(dú)使用1種,也可以將兩種以上并用。本發(fā)明中,粒子也可以作為通過在適當(dāng)?shù)姆稚┘叭軇┲惺褂们蚰C(jī)、棒磨機(jī)等混合裝置進(jìn)行混合及分散而制備的分散液供于使用。另外,在使用膠體二氧化硅在本發(fā)明的感光性組合物中導(dǎo)入二氧化硅粒子的情況下,并不是指在組合物中膠體二氧化硅也以膠體狀態(tài)存在。二氧化硅粒子可以僅包含1種,也可以包含兩種以上。從粘附性及硬度的觀點(diǎn)出發(fā),二氧化硅粒子的含量相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為5質(zhì)量%以上,更優(yōu)選為10質(zhì)量%以上,特別優(yōu)選為20質(zhì)量%以上。此外,優(yōu)選為80質(zhì)量%以下,更優(yōu)選為60質(zhì)量%以下,進(jìn)一步優(yōu)選為50質(zhì)量%以下,特別優(yōu)選為低于40質(zhì)量%。<選自由三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物>本發(fā)明的感光性組合物含有選自由三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物(以下,也稱為“特定雜環(huán)化合物”。)。推測本發(fā)明的感光性組合物通過含有特定雜環(huán)化合物、二氧化硅粒子及馬來酰亞胺化合物,所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性優(yōu)異,此外,所得到的固化物的透明性及硬度也優(yōu)異。特定雜環(huán)化合物只要是具有三唑環(huán)結(jié)構(gòu)、四唑環(huán)結(jié)構(gòu)、噻二唑環(huán)結(jié)構(gòu)、三嗪環(huán)結(jié)構(gòu)、若丹寧環(huán)結(jié)構(gòu)、苯并噻唑環(huán)結(jié)構(gòu)和/或苯并咪唑環(huán)結(jié)構(gòu)的化合物,則沒有特別限制,但優(yōu)選為下述式d1~式d11中的任一者所表示的化合物。[化學(xué)式10]式d1~式d11中,r1、r5、r7、r9、r20及r25分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基或氨基,r2~r4、r8、r10~r13、r15~r18、r22及r24分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巰基、烷硫基或芳硫基,r6、r14、r21及r23分別獨(dú)立地表示鹵素原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、烷基氨基、芳基氨基、二烷基氨基、二芳基氨基、烷基芳基氨基、巰基、烷硫基、芳硫基、羥基、烷氧基或芳氧基,r19表示氫原子、烷基、芳基或雜芳基,n1~n4分別獨(dú)立地表示0~4的整數(shù)。另外,上述式d1~式d3所表示的化合物為三唑化合物,上述式d4所表示的化合物為四唑化合物,上述式d5~式d7所表示的化合物為噻二唑化合物,上述式d8所表示的化合物為三嗪化合物,上述式d9所表示的化合物為若丹寧化合物,上述式d10所表示的化合物為苯并噻唑化合物,上述式d11所表示的化合物為苯并咪唑化合物。r1、r7、r9、r20及r25分別獨(dú)立地優(yōu)選為氫原子、烷基、芳基或雜芳基,更優(yōu)選為氫原子或烷基,特別優(yōu)選為氫原子。r5優(yōu)選為氫原子、烷基或氨基,更優(yōu)選為氫原子或氨基。r2~r4、r8、r10~r13、r22及r24分別獨(dú)立地優(yōu)選為氫原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、巰基或烷硫基,更優(yōu)選為氫原子、氨基、巰基或烷硫基。r15~r17分別獨(dú)立地優(yōu)選為氫原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、巰基或烷硫基,更優(yōu)選為氨基或雜芳基,特別優(yōu)選為氨基或吡啶基。此外,從合成上的觀點(diǎn)出發(fā),r15~r17優(yōu)選為相同的基團(tuán)。r18優(yōu)選為氫原子、烷基、芳基、雜芳基、氨基、巰基或烷硫基,更優(yōu)選為氫原子、氨基、巰基或烷硫基,進(jìn)一步優(yōu)選為氫原子。r6、r14、r21及r23分別獨(dú)立地優(yōu)選為烷基、芳基、雜芳基、氨基、巰基、烷硫基、芳硫基、羥基、烷氧基或芳氧基,更優(yōu)選為烷基、芳基、雜芳基、氨基、巰基、烷硫基或芳硫基。此外,r6、r14、r21及r23可以將上述各式中的苯環(huán)上的任意的位置的氫原子取代并鍵合。r19優(yōu)選為氫原子或烷基,更優(yōu)選為氫原子。n1~n4分別獨(dú)立地優(yōu)選為0~2的整數(shù),更優(yōu)選為0或1,特別優(yōu)選為0。特定雜環(huán)化合物從粘附性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選為選自由四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物,更優(yōu)選為選自由四唑化合物、噻二唑化合物、若丹寧化合物、苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物,進(jìn)一步優(yōu)選為選自由四唑化合物及噻二唑化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物。此外,特定雜環(huán)化合物從粘附性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選為上述式d1、式d2及式d4~式d11中的任一者所表示的化合物,更優(yōu)選為上述式d4~式d11中的任一者所表示的化合物,進(jìn)一步優(yōu)選為上述式d4~式d7及式d9~式d11中的任一者所表示的化合物,特別優(yōu)選為上述式d4~式d7中的任一者所表示的化合物。特定雜環(huán)化合物從金屬布線的抗腐蝕性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選為選自由噻二唑化合物及三嗪化合物組成的組中的至少1種的雜環(huán)化合物,更優(yōu)選為噻二唑化合物。此外,特定雜環(huán)化合物從金屬布線的抗腐蝕性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選為上述式d5~式d8中的任一者所表示的化合物,更優(yōu)選為上述式d5、式d6及式d8中的任一者所表示的化合物,進(jìn)一步優(yōu)選為上述式d5所表示的化合物、或上述式d6所表示的化合物,特別優(yōu)選為上述式d6所表示的化合物。作為特定雜環(huán)化合物,具體而言,可優(yōu)選例示出以下所示的化合物。作為三唑化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式11]作為四唑化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式12]作為噻二唑化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式13]作為三嗪化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式14]作為若丹寧化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式15]作為苯并噻唑化合物及苯并咪唑化合物,可例示出以下的化合物。[化學(xué)式16]特定雜環(huán)化合物可以單獨(dú)含有1種,也可以含有兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物中的特定雜環(huán)化合物的含量沒有特別限制,但相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為0.1~20質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.2~10質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為0.5~8質(zhì)量%,特別優(yōu)選為1~5質(zhì)量%。若為上述范圍,則所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性更優(yōu)異。<馬來酰亞胺化合物>本發(fā)明的感光性組合物含有馬來酰亞胺化合物。作為上述馬來酰亞胺化合物,只要是具有1個以上下述式e所表示的基團(tuán)的化合物,則沒有特別限制,但優(yōu)選包含具有2個以上下述式e所表示的基團(tuán)的化合物,更優(yōu)選包含具有2個以上馬來酰亞胺基的化合物。另外,本發(fā)明中,具有2個以上下述式e所表示的基團(tuán)的化合物作為馬來酰亞胺化合物,不包含在上述具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物中。[化學(xué)式17]式e中,y1表示-ch=ch-、-c(ch3)=ch-、-c(=ch2)-ch2-、或-c(ch3)=c(ch3)-,波浪線部分表示與其他結(jié)構(gòu)的鍵合位置。y1優(yōu)選為-ch=ch-、-c(ch3)=ch-、或-c(=ch2)-ch2-,更優(yōu)選為-ch=ch-、或-c(ch3)=ch-,特別優(yōu)選為-ch=ch-。上述馬來酰亞胺化合物中的上述式e所表示的基團(tuán)的數(shù)目優(yōu)選為1~20,更優(yōu)選為1~10,進(jìn)一步優(yōu)選為2~8,特別優(yōu)選為2。此外,從化合物及組合物的穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā),在上述馬來酰亞胺化合物中,上述式e所表示的基團(tuán)的氮原子優(yōu)選與芳香環(huán)直接鍵合。上述馬來酰亞胺化合物從粘附性及抗腐蝕性的觀點(diǎn)出發(fā)優(yōu)選包含具有2個下述式e所表示的基團(tuán)的化合物、即雙馬來酰亞胺化合物,更優(yōu)選包含下述式e1所表示的化合物。[化學(xué)式18]式e1中,re1分別獨(dú)立地表示單鍵、亞烷基、-so2-、-so-、-s-或-o-,re2分別獨(dú)立地表示鹵素原子或烷基,ml表示0~5的整數(shù),m2分別獨(dú)立地表示0~4的整數(shù)。re1分別獨(dú)立地優(yōu)選為單鍵、碳原子數(shù)為1~8的亞烷基或-o-,更優(yōu)選為單鍵、碳原子數(shù)為1~3的亞烷基或-o-,進(jìn)一步優(yōu)選為單鍵、亞甲基、二甲基亞甲基(2,2-亞丙基)或-o-。re2分別獨(dú)立地優(yōu)選為烷基,更優(yōu)選為碳原子數(shù)為1~8的烷基,進(jìn)一步優(yōu)選為甲基或乙基。此外,re1及re2可以將上述式e1中的苯環(huán)上的任意的位置的氫原子取代并鍵合。此外,re1優(yōu)選在上述式e1中的苯環(huán)上相對于馬來酰亞胺基或具有馬來酰亞胺基的基團(tuán)在p位的位置鍵合。m1優(yōu)選為1~5的整數(shù),更優(yōu)選為2~5的整數(shù),進(jìn)一步優(yōu)選為3~5的整數(shù)。m2分別獨(dú)立地優(yōu)選為0~2的整數(shù)。作為上述馬來酰亞胺化合物,具體而言,優(yōu)選可列舉出下述化合物。[化學(xué)式19][化學(xué)式20][化學(xué)式21]此外,作為上述馬來酰亞胺化合物,具體而言,還可列舉出以下的雙馬來酰亞胺化合物。1,6-雙馬來酰亞胺-(2,4,4-三甲基)己烷、n,n’-十亞甲基雙馬來酰亞胺、n,n’-八亞甲基雙馬來酰亞胺、n,n’-六亞甲基雙馬來酰亞胺、n,n’-三亞甲基雙馬來酰亞胺、雙[(2,5-二氧代-2,5-二氫吡咯-1-基)甲基]二環(huán)[2.2.1]庚烷、4,4’-二苯基醚雙馬來酰亞胺、4,4’-二苯基砜雙馬來酰亞胺、4,4’-二苯基硫醚雙馬來酰亞胺、3,3’-二甲基-4,4’-二苯基甲烷雙馬來酰亞胺、1,3-雙(3-馬來酰亞胺苯氧基)苯、1,3-雙(4-馬來酰亞胺苯氧基)苯、1,3-雙(3-馬來酰亞胺苯氧基)苯、3,3’,5,5’-四甲基-4,4’-二苯基甲烷雙馬來酰亞胺、3,3’-二乙基-4,4’-二苯基甲烷雙馬來酰亞胺、3,3’-二正丁基-4,4’-二苯基甲烷雙馬來酰亞胺、3,3’,5,5’-四乙基-4,4’-二苯基甲烷雙馬來酰亞胺等。馬來酰亞胺化合物可以單獨(dú)含有1種,也可以含有兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物中的馬來酰亞胺化合物的含量沒有特別限制,但相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為0.1~20質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.5~15質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為1~10質(zhì)量%,特別優(yōu)選為3~8質(zhì)量%。若為上述范圍,則所得到的固化物的粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性更優(yōu)異。<溶劑>本發(fā)明的感光性組合物含有溶劑。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選作為將各成分溶解和/或分散在溶劑中而得到的液體來制備。溶劑優(yōu)選為有機(jī)溶劑。作為溶劑,可例示出乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、丁二醇二乙酸酯類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、醇類、酯類、酮類、酰胺類、及內(nèi)酯類等。作為這些溶劑的具體例子,可以參照日本特開2009-098616號公報的段落0062。具體而言,優(yōu)選選自由丙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇單甲基醚、1,3-丁二醇二乙酸酯、環(huán)己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、及四氫糠基醇組成的組中的至少1種的溶劑。從涂布性的觀點(diǎn)出發(fā),溶劑的沸點(diǎn)優(yōu)選為100℃~300℃,更優(yōu)選為120℃~250℃。本發(fā)明中可以使用的溶劑可以單獨(dú)使用1種、或?qū)煞N以上并用。還優(yōu)選將沸點(diǎn)不同的溶劑并用。從調(diào)整為適合于涂布的粘度的觀點(diǎn)出發(fā),本發(fā)明的感光性組合物中的溶劑的含量優(yōu)選為每100質(zhì)量份感光性組合物的全部固體成分為100~3,000質(zhì)量份,更優(yōu)選為200~2,000質(zhì)量份,進(jìn)一步優(yōu)選為250~1,000質(zhì)量份。作為感光性組合物的固體成分濃度,優(yōu)選為3~50質(zhì)量%,更優(yōu)選為10~40質(zhì)量%。感光性組合物的粘度優(yōu)選為1~200mpa·s,更優(yōu)選為2~100mpa·s,最優(yōu)選為3~80mpa·s。粘度優(yōu)選使用例如東機(jī)產(chǎn)業(yè)(株)制的re-80l型旋轉(zhuǎn)粘度計在25±0.2℃下進(jìn)行測定。關(guān)于測定時的旋轉(zhuǎn)速度,低于5mpa·s優(yōu)選以100rpm進(jìn)行,5mpa·s以上且低于10mpa·s優(yōu)選以50rpm進(jìn)行,10mpa·s以上且低于30mpa·s優(yōu)選以20rpm進(jìn)行,30mpa·s以上優(yōu)選以10rpm進(jìn)行。<具有酸基的共聚物>從提高分辨率及皮膜特性等觀點(diǎn)出發(fā),本發(fā)明的感光性組合物也可以含有具有酸基的共聚物。另外,上述具有酸基的共聚物不具有2個以上烯屬不飽和鍵。作為酸基,優(yōu)選可列舉出羧基。作為具有酸基的共聚物,沒有特別限制,可以使用公知的共聚物,但優(yōu)選使用具有線狀的酸基的共聚物(線狀有機(jī)聚合物)。作為這樣的線狀有機(jī)聚合物,可以任意使用公知的聚合物。優(yōu)選為了能夠進(jìn)行水顯影或弱堿水顯影,選擇在水或弱堿水中為可溶性或溶脹性的線狀有機(jī)聚合物。線狀有機(jī)聚合物不僅作為皮膜形成劑,還根據(jù)作為相對于水、弱堿水或有機(jī)溶劑的顯影劑的用途而選擇使用。例如,若使用水可溶性有機(jī)聚合物則能夠進(jìn)行水顯影。作為這樣的線狀有機(jī)聚合物,可列舉出在側(cè)鏈具有羧酸基的自由基聚合物、例如日本特開昭59-44615號公報、日本特公昭54-34327號公報、日本特公昭58-12577號公報、日本特公昭54-25957號公報、日本特開昭54-92723號公報、日本特開昭59-53836號公報、日本特開昭59-71048號公報中記載的聚合物、即將具有羧基的單體均聚或共聚而得到的樹脂、將具有酸酐的單體均聚或共聚并使酸酐單元水解、半酯化或半酰胺化而得到的樹脂、將環(huán)氧樹脂以不飽和單羧酸及酸酐改性而得到的環(huán)氧丙烯酸酯等。作為具有羧基的單體,可列舉出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、4-羧基苯乙烯等,作為具有酸酐的單體,可列舉出馬來酸酐等。此外,還有同樣在側(cè)鏈具有羧基的酸性纖維素衍生物。此外在具有羥基的聚合物上加成環(huán)狀酸酐而得到的物質(zhì)等是有用的。具有酸基的共聚物可以單獨(dú)含有1種,也可以含有兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物含有具有酸基的共聚物的情況下,具有酸基的共聚物的含量沒有特別限制,但相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為1~70質(zhì)量%,更優(yōu)選為2~50質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為5~30質(zhì)量%。<烷氧基硅烷化合物>本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選含有烷氧基硅烷化合物。若使用烷氧基硅烷化合物,則能夠提高通過本發(fā)明的感光性組合物而形成的膜與基板的粘附性。作為烷氧基硅烷化合物,只要是具有至少1個烷氧基與硅原子直接鍵合的基團(tuán)的化合物,則沒有特別限制,但優(yōu)選為具有二烷氧基甲硅烷基和/或三烷氧基甲硅烷基的化合物,更優(yōu)選為具有三烷氧基甲硅烷基的化合物。本發(fā)明的感光性組合物中可以使用的烷氧基硅烷化合物優(yōu)選為使基材、例如硅、氧化硅、氮化硅等硅化合物、金、銅、鉬、鈦、鋁等金屬與固化膜的粘附性提高的化合物。具體而言,公知的硅烷偶聯(lián)劑等也是有效的。優(yōu)選具有烯屬不飽和鍵的硅烷偶聯(lián)劑。作為硅烷偶聯(lián)劑,可列舉出例如γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巰基丙基三烷氧基硅烷、β-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三烷氧基硅烷及乙烯基三烷氧基硅烷。它們中,更優(yōu)選γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷和/或γ-環(huán)氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷。它們可以單獨(dú)使用1種或?qū)煞N以上組合使用。作為市售品,可例示出信越化學(xué)工業(yè)(株)制、kbm-403、kbm-5103。烷氧基硅烷化合物可以僅包含1種,也可以包含兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物中的烷氧基硅烷化合物的含量相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為0.1~30質(zhì)量%,更優(yōu)選為2~20質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為2~15質(zhì)量%。包含兩種以上烷氧基硅烷化合物時,優(yōu)選總量達(dá)到上述范圍。<阻聚劑>本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選含有阻聚劑。通過含有阻聚劑,由漏光產(chǎn)生的聚合反應(yīng)被抑制,顯影性優(yōu)異。所謂阻聚劑是對于通過曝光或熱由聚合引發(fā)劑產(chǎn)生的聚合引發(fā)自由基成分實(shí)施氫給予(或氫授予)、能量給予(或能量授予)、電子給予(或電子授予)等,發(fā)揮使聚合引發(fā)自由基失活并禁止聚合引發(fā)的作用的物質(zhì)。例如,可以使用日本特開2007-334322號公報的段落0154~0173中記載的化合物等。作為阻聚劑的種類,優(yōu)選采用硬調(diào)、且不降低靈敏度的阻聚劑。作為這樣的阻聚劑,可列舉出吩噻嗪、氯丙嗪、左美丙嗪、氟奮乃靜、硫利達(dá)嗪等吩噻嗪衍生物、吩噁嗪、3,7-雙(二乙基氨基)吩噁嗪-5-鎓高氯酸鹽、5-氨基-9-(二甲基氨基)-10-甲基苯并[a]吩噁嗪-7-鎓氯化物、7-(戊氧基)-3h-吩噁嗪-3-酮、5,9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-鎓乙酸酯、7-乙氧基-3h-吩噁嗪-3-酮等吩噁嗪衍生物、三-對硝基苯基甲基、二苯基苦基肼、加爾萬氧基等穩(wěn)定自由基、醌、苯醌、氯苯醌、2,5-二氯苯醌、2,6-二氯苯醌、2,3-二甲基苯醌、2,5-二甲基苯醌、甲氧基苯醌、甲基苯醌、四溴苯醌、四氯苯醌、四甲基苯醌、三氯苯醌、三甲基苯醌、戊基醌、戊氧基氫醌、2,5-二叔丁基氫醌、2,5-二苯基-對苯醌等醌類、α-萘酚、2-硝基-1-萘酚、β-萘酚、1-硝基-2-萘酚等萘酚類、4-甲氧基苯酚、4-乙氧基苯酚、氫醌、苯酚、叔丁基兒茶酚、甲基氫醌、正丁基苯酚、氫醌單丙基醚、叔丁基甲酚、對甲酚、2,6-二叔丁基-對甲酚、兒茶酚間苯二酚、鄰叔丁基苯酚、2,6-二對甲氧基苯酚、2,6-二叔丁基苯酚、2,4-二叔丁基苯酚、3,5-二叔丁基苯酚、3,5-二叔丁基-4-羥基苯甲酸、n,n’-雙-3-(3’,5’-二叔丁基-4-羥基苯基)丙?;鶃喖谆?、2,2’-亞甲基雙(6-叔丁基-對甲酚)、正十八烷基-3-(4-羥基-3’,5’-二叔丁基苯基)丙酸酯、二硬脂基(4-羥基-3-甲基-5-叔丁基)芐基丙二酸酯、2,4,6-三叔丁基苯酚、1,6-己二醇雙[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇雙[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,2-硫代二亞乙基雙[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、3,9-雙[1,1-二甲基-2-[β-(3-叔丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酰氧基乙基-2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷、2,2’-乙叉基雙(2,4-二叔丁基苯酚)、1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-叔丁基苯基丁烷、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羥基芐基)苯、三(3,5-二叔丁基-4-羥基芐基)異氰酸酯、三[2-(3’,5’-二叔丁基-4’-羥基氫肉桂酰氧基)乙基]異氰酸酯、三(4-叔丁基-2,6-二甲基-3-羥基芐基)異氰酸酯、四[亞甲基-3-(3’,5’-二叔丁基-4’-羥基苯基)丙酸酯]甲烷等苯酚類、2,4-二硝基苯酚、鄰硝基苯酚、間硝基苯酚、對硝基苯酚等硝基苯酚類、沒食子酸、沒食子酸甲酯、沒食子酸丙酯、沒食子酸異戊酯等沒食子酸類、亞甲基藍(lán)、孔雀石氯等色素類、β-萘基胺、n-亞硝基環(huán)己基胺鹽、二-對氟苯基胺等胺類、焦棓酚、單芐基醚、苯醌、三苯基膦、氯化亞銅、吩噻嗪、氯醌、吡啶、硝基苯、二硝基苯、對甲苯胺、苦味酸、水楊酸甲酯等。作為阻聚劑,特別優(yōu)選可例示出選自由吩噻嗪、吩噁嗪、受阻胺及它們的衍生物組成的組中的至少1種。作為吩噻嗪及其衍生物,可例示出吩噻嗪、雙(α-甲基芐基)吩噻嗪、3,7-二辛基吩噻嗪、雙(α-二甲基芐基)吩噻嗪、氟奮乃靜、硫利達(dá)嗪,優(yōu)選吩噻嗪。作為吩噁嗪及其衍生物,可例示出吩噁嗪、3,7-雙(二乙基氨基)吩噁嗪-5-鎓高氯酸鹽、5-氨基-9-(二甲基氨基)-10-甲基苯并[a]吩噁嗪-7-鎓氯化物、7-(戊氧基)-3h-吩噁嗪-3-酮、5,9-二氨基苯并[a]吩噁嗪-7-鎓乙酸酯、7-乙氧基-3h-吩噁嗪-3-酮,優(yōu)選吩噁嗪。作為受阻胺及其衍生物,可例示出chimassorb2020fdl、tinuvin144、765、770(以上,basf公司制),優(yōu)選tinuvin144。阻聚劑可以單獨(dú)含有1種,也可以含有兩種以上。本發(fā)明的感光性組合物中的阻聚劑的含量沒有特別限制,但相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為0.005~0.5質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.01~0.5質(zhì)量%。通過調(diào)整阻聚劑的配合量,能夠不損害靈敏度地使圖案化性提高。<表面活性劑>本發(fā)明的感光性組合物也可以含有表面活性劑。作為表面活性劑,可以使用陰離子系、陽離子系、非離子系、或兩性中的任一種,優(yōu)選的表面活性劑為非離子系表面活性劑。作為表面活性劑,優(yōu)選非離子系表面活性劑,更優(yōu)選氟系表面活性劑。作為本發(fā)明中可以使用的表面活性劑,可列舉出例如作為市售品的megafacf142d、megafacf172、megafacf173、megafacf176、megafacf177、megafacf183、megafacf479、megafacf482、megafacf554、megafacf780、megafacf781、megafacf781-f、megafacr30、megafacr08、megafacf-472sf、megafacbl20、megafacr-61、megafacr-90(dic(株)制)、fluoradfc-135、fluoradfc-170c、fluoradfc-430、fluoradfc-431、novecfc-4430(sumitomo3mlimited制)、asahiguardag7105,7000,950,7600、surflons-112、surflons-113、surflons-131、surflons-141、surfions-145、surflons-382、surflonsc-101、surflonsc-102、surflonsc-103、surflonsc-104、surflonsc-105、surflonsc-106(旭硝子(株)制)、eftopef351、eftop352、eftop801、eftop802(mitsubishimaterialselectronicchemicalsco.,ltd.制)、ftergent250(neoscorporation制)。此外,除了上述以外,還可列舉出kp(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)、polyflow(共榮社化學(xué)(株)制)、eftop(mitsubishimaterialselectronicchemicalsco.,ltd.制)、megafac(dic(株)制)、fluorad(sumitomo3mlimited制)、asahiguard、surfion(旭硝子(株)制)、polyfox(omnova社制)等各系列。此外,作為表面活性劑,可列舉出包含下述式w所表示的構(gòu)成單元a及構(gòu)成單元b、且以四氫呋喃作為溶劑以凝膠滲透色譜法測定的聚苯乙烯換算的重均分子量(mw)為1,000以上且10,000以下的共聚物作為優(yōu)選的例子。[化學(xué)式22]式w中,rw1及rw3分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基,rw2表示碳原子數(shù)為1以上且4以下的直鏈亞烷基,rw4表示氫原子或碳原子數(shù)為1以上且4以下的烷基,lw表示碳原子數(shù)為3以上且6以下的亞烷基,p及q為表示聚合比的質(zhì)量百分率,p表示10質(zhì)量%以上且80質(zhì)量%以下的數(shù)值,q表示20質(zhì)量%以上且90質(zhì)量%以下的數(shù)值,r表示1以上且18以下的整數(shù),s表示1以上且10以下的整數(shù)。上述lw優(yōu)選為下述式w-2所表示的支鏈亞烷基。式w-2中的rw5表示碳原子數(shù)為1以上且4以下的烷基,從相容性和相對于被涂布面的潤濕性的方面考慮,優(yōu)選碳原子數(shù)為1以上且3以下的烷基,更優(yōu)選碳原子數(shù)為2或3的烷基。式w中的p與q的和(p+q)優(yōu)選為p+q=100、即100質(zhì)量%。上述共聚物的重均分子量(mw)更優(yōu)選為1,500以上且5,000以下。[化學(xué)式23]本發(fā)明的感光性組合物中的表面活性劑的含量在配合時,相對于感光性組合物的全部固體成分中100質(zhì)量份優(yōu)選為0.001~5.0質(zhì)量份,更優(yōu)選為0.01~2.0質(zhì)量份。表面活性劑可以僅包含1種,也可以包含兩種以上。在包含兩種以上的情況下,優(yōu)選總量達(dá)到上述范圍。<其他的成分><<具有環(huán)氧基的化合物、具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物、封端異氰酸酯化合物>>本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選包含選自由具有環(huán)氧基的化合物、具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物、及封端異氰酸酯化合物組成的組中的至少1種。若為上述方式,則所得到的固化膜的硬度更優(yōu)異。-具有環(huán)氧基的化合物-本發(fā)明的感光性組合物也可以包含具有環(huán)氧基的化合物。具有環(huán)氧基的化合物也可以在分子中僅具有1個環(huán)氧基,優(yōu)選具有2個以上。作為分子內(nèi)具有2個以上的環(huán)氧基的化合物的具體例子,可列舉出雙酚a型環(huán)氧樹脂、雙酚f型環(huán)氧樹脂、線型酚醛清漆型環(huán)氧樹脂、甲酚線型酚醛型環(huán)氧樹脂、脂肪族環(huán)氧樹脂等。它們可以作為市售品獲得。例如,作為雙酚a型環(huán)氧樹脂,為jer827、jer828、jer834、jer1001、jer1002、jer1003、jer1055、jer1007、jer1009、jer1010(以上,japanepoxyresin(株)制)、epiclon860、epiclon1050、epiclon1051、epiclon1055(以上,dic(株)制)等,作為雙酚f型環(huán)氧樹脂,為jer806、jer807、jer4004、jer4005、jer4007、jer4010(以上,japanepoxyresin(株)制)、epiclon830、epiclon835(以上,dic(株)制)、lce-21、re-602s(以上,日本化藥(株)制)等,作為線型酚醛清漆型環(huán)氧樹脂,為jer152、jer154、jer157s70、jer157s65(以上,japanepoxyresin(株)制)、epiclonn-740、epiclonn-740、epiclonn-770、epiclonn-775(以上,dic(株)制)等,作為甲酚線型酚醛型環(huán)氧樹脂,為epiclonn-660、epiclonn-665、epiclonn-670、epiclonn-673、epiclonn-680、epiclonn-690、epiclonn-695(以上,dic(株)制)、eocn-1020(以上,日本化藥(株)制)等,作為脂肪族環(huán)氧樹脂,adekaresinep-4080s、adekaresinep-4085s、adekaresinep-4088s(以上,(株)adeka制)、celloxide2021p、celloxide2081、celloxide2083、celloxide2085、ehpe3150、epoleadpb3600、epoleadpb4700(以上,daicelchemicalindustries.,ltd.制)等。此外,可列舉出adekaresinep-4000s、adekaresinep-4003s、adekaresinep-4010s、adekaresinep-4011s(以上,(株)adeka制)、nc-2000、nc-3000、nc-7300、xd-1000、eppn-501、eppn-502(以上,(株)adeka制)等。此外,也可以適宜使用日本特公昭58-49860號公報、日本特公昭56-17654號公報、日本特公昭62-39417號公報、日本特公昭62-39418號公報中記載的具有環(huán)氧乙烷骨架的氨基甲酸酯化合物類,這些內(nèi)容被納入本申請說明書中。本發(fā)明的感光性組合物包含具有環(huán)氧基的化合物時,優(yōu)選以組合物的全部固體成分的0.1~20質(zhì)量%的范圍包含,更優(yōu)選以0.5~10質(zhì)量%的范圍包含,進(jìn)一步優(yōu)選以1~5質(zhì)量%的范圍包含。本發(fā)明的感光性組合物可以僅包含1種具有環(huán)氧基的化合物,也可以包含兩種以上。在包含兩種以上的情況下,優(yōu)選總量達(dá)到上述范圍。-具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物-本發(fā)明的感光性組合物也可以包含具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物。具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物也可以在分子中僅具有1個氧雜環(huán)丁烷基,但優(yōu)選具有2個以上。作為具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物的具體例子,可以使用aronoxetaneoxt-121、oxt-221、ox-sq、pnox(以上,東亞合成(株)制)。此外,包含氧雜環(huán)丁烷基的化合物優(yōu)選單獨(dú)使用或與包含環(huán)氧基的化合物混合使用。本發(fā)明的感光性組合物包含具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物時,優(yōu)選以組合物的全部固體成分的0.1~20質(zhì)量%的范圍包含,更優(yōu)選以0.5~10質(zhì)量%的范圍包含,進(jìn)一步優(yōu)選以1~5質(zhì)量%的范圍包含。本發(fā)明的感光性組合物也可以僅包含1種具有氧雜環(huán)丁烷基的化合物,也可以包含兩種以上。在包含兩種以上的情況下,優(yōu)選總量達(dá)到上述范圍。-封端異氰酸酯化合物-本發(fā)明的感光性組合物也可以包含封端異氰酸酯化合物。作為封端異氰酸酯化合物,只要是具有封端異氰酸酯基的化合物則沒有特別限制,從固化性的觀點(diǎn)出發(fā),優(yōu)選為1分子內(nèi)具有2個以上的封端異氰酸酯基的化合物。封端異氰酸酯基的數(shù)目的上限沒有特別規(guī)定,但優(yōu)選6個以下。此外,作為封端異氰酸酯化合物,其骨架沒有特別限定,只要是1分子中具有2個異氰酸酯基的化合物則可以是任意化合物,可以是脂肪族、脂環(huán)族或芳香族的多異氰酸酯。例如可以適宜使用2,4-甲苯撐二異氰酸酯、2,6-甲苯撐二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯、1,3-三亞甲基二異氰酸酯、1,4-四亞甲基二異氰酸酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、1,9-九亞甲基二異氰酸酯、1,10-十亞甲基二異氰酸酯、1,4-環(huán)己烷二異氰酸酯、2,2’-二乙基醚二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、對二甲苯二異氰酸酯、亞甲基雙(環(huán)己基異氰酸酯)、環(huán)己烷-1,3-二亞甲基二異氰酸酯、環(huán)己烷-1,4-二亞甲基二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、對苯撐二異氰酸酯、3,3’-亞甲基二甲苯撐-4,4’-二異氰酸酯、4,4’-二苯基醚二異氰酸酯、四氯亞苯基二異氰酸酯、降冰片烷二異氰酸酯、氫化1,3-苯二甲基二異氰酸酯、氫化1,4-苯二甲基二異氰酸酯等異氰酸酯化合物及由這些化合物派生的預(yù)聚物型的骨架的化合物。它們中,特別優(yōu)選亞甲苯基二異氰酸酯(tdi)、二苯基甲烷二異氰酸酯(mdi)、六亞甲基二異氰酸酯(hdi)、異佛爾酮二異氰酸酯(ipdi)。作為本發(fā)明的組合物中的封端異氰酸酯化合物的母結(jié)構(gòu),可列舉出縮二脲型、異氰脲酸酯型、加合物型、2官能預(yù)聚物型等。作為形成上述封端異氰酸酯化合物的封端結(jié)構(gòu)的封端劑,可列舉出肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、苯酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、酰亞胺系化合物等。它們中,特別優(yōu)選選自肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、苯酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物中的封端劑。本發(fā)明的組合物中可以使用的封端異氰酸酯化合物可以作為市售品而獲得,可以優(yōu)選使用例如coronateap-stablem、coronate2503、2515、2507、2513、2555、millionatems-50(以上,nipponpolyurethaneindustryco.,ltd.制)、takenateb-830、b-815n、b-820nsu、b-842n、b-846n、b-870n、b-874n、b-882n(以上,三井化學(xué)(株)制)、duranate17b-60p、17b-60px、17b-60p、tpa-b80x、tpa-b80e、mf-b60x、mf-b60b、mf-k60x、mf-k60b、e402-b80b、sbn-70d、sbb-70p、k6000(以上,asahikaseichemicalscorporation制)、desmodurbl1100、bl1265mpa/x、bl3575/1、bl3272mpa、bl3370mpa、bl3475ba/sn、bl5375mpa、vpls2078/2、bl4265sn、pl340、pl350、sumidurbl3175(以上,sumikabayerurethaneco.,ltd.制)等。本發(fā)明的感光性組合物包含封端異氰酸酯化合物時,優(yōu)選以組合物的全部固體成分的0.1~20質(zhì)量%的范圍包含,更優(yōu)選以0.5~10質(zhì)量%的范圍包含,進(jìn)一步優(yōu)選以1~5質(zhì)量%的范圍包含。本發(fā)明的感光性組合物可以僅包含1種封端異氰酸酯化合物,也可以包含兩種以上。在包含兩種以上的情況下,優(yōu)選總量達(dá)到上述范圍。本發(fā)明的感光性組合物也可以在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)包含除上述以外的其他化合物(例如,含有烷氧基甲基的化合物等)。作為含有烷氧基甲基的化合物,可列舉出日本特開2011-221494號公報的段落0192~0194中記載的化合物。<抗氧化劑>本發(fā)明的感光性組合物除了含有上述的成分以外,也可以含有抗氧化劑。作為抗氧化劑,可以含有公知的抗氧化劑。通過添加抗氧化劑,能夠防止固化膜的著色,或能夠降低因分解而導(dǎo)致的膜厚減少,此外,有耐熱透明性優(yōu)異的優(yōu)點(diǎn)。作為這樣的抗氧化劑,可列舉出例如磷系抗氧化劑、酰胺類、酰肼類、受阻酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。它們中,從固化膜的著色、膜厚減少的觀點(diǎn)出發(fā)特別優(yōu)選受阻酚系抗氧化劑、磷系抗氧化劑,最優(yōu)選受阻酚系抗氧化劑。它們可以單獨(dú)使用1種,也可以將兩種以上混合。作為優(yōu)選的市售品,可列舉出adekastabao-60、adekastabao-80(以上,(株)adeka制)、irganox1098(以上,basf公司制)。抗氧化劑的含量沒有特別限制,但相對于感光性組合物的全部固體成分優(yōu)選為0.1~10質(zhì)量%,更優(yōu)選為0.2~5質(zhì)量%,進(jìn)一步優(yōu)選為0.5~4質(zhì)量%。本發(fā)明的感光性組合物中,根據(jù)需要,除了上述以外,還可以添加增塑劑、熱酸產(chǎn)生劑、酸增殖劑等其他的成分。關(guān)于這些成分,例如可以使用日本特開2009-98616號公報、日本特開2009-244801號公報中記載的物質(zhì)、其他公知的物質(zhì)。此外,也可以將“高分子添加劑的新展開((株)日刊工業(yè)新聞)”中記載的各種紫外線吸收劑、金屬失活劑等添加到本發(fā)明的感光性組合物中。<感光性組合物的制備方法>作為本發(fā)明的感光性組合物的制備方法,沒有特別限制,可以通過公知的方法來制備,例如,可以將各成分以規(guī)定的比例且以任意的方法混合及攪拌、溶解和/或分散來制備感光性組合物。此外,例如,也可以將各成分分別預(yù)先制成溶解或分散到溶劑中而成的溶液后,將它們以規(guī)定的比例混合來制備感光性組合物。像以上那樣制備的感光性組合物也可以使用例如孔徑為0.2μm的過濾器等過濾后使用。(固化物及其制造方法)本發(fā)明的固化物是使本發(fā)明的感光性組合物固化而成的固化物。作為上述固化物,優(yōu)選為固化膜。此外,本發(fā)明的固化物優(yōu)選為通過本發(fā)明的固化物的制造方法而得到的固化膜。本發(fā)明的固化物的制造方法只要是使本發(fā)明的感光性組合物固化來制造固化物的方法,則沒有特別限制,優(yōu)選以該順序包含以下的工序a~工序d。工序a:將本發(fā)明的感光性組合物涂布到基板上的涂布工序;工序b:從所涂布的感光性組合物中除去溶劑的溶劑除去工序;工序c:將除去了溶劑的感光性組合物的至少一部分利用活性光線進(jìn)行曝光的曝光工序;工序d:將曝光后的感光性組合物進(jìn)行熱處理的熱處理工序;此外,本發(fā)明的固化物的制造方法更優(yōu)選在工序c與工序d之間包含下述工序e。工序e:將曝光后的感光性組合物利用水性顯影液進(jìn)行顯影的顯影工序。進(jìn)而,本發(fā)明的固化物的制造方法進(jìn)一步優(yōu)選在工序e與工序d之間進(jìn)一步包含以下的工序f。工序f:對顯影后的感光性組合物進(jìn)一步照射光的后曝光工序。在上述涂布工序中,優(yōu)選將本發(fā)明的感光性組合物涂布到基板上而制成包含溶劑的濕潤膜。在將感光性組合物涂布到基板上之前可以進(jìn)行堿洗滌或等離子體洗滌之類的基板的洗滌。進(jìn)而在基板洗滌后可以以六甲基二硅氮烷等對基板表面進(jìn)行處理。通過進(jìn)行該處理,存在感光性組合物的與基板的粘附性提高的傾向。作為上述的基板,可列舉出無機(jī)基板、樹脂、樹脂復(fù)合材料等。作為無機(jī)基板,可列舉出例如玻璃、石英、硅、氮化硅、及在這樣的基板上蒸鍍有鉬、鈦、鋁、銅等的復(fù)合基板。作為樹脂,可列舉出由聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚酰胺酰亞胺、聚醚酰亞胺、聚苯并噁唑、聚苯硫醚、聚環(huán)烯烴、降冰片烯樹脂、聚氯三氟乙烯等氟樹脂、液晶聚合物、丙烯酸樹脂、環(huán)氧樹脂、有機(jī)硅樹脂、離聚物樹脂、氰酸酯樹脂、交聯(lián)富馬酸二酯樹脂、環(huán)狀聚烯烴、芳香族醚樹脂、馬來酰亞胺-烯烴共聚物、纖維素、環(huán)硫化物樹脂等合成樹脂構(gòu)成的基板。這些基板以上述的形態(tài)直接使用的情況較少,通常根據(jù)最終制品的形態(tài),例如形成tft元件那樣的多層層疊結(jié)構(gòu)。此外,在外嵌(on-cell)結(jié)構(gòu)的觸控板等那樣的情況下,也可以在作為面板暫時完成的lcd(液晶顯示)單元或oled(有機(jī)發(fā)光二極管)單元上,適用本發(fā)明的感光性組合物。本發(fā)明的感光性組合物由于粘附性及對金屬布線的抗腐蝕性優(yōu)異,所以作為基板,優(yōu)選具有金屬布線的基板。作為金屬布線中的金屬,優(yōu)選為鈦、銅、鋁、銦、錫、錳、鎳、鈷、鉬、鎢、鉻、銀、釹、它們的氧化物或合金、或它們的層疊體,進(jìn)一步優(yōu)選為鉬、鈦、鋁、銅、它們的合金、或它們的層疊體,特別優(yōu)選為銅、銅合金、或鉬/鋁/鉬的層疊體。另外,金屬或金屬氧化物可以單獨(dú)使用1,也可以將多種并用。在基板上的涂布方法沒有特別限定,可以使用例如噴墨法、狹縫涂布法、噴霧法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法、流延涂布法、狹縫和旋轉(zhuǎn)法、印刷法等方法。在溶劑除去工序中,優(yōu)選從所涂布的上述的膜中,通過減壓(真空)和/或加熱等,除去溶劑而在基板上形成干燥涂膜。溶劑除去工序的加熱條件優(yōu)選為70~130℃且30~300秒鐘左右。此外,在上述溶劑除去工序中,沒有必要將感光性組合物中的溶劑完全除去,只要至少一部分被除去即可。另外,上述涂布工序和上述溶劑除去工序可以以該順序進(jìn)行,也可以同時進(jìn)行,還可交替地重復(fù)。例如,可以在上述涂布工序中的噴墨涂布全部結(jié)束后,進(jìn)行上述溶劑除去工序,也可以將基板加熱,一邊進(jìn)行上述涂布工序中的利用噴墨涂布方式的感光性組合物的噴出一邊進(jìn)行溶劑除去。上述曝光工序?yàn)槭褂没钚怨饩€由光聚合引發(fā)劑產(chǎn)生聚合引發(fā)種,進(jìn)行具有烯屬不飽和鍵的化合物的聚合,將除去了溶劑的感光性組合物的至少一部分固化的工序。在上述曝光工序中,優(yōu)選對所得到的涂膜以規(guī)定的圖案狀照射波長為300nm以上且450nm以下的活性光線。作為上述曝光工序中可以使用的曝光光源,可以使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學(xué)燈、led光源、準(zhǔn)分子激光產(chǎn)生裝置等,可以優(yōu)選使用i射線(365nm)、h射線(405nm)、g射線(436nm)等具有波長為300nm以上且450nm以下的波長的活性光線。此外,根據(jù)需要也可以通過長波長截止濾波器、短波長截止濾波器、帶通濾波器那樣的分光濾波器來調(diào)整照射光。曝光量優(yōu)選為1~500mj/cm2。作為曝光裝置,可以使用鏡面投影對準(zhǔn)曝光器、步進(jìn)機(jī)、掃描器、近接式、接觸式、微透鏡陣列、透鏡掃描器、激光曝光等各種方式的曝光機(jī)。上述曝光工序中的曝光在氧阻斷的狀態(tài)下進(jìn)行從固化促進(jìn)的觀點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。作為將氧阻斷的手段,可例示出氮?dú)夥障碌钠毓?、設(shè)置氧阻斷膜的曝光。此外,上述曝光工序中的曝光只要對除去了溶劑的感光性組合物的至少一部分進(jìn)行即可,例如可以是整面曝光,也可以是圖案曝光。此外,可以在上述曝光工序后,進(jìn)行曝光后加熱處理:postexposurebake(以下,也稱為“peb”。)。進(jìn)行peb時的溫度優(yōu)選為30℃以上且130℃以下,更優(yōu)選40℃以上且110℃以下,特別優(yōu)選50℃以上且100℃以下。加熱的方法沒有特別限定,可以使用公知的方法??闪信e出例如熱板、烘箱、紅外線加熱器等。此外,作為加熱時間,在熱板的情況下優(yōu)選1分鐘~30分鐘左右,除此以外的情況下優(yōu)選為20分鐘~120分鐘左右。若為上述溫度范圍,則能夠抑制對基板、裝置的損害而進(jìn)行加熱。在顯影工序中,將未固化的感光性組合物使用水性顯影液進(jìn)行顯影除去,形成負(fù)型圖像。顯影工序中使用的顯影液優(yōu)選為堿性的水性顯影液。顯影工序中使用的顯影液中,優(yōu)選包含堿性化合物。作為堿性化合物,可以使用例如氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀等堿金屬氫氧化物類;碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫等堿金屬碳酸鹽類;碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等堿金屬碳酸氫鹽類;四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、二乙基二甲基氫氧化銨等四烷基氫氧化銨類:膽堿等(羥基烷基)三烷基氫氧化銨類;硅酸鈉、偏硅酸鈉等硅酸鹽類;乙基胺、丙基胺、二乙基胺、三乙基胺等烷基胺類;二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺類;1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮雜二環(huán)[4.3.0]-5-壬烯等脂環(huán)式胺類。它們中,優(yōu)選選自由氫氧化鈉、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、及膽堿(2-羥基乙基三甲基氫氧化銨)組成的組中的至少1種的化合物。此外,也可以使用在上述堿類的水溶液中添加適量甲醇或乙醇等水溶性有機(jī)溶劑或表面活性劑而成的水溶液作為顯影液。作為優(yōu)選的顯影液,可列舉出四甲基氫氧化銨的0.4~2.5質(zhì)量%水溶液。顯影液的ph優(yōu)選為10.0~14.0。顯影時間優(yōu)選為30~500秒鐘,此外,顯影的方法可以是填液法(浸潤法)、噴淋法、浸漬法等中的任一種。在顯影后,也可以進(jìn)行淋洗工序。在淋洗工序中,通過將顯影后的基板用純水等清洗,進(jìn)行所附著的顯影液除去、顯影殘渣的除去。淋洗方法可以使用公知的方法??闪信e出例如噴淋淋洗或浸漬淋洗等。關(guān)于圖案曝光及顯影,可以使用公知的方法、公知的顯影液。可以適宜使用例如日本特開2011-186398號公報、日本特開2013-83937號公報中記載的圖案曝光方法及顯影方法。本發(fā)明的固化膜的制造方法優(yōu)選在上述顯影工序后,包含對顯影后的感光性組合物進(jìn)行熱處理的工序(后烘烤)。通過在將本發(fā)明的感光性組合物顯影后進(jìn)行熱處理,能夠得到強(qiáng)度更優(yōu)異的固化膜。作為上述熱處理工序中的熱處理溫度,優(yōu)選180℃以下,更優(yōu)選150℃以下,進(jìn)一步優(yōu)選130℃以下。作為下限值,優(yōu)選80℃以上,更優(yōu)選90℃以上。加熱的方法沒有特別限定,可以使用公知的方法。可列舉出例如熱板、烘箱、紅外線加熱器等。此外,作為加熱時間,在熱板的情況下優(yōu)選為1分鐘~30分鐘左右,除此以外的情況下優(yōu)選20分鐘~120分鐘左右。若為上述溫度范圍,則能夠抑制對基板、裝置的損害而進(jìn)行固化。此外,也可以在熱處理工序(后烘烤)之前,在較低溫度下進(jìn)行烘烤后進(jìn)行熱處理工序(中間烘烤工序的追加)。進(jìn)行中間烘烤時,優(yōu)選在90~150℃下加熱1~60分鐘后,在100℃以上的溫度下進(jìn)行熱處理。此外,還可以將中間烘烤、后烘烤分成3個階段以上的多階段來進(jìn)行加熱。通過這樣的中間烘烤、后烘烤的竅門,能夠調(diào)整圖案的形狀。這些加熱可以使用熱板、烘箱、紅外線加熱器等公知的加熱方法。此外,從膜硬度提高的觀點(diǎn)出發(fā),優(yōu)選在顯影工序后且熱處理工序前,包含對顯影后的感光性組合物進(jìn)一步照射光的后曝光工序。在上述后曝光工序中,優(yōu)選對顯影后的感光性組合物的整面進(jìn)行曝光。通過在后曝光后進(jìn)行后烘烤,能夠由曝光部分中殘留的光聚合引發(fā)劑產(chǎn)生引發(fā)種并作為促進(jìn)交聯(lián)工序的催化劑發(fā)揮功能,能夠促進(jìn)膜的固化反應(yīng)。此外,在后曝光工序中,優(yōu)選以汞燈或led燈等進(jìn)行50~3,000mj/cm2左右的能量曝光。本發(fā)明的固化膜為將本發(fā)明的感光性組合物固化而得到的固化膜。本發(fā)明的固化膜可以作為層間絕緣膜(絕緣膜)或外涂膜(保護(hù)膜)適宜使用,更適宜作為觸控板用外涂膜使用,進(jìn)一步適宜作為外嵌(on-cell)結(jié)構(gòu)觸控板用外涂膜使用。外嵌(on-cell)結(jié)構(gòu)觸控板與后述的外嵌(on-cell)型的觸控板顯示裝置含義相同。此外,本發(fā)明的固化膜優(yōu)選為通過本發(fā)明的固化膜的制造方法而得到的固化膜。通過本發(fā)明的感光性組合物,即使在低溫下進(jìn)行固化也可得到具有充分的硬度的固化膜、例如硬度為h以上的固化膜。將本發(fā)明的感光性組合物固化而形成的保護(hù)膜由于固化膜物性優(yōu)異,所以對于有機(jī)el顯示裝置或液晶顯示裝置的用途是有用的。其中,本發(fā)明的固化膜可以適宜作為觸控板布線用保護(hù)膜使用,可以更適宜作為外嵌(on-cell)結(jié)構(gòu)觸控板中的布線用保護(hù)膜使用。本發(fā)明的感光性組合物由于固化性及固化膜特性優(yōu)異,所以作為mems(microelectromechanicalsystems,微機(jī)電系統(tǒng))用設(shè)備的結(jié)構(gòu)部件,以將本發(fā)明的感光性組合物固化而得到的固化物或抗蝕圖案作為隔斷壁,或者作為機(jī)械驅(qū)動部件的一部分組裝而使用。作為這樣的mems用設(shè)備,可列舉出例如saw(表面聲波、surfaceacousticwave)濾波器、baw(聲體波、bulkacousticwave)濾波器、陀螺儀傳感器、顯示器用微快門、圖像傳感器、電子紙、噴墨頭、生物芯片、密封劑等部件。更具體的例子例示于日本特表2007-522531號公報、日本特開2008-250200號公報、日本特開2009-263544號公報等中。本發(fā)明的感光性組合物由于平坦性、透明性優(yōu)異,所以也可以用于例如日本特開2011-107476號公報的圖2中記載的堤岸層(16)及平坦化膜(57)、日本特開2010-9793號公報的圖4(a)中記載的隔斷壁(12)及平坦化膜(102)、日本特開2010-27591號公報的圖10中記載的堤岸層(221)及第3層間絕緣膜(216b)、日本特開2009-128577號公報的圖4(a)中記載的第2層間絕緣膜(125)及第3層間絕緣膜(126)、日本特開2010-182638號公報的圖3中記載的平坦化膜(12)及像素分離絕緣膜(14)等的形成中。此外,也可以適用于液晶顯示裝置中的用于將液晶層的厚度保持恒定的間隔物、液晶顯示裝置的濾色器或?yàn)V色器保護(hù)膜、傳真、電子復(fù)印機(jī)、固體攝像元件等片上濾色器的成像光學(xué)系統(tǒng)或光纖連接器的微透鏡。(顯示裝置、及觸控板)本發(fā)明的顯示裝置的特征在于,具有本發(fā)明的固化膜。作為本發(fā)明的顯示裝置,可列舉出例如有機(jī)el顯示裝置、液晶顯示裝置、觸控板顯示裝置等各種顯示裝置。本發(fā)明的有機(jī)el顯示裝置的特征在于,具有本發(fā)明的固化膜。作為本發(fā)明的有機(jī)el顯示裝置,除了具有使用本發(fā)明的感光性組合物而形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外沒有特別限制,可列舉出采取各種結(jié)構(gòu)的公知的各種有機(jī)el顯示裝置。例如,作為本發(fā)明的有機(jī)el顯示裝置所具有的tft(thin-filmtransistor)的具體例子,可列舉出非晶硅-tft、低溫多晶硅-tft、氧化物半導(dǎo)體tft等。本發(fā)明的固化膜由于電特性優(yōu)異,所以可以組合到這些tft中而優(yōu)選使用。圖1是有機(jī)el顯示裝置的一個例子的構(gòu)成概念圖。表示底部發(fā)光型的有機(jī)el顯示裝置中的基板的示意性截面圖,具有平坦化膜4。在玻璃基板6上形成底柵型的tft1,以覆蓋tft1的狀態(tài)形成由si3n4構(gòu)成的絕緣膜3。在絕緣膜3上形成這里省略了圖示的接觸孔后,在絕緣膜3上形成介由該接觸孔與tft1連接的布線2(高度為1.0μm)。金屬布線等布線2是用于將tft1間或通過后面的工序形成的有機(jī)el元件與tft1連接的布線。進(jìn)而,為了將因布線2的形成而產(chǎn)生的凹凸平坦化,以將因布線2而產(chǎn)生的凹凸填埋的狀態(tài)在絕緣膜3上形成平坦化膜4。在平坦化膜4上,形成有底部發(fā)光型的有機(jī)el元件。即,在平坦化膜4上,由ito構(gòu)成的第一電極5介由接觸孔7與布線2連接而形成。此外,第一電極5相當(dāng)于有機(jī)el元件的陽極。形成覆蓋第一電極5的周緣的形狀的絕緣膜8,通過設(shè)置該絕緣膜8,能夠防止第一電極5與通過其后的工序形成的第二電極之間的短路。進(jìn)而,雖然在圖1中沒有圖示,但介由所期望的圖案掩模,依次蒸鍍而設(shè)置空穴輸送層、有機(jī)發(fā)光層、電子輸送層,接著,在基板上方的整面上形成由al構(gòu)成的第二電極,通過使用密封用玻璃板和紫外線固化型環(huán)氧樹脂進(jìn)行貼合而密封,可得到在各有機(jī)el元件上連接用于驅(qū)動其的tft1而成的有源矩陣型的有機(jī)el顯示裝置。本發(fā)明的液晶顯示裝置的特征在于,具有本發(fā)明的固化膜。作為本發(fā)明的液晶顯示裝置,除了具有使用本發(fā)明的感光性組合物而形成的外涂膜(保護(hù)膜)、平坦化膜、層間絕緣膜以外沒有特別限制,可列舉出采取各種結(jié)構(gòu)的公知的液晶顯示裝置。例如,作為本發(fā)明的液晶顯示裝置所具備的tft(thin-filmtransistor)的具體例子,可列舉出非晶硅-tft、低溫多晶硅-tft、氧化物半導(dǎo)體tft(例如,銦鎵鋅氧化物、所謂的igzo)等。本發(fā)明的固化膜由于電特性優(yōu)異,所以可以組合到這些tft中而優(yōu)選使用。此外,作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可以采取的液晶驅(qū)動方式,可列舉出tn(twistednematic,扭曲向列)方式、va(verticalalignment,垂直取向)方式、ips(in-plane-switching,面內(nèi)切換)方式、ffs(fringefieldswitching,邊緣場切換)方式、ocb(opticallycompensatedbend,光學(xué)補(bǔ)償彎曲)方式等。在面板構(gòu)成中,即使是coa(colorfilteronarray,彩色濾光陣列)方式的液晶顯示裝置也可以使用本發(fā)明的固化膜,可以作為例如日本特開2005-284291號公報的有機(jī)絕緣膜(115)、日本特開2005-346054號公報的有機(jī)絕緣膜(212)使用。此外,作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可以采取的液晶取向膜的具體的取向方式,可列舉出摩擦取向法、光取向法等。此外,也可以通過日本特開2003-149647號公報、日本特開2011-257734號公報中記載的psa(polymersustainedalignment,聚合物穩(wěn)定取向)技術(shù)進(jìn)行聚合物取向支撐。此外,本發(fā)明的感光性組合物及本發(fā)明的固化膜并不限定于上述用途,可以在各種用途中使用。例如,除了平坦化膜、層間絕緣膜以外,還可以適宜用于保護(hù)膜、液晶顯示裝置中的用于將液晶層的厚度保持恒定的間隔物、在固體攝像元件中設(shè)置于濾色器上的微透鏡等。圖2是表示有源矩陣方式的液晶顯示裝置10的一個例子的概念性截面圖。該彩色液晶顯示裝置10是在背面具有背光源單元12的液晶面板,液晶面板在貼附有偏光膜的兩塊玻璃基板14、15之間配置有與配置的全部的像素對應(yīng)的tft16的元件。在形成于玻璃基板上的各元件上,通過固化膜17中形成的接觸孔18,布線有形成像素電極的ito透明電極19。在ito透明電極19上,設(shè)置有液晶20的層和配置有黑色矩陣的rgb濾色器22。作為背光源的光源,沒有特別限定,可以使用公知的光源??闪信e出例如白色led、藍(lán)色、紅色或綠色等多色led、熒光燈(冷陰極管)、有機(jī)el等。此外,液晶顯示裝置可以制成3d(立體視)型的液晶顯示裝置、或觸控板型的液晶顯示裝置(觸控板顯示裝置)。進(jìn)而也可以制成柔性型,可以作為日本特開2011-145686號公報中記載的第2層間絕緣膜(48)、日本特開2009-258758號公報中記載的層間絕緣膜(520)使用。本發(fā)明的觸控板為絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分由本發(fā)明的感光性組合物的固化物構(gòu)成的觸控板。此外,本發(fā)明的觸控板優(yōu)選至少具有透明基板、電極及絕緣層和/或保護(hù)層。本發(fā)明的觸控板顯示裝置優(yōu)選為具有本發(fā)明的觸控板的觸控板顯示裝置。作為本發(fā)明的觸控板,可以是電阻膜方式、靜電容量方式、超聲波方式、電磁感應(yīng)方式等公知的方式均可。其中,優(yōu)選靜電容量方式。作為靜電容量方式的觸控板,可列舉出日本特開2010-28115號公報中公開的觸控板、國際公開第2012/057165號中公開的觸控板。作為觸控板顯示裝置,可列舉出所謂的內(nèi)嵌(in-cell)型(例如,日本特表2012-517051號公報的圖5、圖6、圖7、圖8)、所謂的外嵌(on-cell)型(例如,日本特開2012-43394號公報的圖14、國際公開第2012/141148號的圖2(b))、ogs(oneglasssolution,玻璃一體)型、tol(touch-on-lens,覆蓋層觸控)型、其他的構(gòu)成(例如,日本特開2013-164871號公報的圖6)。此外,圖3表示觸控板顯示裝置的一個例子的構(gòu)成概念圖。例如,本發(fā)明的固化膜適宜適用于圖3中的各層之間的保護(hù)膜,此外,還適宜適用于將觸控板的檢測電極間隔開的層間絕緣膜。另外,作為觸控板的檢測電極,優(yōu)選為銀、銅、鋁、鈦、鉬、它們的合金。圖3中,110表示像素基板,140表示液晶層,120表示相對基板,130表示傳感器部。像素基板110從圖3的下側(cè)起依次具有偏振片111、透明基板112、共同電極113、絕緣層114、像素電極115、取向膜116。相對基板120從圖3的下側(cè)起依次具有取向膜121、濾色器122、透明基板123。傳感器部130分別具有相位差膜124、粘接層126、偏振片127。此外,圖3中,125為傳感器用檢測電極。本發(fā)明的固化膜可以在像素基板部分的絕緣層(114)(也稱為層間絕緣膜。)、各種保護(hù)膜(未圖示)、像素基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、相對基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、傳感器部分的各種保護(hù)膜(未圖示)等中使用。進(jìn)而,即使是靜態(tài)驅(qū)動方式的液晶顯示裝置,通過適用本發(fā)明也能夠顯示設(shè)計性高的圖案。作為例子,可以適用本發(fā)明作為日本特開2001-125086號公報中記載那樣的聚合物網(wǎng)絡(luò)型液晶的絕緣膜。此外,圖4是觸控板顯示裝置的另一個例子的構(gòu)成概念圖。包含具備薄膜晶體管(tft)440的相當(dāng)于薄膜晶體管顯示板的下部顯示板200、與下部顯示板200相對且在與下部顯示板200相對的面上具備多個濾色器330的相當(dāng)于濾色器顯示板的上部顯示板300、及形成于下部顯示板200與上部顯示板300之間的液晶層400。液晶層400包含液晶分子(未圖示)。下部顯示板200包含第1絕緣基板210、配置于第1絕緣基板210上的薄膜晶體管(tft)、形成于薄膜晶體管(tft)的上面的絕緣膜280、及配置于絕緣膜280上的像素電極290。薄膜晶體管(tft)可以包含門電極220、覆蓋門電極220的門絕緣膜240、半導(dǎo)體層250、歐姆接觸層260,262、源電極270、及漏電極272。在絕緣膜280上按照薄膜晶體管(tft)的漏電極272露出的方式形成接觸孔282。上部顯示板300包含配置在第2絕緣基板310的一面上且以矩陣狀排列的遮光部件320、配置于第2絕緣基板310上的取向膜350、配置于取向膜上的濾色器330、及配置于濾色器330上且與下部顯示板200的像素電極290對應(yīng)地對液晶層400施加電壓的共同電極370。在圖4所示的觸控板顯示裝置中,在第2絕緣基板310的另一面上配置有傳感電極410、絕緣膜420、驅(qū)動電極430、及絕緣膜(保護(hù)膜)280。像這樣,在圖4所示的液晶顯示裝置的制造中,在形成上部顯示板300時,可以一起形成作為觸摸屏的構(gòu)成要素的傳感電極410、絕緣膜420、及驅(qū)動電極430等。特別是將本發(fā)明的感光性組合物固化而得到的固化膜可以適宜用于絕緣膜280、絕緣膜420中。實(shí)施例以下列舉出實(shí)施例對本發(fā)明的實(shí)施方式更具體地進(jìn)行說明。以下的實(shí)施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理步驟等只要不脫離本發(fā)明的主旨,可以進(jìn)行適當(dāng)變更。因此,本發(fā)明的范圍并不限定于以下所示的具體例子。另外,只要沒有特別說明,“份”、“%”為質(zhì)量基準(zhǔn)。<具有2個以上烯屬不飽和鍵的化合物(多官能單體)>n-1:aronixm-405(東亞合成(株)制)、二季戊四醇五及六丙烯酸酯(dpha、六體∶五體=85∶15(摩爾比))、酸值<0.2mgkoh/g、相對于1mol烯屬不飽和鍵的化合物的質(zhì)量(烯屬不飽和鍵當(dāng)量、c=c當(dāng)量)99g/moln-2:a-bpe-20(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制)、下述化合物、c=c當(dāng)量608g/moln-3:atm-35e(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制)、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯(環(huán)氧乙烷35摩爾加成物)、c=c當(dāng)量473g/moln-4:a-tmmt(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制)、季戊四醇四丙烯酸酯、c=c當(dāng)量88g/moln-5:bzma(東京化成工業(yè)(株)制)、甲基丙烯酸芐基酯、c=c當(dāng)量176g/moln-6:u-15ha(新中村化學(xué)工業(yè)(株)制)、氨基甲酸酯丙烯酸酯、c=c當(dāng)量153g/moln-7:下述兩種的化合物的混合物(摩爾比6∶4)、c=c當(dāng)量113g/mol[化學(xué)式24][化學(xué)式25]<光聚合引發(fā)劑>k-1:下述化合物、合成品、肟酯化合物k-2:irgacureoxe01(basf公司制)、肟酯化合物k-3:irgacureoxe02(basf公司制)、肟酯化合物[化學(xué)式26]<二氧化硅粒子>p-1:pma-st(日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)(株)制)、含有二氧化硅粒子的pgmea分散液、平均一次粒徑為10~15nmp-2:srd-k(堺化學(xué)工業(yè)(株)制)、含有氧化鈦粒子的甲乙酮(mek)分散液、平均一次粒徑為5nmp-3:szr-k(堺化學(xué)工業(yè)(株)制)、含有氧化鋯粒子的mek分散液、平均一次粒徑為4nmp-4:pgm-st(日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)(株)制)、含有二氧化硅粒子的pgme分散液、平均一次粒徑為10~15nm<雜環(huán)化合物>t-1~t-8:下述化合物[化學(xué)式27][化學(xué)式28]<馬來酰亞胺化合物>m-1~m-5:下述化合物[化學(xué)式29]<溶劑>pgmea:丙二醇單甲基醚乙酸酯、daicelcorporation制eep:3-乙氧基丙酸乙酯、unioncarbidecorporation制medg:二乙二醇甲基乙基醚、東邦化學(xué)工業(yè)(株)制hisolveedmspgme:丙二醇單甲基醚、daicelcorporation制<樹脂>b-1:下述所示的丙烯酸樹脂、mw30,000、酸值為95mgkoh/gb-2:下述所示的丙烯酸樹脂、mw30,000、酸值為186mgkoh/g[化學(xué)式30]<添加劑(烷氧基硅烷化合物)>s-1:kbm-5103(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、c=c當(dāng)量為234g/mols-2:kbe-846(信越化學(xué)工業(yè)(株)制)、雙(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫醚<表面活性劑>f-1:megafacf-554(dic(株)制、含有全氟烷基的非離子表面活性劑的2%pgmea溶液)<阻聚劑>j-1:吩噻嗪(精工化學(xué)(株)制)(實(shí)施例1)<感光性組合物的制作>如以下那樣操作來制備?!け紗渭谆岩宜狨?pgmea):62.21份·阻聚劑j-1(吩噻嗪1%pgmea溶液):3.80份·n-1(dpha、aronixm-405):9.25份·光聚合引發(fā)劑k-1:0.57份·s-1(kbm-5103):1.71份·m-1(2,2-雙[4-(4-馬來酰亞胺苯氧基)苯基]丙烷):0.95份·t-4(3-巰基-1,2,4-三唑):0.38份·表面活性劑f-1(megafacf-554、dic(株)制、含有全氟烷基的非離子表面活性劑的2%pgmea溶液):0.855份·p-1(pma-st、含有30%二氧化硅粒子的pgmea分散液):20.27份將上述成分以磁力攪拌器攪拌1小時。接著,用0.45μm的膜濾器進(jìn)行過濾,制作了實(shí)施例1的感光性組合物(固體成分為19%)。-評價-通過以下的評價方法,評價實(shí)施例1的感光性組合物。將評價結(jié)果示于表3中。<粘附性>在100mm×100mm的玻璃基板(商品名:xg、corningincorporated制)上,旋轉(zhuǎn)涂布感光性組合物,在90℃的熱板上進(jìn)行100秒干燥(預(yù)烘烤),形成膜厚為2.0μm的膜。之后,對基板的整面進(jìn)行50mj/cm2的曝光(照度為20mw/cm2),將基板用烘箱在150℃下進(jìn)行60分鐘加熱(后烘烤)。使該基板在加溫至40℃的koh8%水溶液中浸漬500秒,以純水洗滌,用吹拂器除去洗滌液。之后,按照jisk5600:1999進(jìn)行100塊劃格評價,按照下述基準(zhǔn)評價產(chǎn)生了剝離的面積。5:完全沒有剝離4:剝離率超過0%且為20%以下3:剝離率超過20%且為50%以下2:剝離率超過50%且為70%以下1:剝離率超過70%、或在進(jìn)行劃格前整面剝離<抗腐蝕性>在蒸鍍有表3中記載的基材(基材i)的基板上,旋轉(zhuǎn)涂布感光性組合物,在90℃的熱板上進(jìn)行100秒干燥(預(yù)烘烤),形成膜厚為2.0μm的膜。之后,對基板的整面進(jìn)行50mj/cm2的曝光(照度為20mw/cm2),將基板用烘箱在150℃下進(jìn)行60分鐘加熱(后烘烤)。另外,使用的基材i為在10cm×10cm玻璃基板上濺射10nm的ti后濺射200nm的cu而得到的基板,基材ii為在10cm×10cm玻璃基板上以mo50nm、al200nm、mo50nm的順序?yàn)R射而得到的基板。在該基板上滴加下述組成的人工汗,放置1晝夜后,投入溫度為85℃且濕度為85%rh的恒溫恒濕槽中,按照下述基準(zhǔn)評價至產(chǎn)生腐蝕為止的時間。1:低于24小時2:24小時以上且低于78小時3:78小時以上且低于150小時4:150小時以上且低于300小時5:300小時以上-人工汗的組成-·純水:100.000g·氯化鈉:1.000g·乳酸:0.100g·磷酸氫二鈉無水物:0.025g·l-組氨酸鹽酸鹽一水合物:0.025g<硬度>在100mm×100mm的玻璃基板(商品名:xg、comingincorporated制)上,噴墨涂布感光性組合物,在90℃的烘箱中進(jìn)行100秒干燥(預(yù)烘烤),形成膜厚為1.0μm的膜。之后,對整面進(jìn)行300mj/cm2的曝光(照度為20mw/cm2),用烘箱在150℃下進(jìn)行60分鐘加熱(后烘烤)。將該基板按照jisk5600-5-4:1999,測定鉛筆硬度。另外,鉛筆使用三菱鉛筆(株)制uni,測定時的載荷設(shè)定為750g,鉛筆的角度設(shè)定為45°。1:b以下2:hb3:h4:2h5:3h以上<透明性>在1,000mm×1,000mm的玻璃基板(商品名:xg、corningincorporated制)上,狹縫涂布感光性組合物,在90℃的烘箱中進(jìn)行100秒干燥(預(yù)烘烤),形成膜厚為1.0μm的膜。之后,對整面進(jìn)行300mj/cm2的曝光(照度為20mw/cm2),用烘箱在150℃下進(jìn)行60分鐘加熱(后烘烤)。對該基板以玻璃基板(商品名:xg、corningincorporated制)作為參照,用mcpd-3000(大塚電子(株)制)測定透射率。1:400nm的透射率低于95%2:400nm的透射率為95%以上且低于97%3:400nm的透射率為97%以上(實(shí)施例2~27、及比較例1~16)以表1或表2中記載的量使用表1或表2中記載的各成分,進(jìn)而使用與實(shí)施例1同樣的表面活性劑及阻聚劑,通過與實(shí)施例1同樣的方法,分別得到實(shí)施例2~27及比較例1~16的感光性組合物。另外,實(shí)施例2~27及比較例1~16的感光性組合物均用溶劑pgmea按照固體成分達(dá)到19%的方式調(diào)整。此外,表1或表2中記載的p-1~p-3的量表示粒子自身的固體成分量。此外,使用所得到的感光性組合物,與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評價。將評價結(jié)果一并示于表3或表4中。[表1][表2][表3][表4]另外,表1或表2中的各成分的添加量分別為固體成分量,作為質(zhì)量份記載。此外,若將表1或表2中沒有記載的表面活性劑f-1及阻聚劑j-1的含量換算成表1中記載的固體成分量的質(zhì)量份,則表面活性劑f-1的質(zhì)量份達(dá)到0.1,阻聚劑j-1的質(zhì)量份達(dá)到0.2。此外,在比較例12及13中,t-2或t-3等沒有溶解而沉淀,無法制備均勻的分散液(感光性組合物),無法評價。(實(shí)施例28~39)以表5中記載的量使用表5中記載的各成分,進(jìn)一步使用與實(shí)施例1同樣的表面活性劑及阻聚劑,通過與實(shí)施例1同樣的方法,分別得到實(shí)施例28~39的感光性組合物。另外,實(shí)施例28~39的感光性組合物均用表5中記載的溶劑按照固體成分達(dá)到19%的方式調(diào)整。此外,表5中記載的p-1及p-4的量表示粒子自身的固體成分量。此外,使用所得到的感光性組合物,與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行評價。將評價結(jié)果一并示于表6中。[表5][表6]另外,表5中的各成分的添加量分別為固體成分量,作為質(zhì)量份記載。此外,若將表5中沒有記載的表面活性劑f-1及阻聚劑j-1的含量換算成表5中記載的固體成分量的質(zhì)量份,則表面活性劑f-1的質(zhì)量份達(dá)到0.1,阻聚劑j-1的質(zhì)量份達(dá)到0.2。在2015年11月17日申請的日本專利申請第2015-224382號的公開、及在2016年3月14日申請的日本專利申請第2016-049470號的公開,其整體通過參照納入本說明書中。本說明書中記載的全部的文獻(xiàn)、專利申請、及技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)與具體且分別記載各個文獻(xiàn)、專利申請、及技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)通過參照納入的情況相同程度地通過參照納入本說明書中。當(dāng)前第1頁12當(dāng)前第1頁12