技術(shù)特征：

1.一種用于設(shè)備的方法，所述設(shè)備用于制造或使用掩膜版或顯示基板，所述方法包括：

提供母版；

設(shè)置測量點(diǎn)步驟：根據(jù)所述掩膜版或所述顯示基板在母版上設(shè)置多個(gè)測量點(diǎn)，所述多個(gè)測量點(diǎn)對應(yīng)于將對所述掩膜版或顯示基板進(jìn)行像素位置精度測量的位置；

測量誤差值步驟：將母版置于所述設(shè)備的坐標(biāo)系下，在各個(gè)測量點(diǎn)處測量所述設(shè)備與母版之間的誤差值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

補(bǔ)償步驟：將上述測量誤差值步驟中測量出的所述誤差值作為最終的補(bǔ)償值，對所述設(shè)備在各個(gè)測量點(diǎn)處的誤差進(jìn)行補(bǔ)償。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：

測量偏差值步驟：對母版進(jìn)行位置精度檢查，以在各個(gè)測量點(diǎn)處測量母版的實(shí)際測量值與母版的理論設(shè)計(jì)值之間的偏差值。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括：

補(bǔ)償步驟：分別結(jié)合在各個(gè)測量點(diǎn)處所述測量誤差值步驟中測量出的誤差值與所述測量偏差值步驟中測量出的偏差值，以確定出最終的補(bǔ)償值，從而對所述設(shè)備在各個(gè)測量點(diǎn)處的誤差進(jìn)行補(bǔ)償。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，

在所述設(shè)置測量點(diǎn)步驟中設(shè)置n個(gè)測量點(diǎn)，其中n為大于2的自然數(shù)；

在所述測量誤差值步驟中在第一坐標(biāo)系(x，y)下測量的在第i個(gè)測量點(diǎn)處的誤差值分別為Δx_i，Δy_i，其中i為1～n之間的自然數(shù)；

在所述測量偏差值步驟中在第二坐標(biāo)系(X，Y)下測量的在第i個(gè)測量點(diǎn)處的偏差值分別為δX_i，δY_i，其中i為1～n之間的自然數(shù)；

所述結(jié)合步驟具體包括通過下式計(jì)算出在第i個(gè)測量點(diǎn)處最終的補(bǔ)償值∑X_i，∑Y_i：

∑X_i＝δX_i-Δx_i；

∑Y_i＝δY_i-Δy_i。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述母版為從標(biāo)準(zhǔn)補(bǔ)正板、與所述掩膜版或顯示基板對應(yīng)的玻璃基板或所述掩膜版的成品或顯示基板的成品中選擇的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求3-5中任一項(xiàng)所述的方法，其中，預(yù)先執(zhí)行所述測量偏差值步驟，然后在執(zhí)行所述測量誤差值步驟時(shí)將預(yù)先測量的偏差值自動導(dǎo)入執(zhí)行該方法的系統(tǒng)中。

8.一種用于制造掩膜版或顯示基板的方法，包括：

執(zhí)行上述權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，以生成與待制造的掩膜版或顯示基板對應(yīng)的補(bǔ)償數(shù)據(jù)；

根據(jù)生成的補(bǔ)償數(shù)據(jù)生成待制造的掩膜版或顯示基板在所述設(shè)備中的坐標(biāo)；

根據(jù)生成的坐標(biāo)制造掩膜版或顯示基板。

9.一種用于制造掩膜版或顯示基板的方法，包括如下步驟：

針對各種類型的掩膜版或顯示基板分別執(zhí)行上述權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法，以生成與各種類型的掩膜版或顯示基板對應(yīng)的補(bǔ)償數(shù)據(jù)文件；

將生成的補(bǔ)償數(shù)據(jù)文件存儲在數(shù)據(jù)庫或控制系統(tǒng)中；

讀取待制造的掩膜版或顯示基板的類型；

根據(jù)待制造的掩膜版或顯示基板的類型，從數(shù)據(jù)庫或控制系統(tǒng)中提取對應(yīng)的補(bǔ)償數(shù)據(jù)文件；

根據(jù)提取出的補(bǔ)償數(shù)據(jù)文件生成待制造的掩膜版或顯示基板在所述設(shè)備中的坐標(biāo)；

根據(jù)生成的坐標(biāo)制造掩膜版或顯示基板。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，掩膜版或顯示基板的類型根據(jù)像素位置精度進(jìn)行劃分。

11.一種用于制造或使用掩膜版或顯示基板的設(shè)備的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括設(shè)置模塊和測量模塊，其中，

該設(shè)置模塊被配置為根據(jù)所述掩膜版或所述顯示基板在母版上設(shè)置多個(gè)測量點(diǎn)，其中，所述多個(gè)測量點(diǎn)對應(yīng)于將對所述掩膜版或顯示基板進(jìn)行像素位置精度測量的位置；和

該測量模塊被配置為：在各個(gè)測量點(diǎn)處測量所述設(shè)備與母版之間的誤差值。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，還包括補(bǔ)償模塊，其中，該補(bǔ)償模塊被配置為：將上述測量模塊測量出的所述誤差值作為最終的補(bǔ)償值，對所述設(shè)備在各個(gè)測量點(diǎn)處的誤差進(jìn)行補(bǔ)償。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述測量模塊還被配置為：對所述母版進(jìn)行位置精度檢查，以在各個(gè)測量點(diǎn)處測量母版的實(shí)際測量值與母版的理論設(shè)計(jì)值之間的偏差值。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，還包括補(bǔ)償模塊，其中，該補(bǔ)償模塊被配置為：分別結(jié)合所述測量模塊在各個(gè)測量點(diǎn)處測量出的所述誤差值與所述偏差值，以確定出最終的補(bǔ)償值，從而對所述設(shè)備在各個(gè)測量點(diǎn)處的誤差進(jìn)行補(bǔ)償。