與示例性實施例一致的設(shè)備和方法涉及一種能夠調(diào)節(jié)光傳播方向的光束轉(zhuǎn)向裝置，特別涉及一種能夠通過使用具有凹雕結(jié)構(gòu)的天線元件陣列來調(diào)節(jié)光傳播方向的光束轉(zhuǎn)向裝置，一種包括該光束轉(zhuǎn)向裝置的光學(xué)設(shè)備和一種光束轉(zhuǎn)向方法。

背景技術(shù)：

最近，已經(jīng)開發(fā)了各種光學(xué)裝置。因為光學(xué)裝置使用光，所以光學(xué)裝置的信號處理率很高。然而，具有小尺寸(例如，幾十到幾百納米)的電子裝置的信號處理率比光學(xué)裝置的信號處理率低。雖然光學(xué)裝置具有高信號處理率，但是由于光衍射的限制，難以將光學(xué)裝置的尺寸減小到小于光波長的水平。因此，難以制造具有小于幾微米(μm)尺寸的光學(xué)裝置。因此，使用光學(xué)裝置制造集成光學(xué)電路是有限制的。

已經(jīng)開發(fā)了光學(xué)裝置如光學(xué)陣列天線。使用光學(xué)陣列天線通過調(diào)節(jié)光學(xué)陣列天線的天線元件的相位可以改變光的傳播方向。然而，由于難以連接天線元件之間的纖維，所以難以制造使用相控陣列的光學(xué)陣列天線，并且由于相位調(diào)諧加熱器，使用相控陣列的光學(xué)陣列天線具有復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

示例性實施例至少可以解決上述問題和/或缺點，并且解決上文未描述的其它缺點。此外，示例性實施例不需要克服上述所有缺點，并且不用克服上述每一個問題。

一個或多個示例性實施例提供了能夠通過改變光的偏振方向調(diào)節(jié)光的傳播方向的光束轉(zhuǎn)向裝置。

一個或多個示例性實施例提供了能夠通過使用簡化的天線陣列結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)光的傳播方向的光束轉(zhuǎn)向裝置。

一個或多個示例性實施例提供了能夠通過改變光的偏振方向調(diào)節(jié)光的傳播方向的光學(xué)設(shè)備。

一個或多個示例性實施例提供了通過改變光的偏振方向調(diào)節(jié)光的傳播方向的光束轉(zhuǎn)向方法。

根據(jù)示例性實施例的方面，提供了光束轉(zhuǎn)向裝置，包括偏振轉(zhuǎn)換器，調(diào)節(jié)從光源發(fā)射的光的偏振方向；以及天線陣列，接收來自偏振轉(zhuǎn)換器的光，并且根據(jù)來自偏振轉(zhuǎn)換器的光的偏振方向在不同傳播方向上發(fā)射光。

天線陣列可以包括沿不同方向設(shè)置在金屬層中的狹槽。

每個狹槽可具有帶相對較長的第一邊和相對較短的第二邊的橫截面形狀，并且狹槽的第一邊可以分別與調(diào)節(jié)的光偏振方向成不同的角度設(shè)置。

天線陣列還可包括與各自對應(yīng)的狹槽分離并且鄰近各自對應(yīng)的狹槽的凹槽，凹槽分別反射光束以具有不同傳播方向。

多個狹槽和凹槽中的狹槽和對應(yīng)的凹槽可以布置在與多個狹槽和凹槽中的另一狹槽和另一凹槽布置的方向不同的方向上。

凹槽可以與各自對應(yīng)的狹槽平行。

凹槽可以與各自對應(yīng)的狹槽傾斜。

光束轉(zhuǎn)向裝置還可包括設(shè)置在金屬層中的另一天線陣列，該另一天線陣列包括以與天線陣列的狹槽相同的方式布置的其它狹槽。

光束可以具有相同的強度。

光束可以分別具有不同的強度。

根據(jù)另一示例性實施例的方面，提供了光束轉(zhuǎn)向裝置，包括：偏振轉(zhuǎn)換器，調(diào)節(jié)從光源發(fā)射的光的偏振方向；金屬層，接收具有調(diào)節(jié)的偏振方向的光；以及設(shè)置在金屬層中的狹槽，每個狹槽具有帶相對較長的第一邊和相對較短的第二邊的橫截面形狀，所述狹槽的第一邊分別與調(diào)節(jié)的光偏振方向成不同角度設(shè)置。

光束的不同傳播方向可基本上垂直于光束所入射的狹槽相應(yīng)第一邊。

光束轉(zhuǎn)向裝置還可包括設(shè)置在金屬層中的凹槽，凹槽與各自對應(yīng)的狹槽分離并且鄰近各自對應(yīng)的狹槽，并且凹槽分別反射光束以具有不同傳播方向。

光束轉(zhuǎn)向裝置還可包括設(shè)置在金屬層中的其它狹槽，該其它狹槽以與狹槽不同的方式布置。

偏振轉(zhuǎn)換器可以包括液晶層。

每個狹槽可以具有矩形橫截面形狀。

金屬層可以包括鈦、金、銀、鉑、銅、鋁、鎳和鉻中的至少一個。

光束轉(zhuǎn)向裝置還可包括使發(fā)射光折射的折射器。

折射器可具有電動可調(diào)折射率。

第一邊和第二邊的距離均可以小于發(fā)射光的波長。

根據(jù)另一示例性實施例的方面，提供了光學(xué)設(shè)備，包括：配置為發(fā)射光的光源；偏振轉(zhuǎn)換器，調(diào)節(jié)發(fā)射光的偏振方向；天線陣列，接收來自偏振轉(zhuǎn)換器的光并且根據(jù)來自偏振轉(zhuǎn)換器的光的偏振方向在不同傳播方向上發(fā)射光；和顯示面板，配置為基于從天線陣列發(fā)射的具有不同傳播方向的光產(chǎn)生不同視角的圖像。

金屬層還可包括與各自對應(yīng)的狹槽分離并且鄰近各自對應(yīng)的狹槽的凹槽，凹槽分別反射光束以具有不同傳播方向。

根據(jù)另一示例性實施例的方面，提供了光束轉(zhuǎn)向方法，包括調(diào)節(jié)從光源發(fā)射的光的偏振方向；以及使具有調(diào)節(jié)的傳播方向的光受到具有相對于傳播方向在不同方向上取向的狹槽的金屬層的影響。

每個狹槽可具有帶相對較長的第一邊和相對較短的第二邊的橫截面形狀。

狹槽的第一邊可分別與調(diào)節(jié)的光偏振方向成不同角度設(shè)置，并且光束的不同傳播方向可以基本上垂直于光束所入射的狹槽相應(yīng)第一邊。

光束轉(zhuǎn)向方法還可包括分別從金屬層中的凹槽反射光束以具有不同傳播方向，凹槽與各自對應(yīng)的狹槽分離并且鄰近各自對應(yīng)的狹槽。

附圖說明

通過參考附圖描述示例性實施例，上述和/或其它方面將更明顯，其中：

圖1是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖2是沿圖1的II-II線截取的剖視圖；

圖3是示出了當(dāng)具有第一偏振方向的光入射到圖1所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時光的傳播方向的圖；

圖4是示出了當(dāng)具有第二偏振方向的光入射到圖1所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時光的傳播方向的圖；

圖5是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖6是沿圖5的VI-VI線截取的剖視圖；

圖7是示出了當(dāng)具有第一偏振方向的光入射到包括天線元件(每個天線元件具有狹槽和凹槽)的光束轉(zhuǎn)向裝置上時在第一方向傳播的光的圖；

圖8是示出了當(dāng)具有第一偏振方向的光入射到圖7所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的光分布圖；

圖9是示出了當(dāng)具有第二偏振方向的光入射到圖7所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時在第二方向上傳播的光的圖；

圖10是示出了當(dāng)具有第二偏振方向的光入射到圖7所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的光分布圖；

圖11是示出了當(dāng)具有第一到第五偏振方向的光入射到包括天線元件(每個天線元件具有狹槽和凹槽)的光束轉(zhuǎn)向裝置上時光的傳播方向的圖；

圖12是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖；

圖13是示出了圖12所示光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖，其中天線元件的狹槽和凹槽的尺寸不同；

圖14、15、16是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件(天線元件包括狹槽和兩個凹槽)的圖；

圖17是示出了根據(jù)示例性實施例的具有天線元件(每個天線元件包括狹槽和兩個凹槽)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖18是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖；

圖19是示出了包括天線元件(如圖18所示天線元件)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖20是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖21是示出了根據(jù)示例性實施例的包括天線陣列(天線元件在天線陣列中規(guī)則布置)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖22和23是示出了根據(jù)示例性實施例的包括天線陣列(天線元件在天線陣列中非規(guī)則布置)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖；

圖24是示出了圖6所示的光束轉(zhuǎn)向裝置的剖視圖，折射器添加到光束轉(zhuǎn)向裝置中；

圖25是示出了根據(jù)示例性實施例的包括光束轉(zhuǎn)向裝置的光學(xué)設(shè)備的視圖；以及

圖26是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向方法的流程圖。

具體實施方式

下面參考附圖更詳細(xì)地描述示例性實施例。

在以下描述中，甚至在不同的附圖中，相同的附圖標(biāo)記用于相同的元件。在描述中限定的物件，如詳細(xì)的結(jié)構(gòu)和元件，用于輔助示例性實施例的全面理解。然而，明顯的是，無需那些特別限定物件也可以實現(xiàn)示例性實施例。此外，如果公知的功能和結(jié)構(gòu)以不必要的細(xì)節(jié)使描述難以理解，那么它們可以被省略。

將理解的是，本文使用的術(shù)語“包括”及其變體指定存在所述特征和部件，但不排除存在或增加一個或多個其它特征或部件。此外，說明書中描述的術(shù)語如“單元”、“-器”和“模塊”指的是實現(xiàn)至少一個功能或操作的元件，并且可以在硬件、軟件或軟硬件結(jié)合中實現(xiàn)。

圖1是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖，并且圖2是沿圖1的II-II線截取的示意性剖視圖；

參考圖1和2，光束轉(zhuǎn)向裝置包括配置為調(diào)節(jié)從光源S發(fā)射的光的偏振方向的偏振轉(zhuǎn)換器10、金屬層20和設(shè)置在金屬層20中的天線陣列A。

例如，光源S可以包括光發(fā)射裝置如光發(fā)射二極管(LED)或激光二極管(LD)。例如，偏振轉(zhuǎn)換器10可以將從光源S發(fā)射的光轉(zhuǎn)換成偏振光束。例如，偏振轉(zhuǎn)換器10可以包括液晶層，并且可以電動改變光的偏振方向。此外，偏振轉(zhuǎn)換器10可以機(jī)械地改變光的偏振方向。例如，偏振轉(zhuǎn)換器10可以包括偏振片和配置為轉(zhuǎn)動偏振片的驅(qū)動器。偏振片可以轉(zhuǎn)動以改變光的偏振方向。

金屬層20可以包括從鈦(Ti)、金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、銅(Cu)、鋁(Al)、鎳(Ni)和鉻(Cr)中選擇的至少一個。金屬層20可以包括鈦(Ti)、金(Au)、銀(Ag)、鉑(Pt)、銅(Cu)、鋁(Al)、鎳(Ni)和鉻(Cr)中的至少兩個的合金。金屬層20還可以用作電極。例如，如果偏振轉(zhuǎn)換器10需要電極，則金屬層20可以起電極的作用。

天線陣列A設(shè)置在金屬層20中。天線陣列A包括配置為根據(jù)光的偏振方向改變光的傳播方向的多個天線元件BA。

天線元件BA可以是基礎(chǔ)單元結(jié)構(gòu)，用于根據(jù)光的偏振方向改變光的傳播方向。例如，天線元件BA可以包括至少一個凹雕結(jié)構(gòu)，并且凹雕結(jié)構(gòu)可以包括狹槽SL。

狹槽SL可以具有帶第一邊E1和第二邊E2的橫截面，第一邊E1具有相對較長的長度D1，第二邊E2具有相對較短的長度D2。例如，狹槽SL可以具有矩形橫截面形狀。然而，狹槽SL的橫截面形狀不限于此。例如，狹槽SL可以具有三角形、五邊形或六邊形的橫截面形狀。狹槽SL的橫截面形狀可以是在橫向于光的入射方向的方向上的橫截面形狀。例如，在圖1中，圖2所示的光源S可以通過天線陣列A向頁面外發(fā)射光。狹槽SL可以穿透金屬層20。

例如，狹槽SL可以具有長方體形狀。第一邊E1和第二邊E2之間的角度可以是90°，并且狹槽SL可以具有納米尺寸。納米尺寸的范圍可以從幾納米到幾百納米。狹槽SL可以通過刻蝕過程形成，并且狹槽SL的壁根據(jù)刻蝕過程的刻蝕深度可以不必彼此完全垂直，并且狹槽SL的橫截面形狀可以是近似矩形的。

狹槽SL的第一邊E1可以相對于參考方向以不同角度取向?？梢匀我膺x擇參考方向，例如光束轉(zhuǎn)向裝置的水平方向x或豎直方向y?；蛘撸瑓⒖挤较蚩梢允枪獾钠穹较?。天線元件BA的狹槽SL可以相對于參考方向以不同角度取向。例如，狹槽SL的第一邊E1可以相對于水平方向x成不同角度α。然而，不需要天線元件BA的所有狹槽SL都彼此具有不同的傾斜角度。例如，狹槽SL中的一些可以具有相同傾斜角度。

例如，天線陣列A可以包括第一狹槽SL1、第二狹槽SL2、第三狹槽SL3、第四狹槽SL4和第五狹槽SL5。第一到第五狹槽SL1到SL5可以具有不同的橫截面斜率(角度α)。參考圖示出了沿圖1的II-II線截取的橫截面的圖2，第一到第五狹槽SL1到SL5可以具有不同的寬度W。換句話說，參考沿圖1的II-II線截取的橫截面，第一到第五狹槽SL1到SL5可以具有增加的橫截面寬度W。

離開每個天線元件BA的光的傳播方向可以由天線元件BA的每個狹槽SL的方向確定，并且離開光束轉(zhuǎn)向裝置的光的傳播方向可以通過合成從天線元件BA輸出的光來改變。因此，根據(jù)入射到示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置上的光的偏振方向，光束轉(zhuǎn)向裝置可以調(diào)節(jié)光的傳播方向或出射方向。

圖3是示出了當(dāng)具有第一偏振方向的光入射到圖1所示天線陣列上時光的傳播方向的圖；

參考圖3，天線陣列A包括第一狹槽SL1、第二狹槽SL2、第三狹槽SL3、第四狹槽SL4和第五狹槽SL5。例如，第一到第五狹槽SL1到SL5可以具有相同的形狀和尺寸。然而，第一到第五狹槽SL1到SL5可以具有不同的形狀和尺寸。

第一到第五狹槽SL1到SL5可以在不同方向上取向。在橫向于光的入射方向的方向上截取的第一到第五狹槽SL1到SL5中的每個的橫截面(如圖3所示的x-y平面)中，具有相對較長長度的邊將被稱為長邊E1，并且具有相對較短長度的邊將被稱為短邊E2。例如，第一到第五狹槽SL1到SL5的長邊E1可以相對于第一方向成角α1、α2、α3、α4和α5，并且角α1、α2、α3、α4和α5可以滿足α1>α2>α3>α4>α5的條件。當(dāng)光從圖3頁面的背面入射到第一到第五狹槽SL1到SL5的每個時，光的出射方向可以根據(jù)入射到第一到第五狹槽SL1到SL5的每個上的光的偏振方向以及第一到第五狹槽SL1到SL5的每個的長邊E1的方向確定。例如，如果在垂直于狹槽SL的長邊E1的方向上偏振的光入射到狹槽SL的長邊E1上，則光可以在狹槽SL中共振并且然后可以從狹槽SL出射或發(fā)射。然而，如果在平行于長邊E1的方向上偏振的光入射到狹槽SL，則光不可以出射出狹槽SL。換句話說，在垂直于狹槽SL的長邊E1的方向上偏振的光可以在狹槽SL中共振并且然后可以出射出狹槽SL。如果具有任意偏振方向的光入射到狹槽SL上，則光的垂直于長邊E1的分量可以出射出狹槽SL。

如圖3所示，具有垂直于y方向的第一偏振方向的第一光束L1入射到天線陣列上。第一偏振方向可以垂直于第一狹槽SL1的長邊E1。如果具有第一偏振方向的第一光束L1入射到第一狹槽SL1上，則光束的垂直于第一狹槽SL1的長邊E1的分量可以在垂直于長邊E1的方向上從第一狹槽SL1出射出。換句話說，具有傳播方向L11((+)x和(-)x方向二者)的光L1-1可以從第一狹槽SL1出射出。出射出狹槽SL的光的強度可以根據(jù)光垂直于狹槽SL長邊E1的分量的大小確定。

對于具有第一偏振方向的相同第一光束L1，具有傳播方向L12的光L1-2可以從第二狹槽SL2出射出。方向L12可以垂直于第二狹槽SL2的長邊E1。光L1-2可以是第一光束L1垂直于第二狹槽SL2長邊E1的分量。

同樣，具有傳播方向L13的光L1-3可以從第三狹槽SL3出射出。傳播方向L13可以垂直于第三狹槽SL3的長邊E1。光L1-3可以是第一光束L1垂直于第三狹槽SL3長邊E1的分量。光離開第四狹槽SL4和第五狹槽SL5的出射方向可以以相同的方式確定。因此，具有方向L14的光L1-4可以從第四狹槽SL4出射出。在第五狹槽SL5的情況下，長邊E1平行于第一光束L1的第一偏振方向，因此第一光束L1不具有垂直于第五狹槽SL5長邊E1的分量。因此，沒有光L1-5可以從第五狹槽SL5出射出。

如上所述，光L1-1、L1-2、L1-3、L1-4、L1-5可以以不同強度在不同傳播方向上出射。如果具有第一偏振方向的第一光束L1入射到天線陣列上，則光L1-1、L1-2、L1-3、L1-4、L1-5可以結(jié)合到一起，并且輸出為第一組合光束L1S。第一組合光束L1S的出射方向和強度可以根據(jù)光L1-1、L1-2、L1-3、L1-4、L1-5的方向和強度確定。

圖4是示出了當(dāng)具有第二偏振方向的光入射到圖1所示的天線陣列上時光的傳播方向的圖。

參考圖4，具有垂直于x方向的第二偏振方向的第二光束L2入射到天線陣列上。第二偏振方向可以平行于第一狹槽SL1的長邊E1。例如，第一到第五狹槽SL1到SL5的長邊E1可以相對于(+)y方向成角β1、β2、β3、β4和β5，并且角β1、β2、β3、β4和β5可以滿足β1<β2<β3<β4<β5的條件。

第一狹槽SL1的長邊E1平行于第二光束L2的偏振方向，因此第二光束L2不具有垂直于第一狹槽SL1長邊E1的分量。因此，沒有光L2-1可以從第一狹槽SL1出射出。具有傳播方向L22的光L2-2可以從第二狹槽SL2出射出。具有傳播方向L23的光L2-3可以從第三狹槽SL3出射出。具有傳播方向L24的光L2-4可以從第四狹槽SL4出射出。具有傳播方向L25的光L2-5可以從第五狹槽SL5出射出。光L2-1、L2-2、L2-3、L2-4、L2-5可以以不同的強度在不同傳播方向上出射出。如果具有第二偏振方向的第二光束L2入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上，則光L2-1、L2-2、L2-3、L2-4、L2-5可以結(jié)合到一起，并且輸出為第二組合光束L2S。第二組合光束L2S的出射方向和強度可以根據(jù)光L2-1、L2-2、L2-3、L2-4、L2-5的方向和強度確定。

如參考圖3和4描述的，通過調(diào)節(jié)入射到天線陣列上的光的偏振方向，光束轉(zhuǎn)向裝置可以調(diào)節(jié)離開天線陣列的光的出射方向。此外，光束轉(zhuǎn)向裝置可以通過改變?nèi)肷涔獾膹姸日{(diào)節(jié)輸出光的強度。

在圖3和4中，光束轉(zhuǎn)向裝置的第一到第五狹槽SL1到SL5在不同方向上取向。然而，狹槽中的一些可以在相同方向上取向。除了將第一到第五狹槽SL1到SL5按它們的斜率順序布置，第一到第五狹槽SL1到SL5可以隨機(jī)布置，而不是取決于布置順序。

或者，第一到第五狹槽SL1到SL5可以分別具有不同尺寸或者組合起來具有不同尺寸。光的波長可以根據(jù)狹槽的尺寸(即長度和寬度)選擇。因為在狹槽中共振的光的波長由狹槽的尺寸確定，所以光的傳播波長帶可以取決于狹槽的尺寸。

圖5是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖，并且圖6是沿圖5的VI-VI線截取的剖視圖。

參考圖5和6，光束轉(zhuǎn)向裝置包括配置為調(diào)節(jié)從光源S10發(fā)射的光的偏振方向的偏振轉(zhuǎn)換器110、金屬層120和包括多個天線元件BA的天線陣列A，每個天線單元具有取決于光偏振方向的功能。

天線元件BA可以是基礎(chǔ)單元結(jié)構(gòu)，用于根據(jù)光的偏振方向改變光的傳播方向。天線單元BA的每個可以包括狹槽SL和鄰近狹槽SL的至少一個凹槽G。

光源S10可以包括光發(fā)射裝置如LED或LD。光源S10可以與偏振轉(zhuǎn)換器110分開或可以以鄰接偏振轉(zhuǎn)換器110的層的形式提供。偏振轉(zhuǎn)換器110可以將從光源S10發(fā)射的光轉(zhuǎn)換成偏振光束。例如，偏振轉(zhuǎn)換器110可以包括光柵裝置、液晶層或線柵偏振器。

狹槽SL可以具有帶第一邊E1和第二邊E2的橫截面形狀，第一邊E1具有相對較長的長度D1，第二邊E2具有相對較短的長度D2。例如，狹槽SL可以具有矩形橫截面形狀。然而，狹槽SL的橫截面形狀可以具有三角形、五邊形或六邊形的橫截面形狀。狹槽SL的橫截面形狀可以是在橫向于光的入射方向的方向上的橫截面形狀。狹槽SL可以穿透金屬層120，并且偏振轉(zhuǎn)換器110可以暴露通過狹槽SL的下部。

金屬層120包括基本上與圖1金屬層20包括的狹槽相同的狹槽SL，因此將省略其詳細(xì)描述。

金屬層120還包括凹槽G，例如第一凹槽G1、第二凹槽G2、第三凹槽G3、第四凹槽G4和第五凹槽G5。凹槽G可以形成在金屬層120中以具有預(yù)定的深度，以便它們不穿透金屬層120。凹槽G可以分別平行于狹槽SL。然而，凹槽G可以與狹槽SL傾斜。

如果從狹槽SL輸出的光入射到對應(yīng)的凹槽G上，則光可以由凹槽G反射。從狹槽SL輸出的光可以在垂直于狹槽SL長邊E1的兩個相反的方向上傳播。從對應(yīng)的狹槽SL朝向凹槽G傳播的光可以例如通過凹槽G反射，并且可以與從狹槽SL在相反方向上傳播的光結(jié)合。換句話說，出射出狹槽SL的光可以由對應(yīng)的凹槽G給出方向性，并且可以因此在一個方向上傳播。凹槽G可以用作導(dǎo)向器或反射器。

圖7是示出了當(dāng)具有偏振方向的光入射到天線元件(每個天線元件具有狹槽和凹槽)上時在一個方向上傳播的光的圖。圖8是示出了當(dāng)圖7所示的具有偏振方向的光入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上時從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的光分布圖。

參考圖7，光束轉(zhuǎn)向裝置包括第一天線元件BA1、第二天線元件BA2和第三天線元件BA3。第一天線單元BA1包括第一狹槽SL11和對應(yīng)的第一凹槽G11。第二天線單元BA2包括第二狹槽SL22和對應(yīng)的第二凹槽G22。第三天線單元BA2同樣包括第三狹槽SL33和對應(yīng)的第三凹槽G33。

第一狹槽SL11的長邊E11可以垂直于第一方向DR1，第二狹槽SL22的長邊E22可以相對于第一方向DR1成45°角，并且第三狹槽SL33的長邊E33可以平行于第一方向DR1。例如，第一方向DR1可以是光束轉(zhuǎn)向裝置的水平方向(+)x。

具有第一偏振方向P11的第一光束LI入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上。第一光束LI可以從第一狹槽SL11在垂直于第一狹槽SL11長邊E11的兩個方向上出射，并且朝向第一凹槽G11傳播的光束可以由它反射并與在L111方向上傳播的光束結(jié)合。第一光束LI可以從第二狹槽SL22在垂直于第二狹槽SL22長邊E22的兩個方向上出射，并且朝向第二凹槽G22傳播的光束可以由它反射并與在L112方向上傳播的光束結(jié)合。因為第一光束LI不具有垂直于第三狹槽SL33長邊E33的分量，所以沒有第一光束LI可以從第三狹槽SL33出射出。

入射到光束轉(zhuǎn)向裝置的具有第一偏振方向P11的第一光束LI由此被轉(zhuǎn)變?yōu)榫哂性诜较騆111上傳播的部分和在方向L112上傳播的部分的第一輸出光束LIO。

圖8示出了當(dāng)圖7所示的具有第一偏振方向P11的第一光束LI入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上時由光束轉(zhuǎn)向裝置產(chǎn)生的第一輸出光束LIO。

圖9是示出了當(dāng)具有不同偏振方向的光入射到圖7所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上時在另一方向上傳播的光的圖。圖10是示出了當(dāng)圖9所示的具有偏振方向的光入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上時從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的光分布圖。

參考圖9，具有第二偏振方向P22的第二光束LII入射到圖7所示的光束轉(zhuǎn)向裝置上。第二偏振方向P22可以是平行于第一狹槽SL11長邊E11的第二方向DR2。例如，第二方向DR2可以是光束轉(zhuǎn)向裝置的豎直方向(+)y。因為第二光束LII不具有垂直于第一狹槽SL11長邊E11的分量，所以沒有第二光束LII可以從第一狹槽SL11出射出。

第二光束LII可以從第二狹槽SL22在垂直于第二狹槽SL22長邊E22的兩個方向上出射，并且朝向第二凹槽G22傳播的光束可以由它反射并與在L222方向上傳播的光束結(jié)合。第二光束LII可以從第三狹槽SL33在垂直于第三狹槽SL33長邊E33的兩個方向上出射，并且朝向第三凹槽G33傳播的光束可以由它反射并與在L223方向上傳播的光束結(jié)合。

具有第二偏轉(zhuǎn)方向P22的第二光束LII可以分成在方向L222上傳播的部分和在方向L223上傳播的部分，并且兩部分可以結(jié)合成第二輸出光束LIIO。

圖10示出了當(dāng)圖9所示的具有第二偏振方向P22的第二光束LII入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上時由光束轉(zhuǎn)向裝置產(chǎn)生的第二輸出光束LIIO。

參考圖7到10，雖然光束轉(zhuǎn)向裝置的結(jié)構(gòu)沒有改變，但是光從光束轉(zhuǎn)向裝置出射的方向可以根據(jù)入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上的光的偏振方向調(diào)節(jié)。在上文中，描述了兩個偏振方向。然而，可以不同地改變光的偏振方向以調(diào)節(jié)光的出射方向。例如，具有不同于第一和第二偏轉(zhuǎn)方向的第三或第四偏振方向的光可以被導(dǎo)向到光束轉(zhuǎn)向裝置以改變光的出射方向。因此，如上所述，通過調(diào)節(jié)光的偏振方向，光可以從光束轉(zhuǎn)向裝置在多個方向上輸出，而不需改變光束轉(zhuǎn)向裝置的結(jié)構(gòu)。

圖11是示出了當(dāng)具有第一到第五偏振方向的光入射到天線元件(每個天線元件具有狹槽和凹槽)上時光的傳播方向的圖。圖11所示的光束轉(zhuǎn)向裝置包括天線陣列A，第一到第五天線元件布置在天線陣列A中。第一到第五天線元件包括第一到第五狹槽SL1到SL5和第一到第五對應(yīng)的凹槽G1到G5。例如，第一凹槽G1可以設(shè)置在第一狹槽SL1的一側(cè)，平行于第一狹槽SL1。第二到第五凹槽G2到G5可以分別平行于第二到第五狹槽SL2到SL5。第一到第五狹槽SL1到SL5可以在不同方向上取向。例如，如果光束轉(zhuǎn)向裝置的水平方向被稱為x軸方向，并且光束轉(zhuǎn)向裝置的豎直方向被稱為y軸方向，那么第一到第五狹槽SL1到SL5可以取向為使得第一到第五狹槽SL1到SL5的長邊可以相對于(+)x軸方向成不同的角度α2。然而，第一到第五狹槽SL1到SL5不限于此。例如，第一到第五狹槽SL1到SL5可以在相同方向上取向。

如果改變圖11所示的入射到光束轉(zhuǎn)向裝置的光的偏振方向，那么可以調(diào)節(jié)從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的傳播方向。例如，如果入射到光束轉(zhuǎn)向裝置的光束LI1到LI5分別具有第一到第五偏振方向P1到P5，那么第一到第五輸出光束LO1到LO5可以在不同傳播方向上輸出。在圖11的下部，示出了第一到第五輸出光束LO1到LO5與第一到第五偏振方向P1到P5的關(guān)系。因為入射光的偏振方向不同，所以從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向不同。換句話說，光的輸出方向可以通過改變?nèi)肷涔獾钠穹较騺碚{(diào)節(jié)。

圖12是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖。圖13是示出了圖12所示光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖，其中天線元件的狹槽和凹槽的尺寸可以改變。圖12和13示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的基礎(chǔ)單元結(jié)構(gòu)。天線元件包括在金屬層中的狹槽230和凹槽235。從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向可以根據(jù)狹槽230和凹槽235的尺寸或狹槽230和凹槽235之間的距離s1確定。例如，如果改變狹槽230和凹槽235的長度a1和a2或狹槽230和凹槽235之間的距離s1，那么可以調(diào)節(jié)從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向?；蛘撸瑥墓馐D(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向可以通過改變狹槽230或凹槽235的深度來調(diào)節(jié)?；蛘?，從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向可以通過改變狹槽230和凹槽235中至少一個的形狀來調(diào)節(jié)。換句話說，從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的方向可以通過改變與狹槽230和凹槽235的尺寸(長度、深度等)、狹槽230和凹槽235之間的距離s1以及狹槽230和凹槽235的形狀相關(guān)的一個或多個因素來調(diào)節(jié)。

如圖12所示，如果凹槽235的長度a2大于狹槽230的長度a1(a1<a2)，那么朝向凹槽235出射出狹槽230的光的相對較大的部分可以通過凹槽反射并在遠(yuǎn)離凹槽235的方向上傳播，結(jié)果，光的相對較小的部分可以傳播通過凹槽235。在這種情況下，凹槽235可以用作反射器，反射從狹槽230出射的光。

如圖13所示，如果凹槽235的長度a2小于狹槽230的長度a1(a1>a2)，那么朝向凹槽235出射出狹槽230的光的相對較大的部分可以由凹槽235引導(dǎo)并傳播通過凹槽，結(jié)果，光的相對較小的部分可以在遠(yuǎn)離凹槽235的方向上傳播。在這種情況下，凹槽235可以用作導(dǎo)向器，引導(dǎo)出射出狹槽230的光。在兩種情況下，狹槽230都可以用作供給光的進(jìn)給器。

在上述中，描述了通過改變狹槽和凹槽的尺寸來調(diào)節(jié)光的傳播方向的方法。然而，在另一示例中，光的傳播方向可以通過改變狹槽和凹槽之間的距離、凹槽的數(shù)量或凹槽的位置來調(diào)節(jié)。例如，可以在狹槽的一側(cè)設(shè)置多個凹槽，或者可以在狹槽的每個外側(cè)設(shè)置至少一個凹槽。

此外，從狹槽230出射的光的波長可以根據(jù)狹槽230的形狀或尺寸(例如長度和寬度)改變。例如，如果不改變其它條件，由于狹槽230的長度增加，則具有較長波長的光可以從狹槽230輸出。

圖14、15、16是示出了根據(jù)示例性實施例的包括狹槽和兩個凹槽的天線元件的圖。參考圖14到16，天線元件BA包括設(shè)置在金屬層420中的狹槽430、設(shè)置在狹槽430的一側(cè)的第一凹槽435和設(shè)置在狹槽430的相對側(cè)的凹槽437。例如，狹槽430和第一凹槽435之間的距離s1可以等于狹槽430和第二凹槽437之間的距離s2。參考圖14，狹槽430的長度a1等于第一凹槽435的長度a2(a1＝a2)，并且第二凹槽437的長度a3大于長度a1(a3＞a1＝a2)。

如圖14所示，如果第一凹槽435的長度a2等于狹槽430的長度a1，并且第二凹槽437的長度a3大于狹槽430的長度a1，那么從狹槽430出射的光可以以比朝向左側(cè)更多的量朝向右側(cè)傳播。此處，術(shù)語“左側(cè)和右側(cè)”基于附圖使用。

如圖15所示，如果第一凹槽435的長度a2小于狹槽430的長度a1，并且第二凹槽437的長度a3大于狹槽430的長度a1，那么從狹槽430出射的光可以以比朝向左側(cè)更多的量朝向右側(cè)傳播。在這種情況下，第一凹槽435可以用作導(dǎo)向器，并且第二凹槽437可以用作反射器。

如圖16所示，如果狹槽430的長度a1、第一凹槽435的長度a2和第二凹槽437的長度a3相等，那么從狹槽430出射的光可以以基本相同的量朝向左側(cè)和右側(cè)傳播。

參考圖14、15和16，光的傳播方向可以通過改變狹槽430、第一凹槽435或第二凹槽437的長度來調(diào)節(jié)?；蛘?，光的傳播方向可以通過改變狹槽430和第一凹槽435之間的距離s1或狹槽430和第二凹槽437之間的距離s2調(diào)節(jié)?；蛘撸獾膫鞑シ较蚩梢酝ㄟ^改變狹槽430、第一凹槽435或第二凹槽437的深度來調(diào)節(jié)。或者，光的傳播方向可以通過改變狹槽430、第一凹槽435或第二凹槽437中至少一個的形狀來調(diào)節(jié)。如上所述，光的傳播方向可以通過改變與狹槽430、第一凹槽435或第二凹槽437的尺寸(長度、寬度、深度等)、狹槽430和第一凹槽435之間的距離s1、狹槽430和第二凹槽437之間的距離s2以及狹槽430、第一凹槽435和第二凹槽437的形狀相關(guān)的多個因素之一來調(diào)節(jié)。

在圖14到16示出的示例中，天線元件BA包括一個狹槽和兩個凹槽。然而，在另一示例中，天線元件BA可以包括兩個狹槽和至少三個凹槽。

如上所述，可以通過不同地結(jié)合至少一個狹槽和至少一個凹槽來提供多種天線元件。換句話說，可以通過在金屬層中以各種方式布置各種種類的天線元件來提供各種光束轉(zhuǎn)向裝置。如果改變?nèi)肷涞教炀€元件的光的偏振方向，那么可以根據(jù)天線元件的陣列結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)光的輸出方向。還可以根據(jù)天線元件的陣列結(jié)構(gòu)改變諸如光學(xué)效率或強度等性能。此外，關(guān)于光束轉(zhuǎn)向裝置的結(jié)構(gòu)和入射光的偏振方向之間的關(guān)系的信息可以與天線元件結(jié)構(gòu)和布置的各種組合聯(lián)合起來收集?；谠撔畔?，可以不同地調(diào)節(jié)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的光學(xué)效率和方向性。

圖17是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的包括狹槽和兩個凹槽的每個天線元件的平面圖。詳細(xì)地，圖17示出了在金屬層ML中設(shè)置第一到第四天線元件BA1到BA4的示例。第一天線元件BA1包括第一狹槽SL1、設(shè)置在第一狹槽SL1一側(cè)的第一凹槽G1D和設(shè)置在第一狹槽SL1的相對側(cè)的第二凹槽G1R。第一凹槽G1D可以用作導(dǎo)向器，并且第二凹槽G1R可以用作發(fā)射器。第二天線元件BA2包括第二狹槽SL2、設(shè)置在第二狹槽SL2一側(cè)的第三凹槽G2D和設(shè)置在第二狹槽SL2的相對側(cè)的第四凹槽G2R。第三天線元件BA3包括第三狹槽SL3、設(shè)置在第三狹槽SL3一側(cè)的第五凹槽G3D和設(shè)置在第三狹槽SL3的相對側(cè)的第六凹槽G3R。第四天線元件BA4包括第四狹槽SL4、設(shè)置在第四狹槽SL4一側(cè)的第七凹槽G4D和設(shè)置在第四狹槽SL4的相對側(cè)的第八凹槽G4R。第一到第四天線元件BA1到BA4(每個包括一個狹槽和兩個凹槽)可以在不同方向上取向。如果具有偏振方向的光入射到第一到第四天線元件BA1到BA4上，那么光可以從第一到第四天線元件BA1到BA4在不同方向上輸出，并且可以結(jié)合在一起作為組合光。在圖17中，具有x偏振方向的光入射到光束轉(zhuǎn)向裝置上，光L從第一到第四天線元件的每個出射。

圖18是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的天線元件的圖。詳細(xì)地，圖18示出了天線元件BA。例如天線元件BA設(shè)置在金屬層520中，并且包括至少一個狹槽521和至少一個凹槽522。狹槽521和凹槽522彼此分開距離d。例如，狹槽521和凹槽522的每個可以具有帶長邊和短邊的多邊形橫截面形狀。此處，長邊指的是比短邊更長的一邊。

例如，狹槽521和凹槽522的每個可以具有長方體形狀。狹槽521和凹槽522的每個可以彼此傾斜，并且可以彼此不平行。從狹槽521的長邊延伸的虛線和從凹槽522的長邊延伸的虛線之間的角度m可以大于0°但小于180°。如果狹槽521和凹槽522如上所述彼此不平行，那么朝向凹槽522從狹槽521出射的光可以通過凹槽522反射或可以傳播通過凹槽522。圖18示出了朝向凹槽522從狹槽521出射的光通過凹槽522反射。換句話說，可以實現(xiàn)天線功能。在示例中，描述了一個狹槽和一個對應(yīng)的凹槽。在另一示例中，可以給狹槽提供多個凹槽。例如，可以在狹槽的一側(cè)設(shè)置凹槽，在狹槽的相對側(cè)設(shè)置多個凹槽。光束轉(zhuǎn)向裝置可以通過在不同方向上布置這樣的天線元件來配置。

圖19是示出了包括天線元件(如圖18所示天線元件)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖。光束轉(zhuǎn)向裝置包括第一狹槽SL11、第一對應(yīng)凹槽G11、第二狹槽SL12、第二對應(yīng)凹槽G12、第三狹槽SL13、第三對應(yīng)凹槽G13、第四狹槽SL14和第四對應(yīng)凹槽G14。第一凹槽G11相對于第一狹槽SL11成一角度。第二凹槽G12相對于第二狹槽SL12成一角度。第三凹槽G13相對于第三狹槽SL13成一角度。第四凹槽G14相對于第四狹槽SL14成一角度。第一到第四凹槽G11到G14與第一到第四狹槽SL11到SL14之間的角度可以相等或不同。從光束轉(zhuǎn)向裝置輸出的光的傳播方向可以根據(jù)入射到光束轉(zhuǎn)向裝置的光的偏振方向通過改變或不同地結(jié)合狹槽的數(shù)量、狹槽的布置角度、凹槽的數(shù)量和凹槽的布置角度來調(diào)節(jié)?？梢允占?、儲存和使用關(guān)于這樣的各種修改或結(jié)合的數(shù)據(jù)。

圖20是示出了根據(jù)另一示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖。在圖20示出的示例中，每個天線元件BA包括狹槽和對應(yīng)于狹槽的兩個凹槽。例如，兩個凹槽G11和G21設(shè)置在第一狹槽SL11的一側(cè)，兩個凹槽G12和G22設(shè)置在第二狹槽SL12的一側(cè)，兩個凹槽G13和G23設(shè)置在第三狹槽SL13的一側(cè)，并且兩個凹槽G14和G24設(shè)置在第四狹槽SL14的一側(cè)。例如，因為給每個狹槽提供了兩個凹槽，所以可以增加反射的量，因此，可以增加從每個狹槽輸出的光的強度。

圖21是示出了根據(jù)示例性實施例的包括天線陣列(天線元件規(guī)則布置在天線陣列中)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖。例如，光束轉(zhuǎn)向裝置包括第一天線陣列A1、第二天線陣列A2和第三天線陣列A3。第一到第三天線陣列A1到A3的每個包括在不同方向上取向的多個天線元件BA。第一到第三天線陣列A1到A3可以具有相同的布置結(jié)構(gòu)。在這種情況下，與使用單個天線陣列的情況相比，可以輸出在相同方向上傳播但具有更高強度的光。

圖22和23是示出了根據(jù)示例性實施例的包括天線陣列(天線元件不規(guī)則地布置在天線陣列中)的光束轉(zhuǎn)向裝置的平面圖。圖22所示的光束轉(zhuǎn)向裝置包括第一天線陣列A11、第二天線陣列A22和第三天線陣列A33。第一天線陣列A11包括多個天線元件BA。每個天線元件BA包括至少一個狹槽SL和至少一個凹槽G。第一到第三天線陣列A11到A33具有不同的布置結(jié)構(gòu)。

圖23示出了包括隨機(jī)布置的天線元件BA的光束轉(zhuǎn)向裝置。包括在相同方向上取向的狹槽SL和凹槽G的天線元件BA可以允許具有相同偏振方向的光在相同方向上傳播，而無論天線元件BA的布置順序如何。

圖24是示出了圖6所示的光束轉(zhuǎn)向裝置的剖視圖，折射器添加到光束轉(zhuǎn)向裝置。詳細(xì)地，圖24示出了折射器添加到圖6所示的光束轉(zhuǎn)向裝置的示例。從光源S10發(fā)射的光可以通過折射器105在基本上垂直于偏振轉(zhuǎn)換器110的方向上折射。折射器105可以包括具有電動可調(diào)折射率的材料。例如，折射器105可以包括液晶層。折射器105可以將光朝向光束轉(zhuǎn)向裝置的上部導(dǎo)向，并且因此可以有效地調(diào)節(jié)光的傳播方向。

如上所述，根據(jù)上述示例性實施例中的一個或多個，光束轉(zhuǎn)向裝置可以通過調(diào)節(jié)入射到具有至少一個凹雕結(jié)構(gòu)的天線元件布置結(jié)構(gòu)上的光的偏振方向來調(diào)節(jié)光的傳播方向。因為光束轉(zhuǎn)向裝置使用入射光的偏振方向而不是光的相位來調(diào)節(jié)光的傳播方向，所以光束轉(zhuǎn)向裝置可以具有簡化的結(jié)構(gòu)。

示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置可以應(yīng)用到各種光學(xué)設(shè)備。例如，光束轉(zhuǎn)向裝置可以應(yīng)用到三維顯示、激光雷達(dá)(光檢測和測距)、光學(xué)天線或光收發(fā)器。

圖25是示出了根據(jù)示例性實施例的包括光束轉(zhuǎn)向裝置的光學(xué)設(shè)備的視圖。圖25所示的光學(xué)設(shè)備可以包含在三維顯示中。參考圖25，光學(xué)設(shè)備包括光源600、偏振轉(zhuǎn)換器610、金屬層620和顯示面板630，偏振轉(zhuǎn)換器配置成調(diào)節(jié)光的傳播方向，顯示面板使用穿過金屬層620的光形成圖像。

金屬層620可以是參考圖1到24描述的金屬層中的任意一個。例如，金屬層620可以包括天線陣列，在該天線陣列中，如圖1所示，多個天線元件BA布置在不同方向上。這里將不再重復(fù)金屬層620的詳細(xì)描述。例如，顯示面板640可以包括液晶面板。

從光源600發(fā)射的光可以轉(zhuǎn)換成具有偏振方向的光，并且從金屬層620出射的光的方向可以根據(jù)偏振方向來調(diào)節(jié)。例如，偏振轉(zhuǎn)換器610可以輸出具有第一偏振方向的第一光束到金屬層620。第一光束可以從金屬層620在第一傳播方向上輸出。然后，顯示面板630可以使用第一光束以在第一方向上輸出第一圖像。同樣，偏振轉(zhuǎn)換器610可以輸出具有第二偏振方向的第二光束到金屬層620。第二光束可以從金屬層620在第二傳播方向上輸出。然后，顯示面板630可以使用第二光束以在第二傳播方向上輸出第二圖像。如圖25所示，可以給觀看者的左眼(LE)提供第一圖像，給觀看者的右眼(RE)提供第二圖像。因為分別給觀看者的左眼和右眼提供第一和第二圖像，所以可以實現(xiàn)三維圖像。此外，示例性實施例的光學(xué)設(shè)備可以在多個方向上顯示圖像，如第三方向和第四方向。換句話說，光學(xué)設(shè)備可以提供圖像至多個視角，因此多個觀看者可以享受三維圖像。

示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向裝置還可以應(yīng)用到激光雷達(dá)。激光雷達(dá)用于通過朝向物體輻射激光束、檢測由物體散射或反射的射線并測量射線的返回時間或射線的其它變量(如強度、頻率或偏振狀態(tài)變量)來測量到物體的距離和物體的物理屬性(如密度、速度或形狀)。激光雷達(dá)可以使用光束轉(zhuǎn)向裝置以通過改變?nèi)肷涞教炀€陣列上的光的偏振方向來調(diào)節(jié)從激光雷達(dá)輸出的光的方向。

圖26是示出了根據(jù)示例性實施例的光束轉(zhuǎn)向方法的流程圖。

例如，如圖1所示，在操作S1000中，制備了金屬層20，該金屬層包括具有多個天線元件BA的天線陣列。包括天線元件BA的天線陣列A基本上與參考圖1到24描述的天線陣列相同，因此此處將不再重復(fù)其詳細(xì)描述。

在操作S1100中，通過調(diào)節(jié)入射到天線元件BA的光的偏振方向來調(diào)節(jié)從天線元件BA出射的光的傳播方向。

如上所述，根據(jù)上述示例性實施例的一個或多個，光束轉(zhuǎn)向裝置可以通過改變進(jìn)入它的光的偏振方向來簡單地調(diào)節(jié)從它出射的光的傳播方向。此外，為了尺寸減小和集成，可以以薄膜的形式制造光束轉(zhuǎn)向裝置。光束轉(zhuǎn)向裝置可以應(yīng)用到各種光學(xué)設(shè)備。因為可以以薄膜的形式制造光束轉(zhuǎn)向裝置，所以使用光束轉(zhuǎn)向裝置的設(shè)備可以具有集成的結(jié)構(gòu)。

以上示例性實施例是示例性的，并且不解釋為限制性的。示例性實施例可以容易地應(yīng)用到其它類型的設(shè)備。此外，示例性實施例的描述試圖是說明性的，并且不限制權(quán)利要求的范圍，并且多個替代例、修改例和變型例對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說將是明顯的。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2015年9月21日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的韓國專利申請No.10-2015-0133090的優(yōu)先權(quán)，該專利申請的全部內(nèi)容通過引用并入本文。