本發(fā)明涉及液晶制造領(lǐng)域，尤其涉及一種涂布型染料偏光組件的制備方法，以及具有由所述制備方法制成的涂布型染料偏光組件的液晶面板。

背景技術(shù)：

偏光片是液晶面板中非常重要的部件，其很大程度上決定了液晶面板的關(guān)鍵特性指標(biāo)，例如對比度、穿透率、亮度，厚度等。其中，染料系偏光片通過將具有二色性的有機(jī)染料吸著在PVA(聚乙烯醇)上，并加以延伸定向，使之具有偏旋光性能。染料系偏光片耐高溫高濕的能力較好。染料系偏光片中又包括涂布型偏光片。涂布型染料偏光片是一種信賴性優(yōu)、又可做薄化的偏光片。涂布型染料偏光片的制備原料之一為染料。

然而，目前的涂布型染料偏光片，在制造過程中存在染料容易團(tuán)聚的缺陷，這將導(dǎo)致制成的涂布型染料偏光片偏振度降低；而偏光片的偏振度低，又會使得液晶面板的對比度降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種涂布型染料偏光組件的制備方法及液晶面板，能夠極大改善現(xiàn)有技術(shù)中染料團(tuán)聚的問題，提高了偏光片的偏振度，提升了液晶面板的對比度。

一種涂布型染料偏光組件的制備方法，所述涂布型染料偏光組件包括基板，所述基板上設(shè)有偏光配向膜，所述制備方法包括：使用熱浴法加熱反應(yīng)容器至反應(yīng)溫度，并使所述反應(yīng)容器維持所述反應(yīng)溫度；將反應(yīng)單體放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置第一時(shí)間間隔；將染料放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔以得到偏光膜溶液；使用旋涂法將所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；對所述偏光薄膜進(jìn)行紫外線照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光組件。

其中，在步驟使用熱浴方式加熱反應(yīng)容器至反應(yīng)溫度，并使所述反應(yīng)容器維持所述反應(yīng)溫度與步驟將反應(yīng)單體放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置第一時(shí)間間隔之間，還包括步驟：將溶劑放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔；對應(yīng)的，在步驟使用旋涂法將所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜與步驟對所述偏光薄膜進(jìn)行紫外線照射使其固化之間，還包括步驟：通過烘烤去除所述偏光薄膜中的溶劑。

其中，在步驟將反應(yīng)單體放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置第一時(shí)間間隔與步驟將染料放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔之間，還包括步驟：將起始劑放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔。

其中，所述熱浴法為油浴法。

其中，所述反應(yīng)溫度為40-110攝氏度。

其中，所述第一時(shí)間間隔為5-30分鐘。

其中，所述旋涂法中的轉(zhuǎn)速為500-2000轉(zhuǎn)每秒，旋轉(zhuǎn)時(shí)長為10-120秒。

其中，所述紫外線的波長為300-400納米，照射量為30-1000毫焦。

其中，所述烘烤的溫度為40-80攝氏度，烘烤時(shí)長為10-60分鐘。

一種液晶面板，包括涂布型染料偏光組件，所述涂布型染料偏光組件采用上述的制備方法制成。

由此，本發(fā)明的方案，通過使用熱浴法對反應(yīng)容器進(jìn)行均勻預(yù)熱，為后續(xù)物化反應(yīng)提供合適的反應(yīng)溫度；在反應(yīng)溫度下，使用攪拌和靜置的方式對反應(yīng)單體與染料進(jìn)行充分混合使其相溶，促進(jìn)了聚合反應(yīng)的充分進(jìn)行，避免染料發(fā)生團(tuán)聚；使用旋涂法得到均勻的偏光薄膜，防止偏光膜溶液中的染料由于離心力作用而凝聚；最終得到包括涂布型染料偏光層的涂布型染料偏光組件。本發(fā)明的方案，由于其工藝過程中染料不易發(fā)生團(tuán)聚，因而制成的涂布型染料偏光組件偏振度高，進(jìn)而提升了液晶面板的對比度。

附圖說明

為更清楚地闡述本發(fā)明的構(gòu)造特征和功效，下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施例來對其進(jìn)行詳細(xì)說明。

圖1是本發(fā)明第一實(shí)施例的涂布型染料偏光組件的制備方法的示意性流程框圖。

圖2是本發(fā)明第二實(shí)施例的涂布型染料偏光組件的制備方法的示意性流程框圖。

圖3是本發(fā)明第三實(shí)施例的一種實(shí)施方式中涂布型染料偏光組件的制備方法的示意性流程框圖。

圖4是本發(fā)明第三實(shí)施例的另一種實(shí)施方式中涂布型染料偏光組件的制備方法的示意性流程框圖。

具體實(shí)施例

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明以下實(shí)施例提供的涂布型染料偏光組件的制備方法，用于制備涂布型染料偏光組件。所述涂布型染料偏光組件包括基板及涂覆在基板上的涂布型染料偏光層。所述基板可以是液晶面板的CF(Color Filter，彩色濾光片)基板，也可以是TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)基板。所述基板上設(shè)有偏光配向膜，所述涂布型染料偏光層具體是涂覆在偏光配向膜上。所述偏光配向膜用于對所述涂布型染料偏光層進(jìn)行偏光配向。所述偏光配向膜可以是設(shè)在所述基板的外表面，即所述基板背離液晶層的表面；也可以是設(shè)在所述基板的內(nèi)表面，即所述基板朝向液晶層的表面。

如圖1所示，本發(fā)明第一實(shí)施例的涂布型染料偏光組件的制備方法100包括：

S101，使用熱浴法加熱反應(yīng)容器至反應(yīng)溫度，并使所述反應(yīng)容器維持所述反應(yīng)溫度；

S102，將反應(yīng)單體放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置第一時(shí)間間隔；

S103，將染料放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔以得到偏光膜溶液；

S104，使用旋涂法將所述偏光膜溶液涂覆在所述基板的所述偏光配向膜上以得到偏光薄膜；

S105，對所述偏光薄膜進(jìn)行紫外線照射使其固化，以得到所述涂布型染料偏光組件。

具體而言，在S101中，反應(yīng)容器用于容納制備所述涂布型染料偏光片的各種原料，各種原料在反應(yīng)容器中進(jìn)行物化反應(yīng)。反應(yīng)容器需要達(dá)到一定的反應(yīng)溫度，以利于各種原料順利進(jìn)行物化反應(yīng)。采用熱浴法加熱反應(yīng)容器，具體可以采用如下操作：將反應(yīng)容器置入盛裝有熱浴物質(zhì)的熱浴容器中，對熱浴物質(zhì)進(jìn)行加熱，反應(yīng)容器將隨熱浴物質(zhì)一起升溫至需要的反應(yīng)溫度。本實(shí)施例中，優(yōu)選的，可以采用油浴法加熱反應(yīng)容器。油浴法中使用導(dǎo)熱油作為熱浴物質(zhì)，且反應(yīng)溫度設(shè)為40-110攝氏度。采用此種方式，能夠使得各種原料充分相溶，有利于物化反應(yīng)的充分進(jìn)行。在其他實(shí)施例中，可以使用其他熱浴物質(zhì)進(jìn)行熱??；和/或反應(yīng)溫度可以根據(jù)實(shí)際情況予以設(shè)定。

在S102中，由于反應(yīng)容器已經(jīng)預(yù)先升溫至反應(yīng)溫度，在此溫度下，放入反應(yīng)容器內(nèi)的反應(yīng)單體將發(fā)生熱熔而成為液態(tài)，液態(tài)的反應(yīng)單體將與后續(xù)放入反應(yīng)容器的染料發(fā)生聚合反應(yīng)。為了使反應(yīng)單體充分熔融，對其進(jìn)行攪拌。之后再靜置第一時(shí)間間隔，以使得反應(yīng)單體進(jìn)一步地完全熔融。本步驟中，通過在反應(yīng)溫度下采用攪拌和靜置的方式，能夠促進(jìn)反應(yīng)單體充分熔融，有利于后續(xù)物化反應(yīng)的進(jìn)行。本實(shí)施例中，優(yōu)選的，所述第一時(shí)間間隔設(shè)為5-30分鐘。在其他實(shí)施例中，可以根據(jù)實(shí)際情況靈活確定所述第一時(shí)間間隔的具體長度。

在S103中，將染料放入已經(jīng)溶解有反應(yīng)單體的反應(yīng)容器中，并進(jìn)行攪拌，以使得染料充分溶入液態(tài)的反應(yīng)單體中。此時(shí)，染料則會與反應(yīng)單體發(fā)生聚合反應(yīng)。之后再靜置第一時(shí)間間隔，以使得染料進(jìn)一步地完全溶解和充分進(jìn)行聚合反應(yīng)。經(jīng)過聚合反應(yīng)之后，能夠得到偏光膜溶液。本步驟中，通過在反應(yīng)溫度下采用攪拌和靜置的方式，能夠促進(jìn)染料充分溶解，有利于聚合反應(yīng)的充分進(jìn)行。

在S104中，將已經(jīng)得到的偏光膜溶液使用旋涂法涂覆在基板的偏光配向膜上，從而得到偏光薄膜。使用旋涂法進(jìn)行涂覆，具體可采用如下操作：事先將基板放置在旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)盤上，設(shè)置轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)速與旋轉(zhuǎn)時(shí)長，基板將隨轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動。然后在基板的偏光配向膜上滴入偏光膜溶液。滴入的偏光膜溶液在轉(zhuǎn)動過程中，由于轉(zhuǎn)動離心力的作用，將被均勻涂覆在偏光配向膜上。本實(shí)施例中，優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)速設(shè)為500-2000轉(zhuǎn)每秒，旋轉(zhuǎn)時(shí)長為10-120秒。此種轉(zhuǎn)動參數(shù)的設(shè)置，既能夠使得偏光膜溶液在合理的離心力作用下均勻涂覆，又能夠避免偏光膜溶液中的染料在由于離心力過大而發(fā)生凝聚。在其他實(shí)施例中，轉(zhuǎn)速與旋轉(zhuǎn)時(shí)長可以根據(jù)實(shí)際需要予以靈活設(shè)定，而不限于為上述所列。

在S105中，對得到的偏光薄膜使用紫外線照射使其固化，從而形成涂布型染料偏光層，進(jìn)而得到涂布型染料偏光組件。本實(shí)施例中，優(yōu)選的，紫外線的波長為300-400納米，其照射量為30-1000毫焦。此種參數(shù)的紫外線有利于固化過程的快速和可靠進(jìn)行。在其他實(shí)施例中，可以采用其他固化方式進(jìn)行固化處理；和/或，可以采用其他參數(shù)的紫外線進(jìn)行照射固化。

因此，本第一實(shí)施例的制備方法100，通過使用熱浴法對反應(yīng)容器進(jìn)行均勻預(yù)熱，為后續(xù)物化反應(yīng)提供合適的反應(yīng)溫度；在反應(yīng)溫度下，使用攪拌和靜置的方式對反應(yīng)單體與染料進(jìn)行充分混合使其相溶，促進(jìn)了聚合反應(yīng)的充分進(jìn)行，避免染料發(fā)生團(tuán)聚；使用旋涂法得到均勻的偏光薄膜，防止偏光膜溶液中的染料由于離心力作用而凝聚；最終得到包括涂布型染料偏光層的涂布型染料偏光組件。本制備方法100，由于其工藝過程中染料不易發(fā)生團(tuán)聚，因而制成的涂布型染料偏光組件偏振度高，進(jìn)而提升了液晶面板的對比度。

如圖2所示，在本發(fā)明第二實(shí)施例中，與上述第一實(shí)施例不同的是，制備方法200在S101與S102之間還包括：

S201，將溶劑放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置所述第一時(shí)間間隔；

對應(yīng)的，在S104與S105之間還包括：

S202，通過烘烤去除所述偏光薄膜中的溶劑。

具體而言，在S201中，加入到反應(yīng)容器中的溶劑作為后續(xù)各種待添加的原料的溶解母液。通過在反應(yīng)溫度下采用攪拌和靜置的方式，能夠使得溶劑的濃度分布均勻，有利于后續(xù)物化反應(yīng)的進(jìn)行。

在S202中，由于溶劑只是起到溶解母液的作用，其在偏光薄膜形成之后，應(yīng)該予以去除。本實(shí)施例中采用烘烤(Bake)工藝將溶劑除去。優(yōu)選的，烘烤的溫度為40-80攝氏度，烘烤時(shí)長為10-60分鐘。采用上述烘烤參數(shù)，有利于徹底去除溶劑。在其他實(shí)施例中，可以根據(jù)實(shí)際需要設(shè)定其他烘烤參數(shù)；和/或，也可以采用其他方式去除溶劑。

如圖3和圖4所示，在本發(fā)明第三實(shí)施例中，與上述第一、第二實(shí)施例不同的是，制備方法300在S102和S103之間還包括：

S301，將起始劑放入所述反應(yīng)容器中攪拌至充分溶解，之后靜置第一時(shí)間間隔。

起始劑用于加快反應(yīng)單體與染料的聚合反應(yīng)。通過在反應(yīng)溫度下采用攪拌和靜置的方式，能夠使得起始劑完全溶解，有利于后續(xù)聚合反應(yīng)的進(jìn)行。在本第三實(shí)施例的一種實(shí)施方式中，如圖3所示，起始劑可以單獨(dú)加入反應(yīng)容器；或者在本第三實(shí)施例的另一種實(shí)施方式中，如圖4所示，起始劑可以與溶劑一起加入反應(yīng)容器。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種液晶面板，所述液晶面板包括涂布型染料偏光組件，所述涂布型染料偏光組件采用上述制備方法制成。本實(shí)施例的液晶面板，其涂布型染料偏光組件的偏振度高，對比度好。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易的想到各種等效的修改或替換，這些修改或替換都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。