本發(fā)明涉及掩膜版維護(hù)保養(yǎng)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜版清潔裝置。

背景技術(shù)：

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示裝置，因其具有體積小、功耗低、無輻射以及制作成本相對較低等特點，而越來越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。

薄膜晶體管-液晶顯示器由陣列基板和彩膜基板對盒構(gòu)成。在陣列基板和彩膜基板的工藝制程中，例如制作TFT的源極、漏極等均需要通過曝光刻蝕等構(gòu)圖工藝具體實現(xiàn)，光線透過掩膜版上預(yù)設(shè)的透光圖案對置于掩膜版下方的基板上的待加工薄膜層進(jìn)行刻蝕曝光，以在基板上形成特定的圖案。

掩膜版具有構(gòu)圖圖案，隨著屏幕PPI(Pixels Per Inch,每英寸內(nèi)擁有的像素數(shù)目)的增多，掩膜版上的構(gòu)圖圖案區(qū)域精細(xì)化，在此情況下，當(dāng)掩膜版的構(gòu)圖圖案內(nèi)一旦掉落和附著灰塵或其他細(xì)小微粒時，會使得掩膜版的品質(zhì)容易受到影響，甚至導(dǎo)致通過掩膜版進(jìn)行構(gòu)圖工藝制程的基板由于圖案出錯而返修或報廢。

如圖1所示，掩膜版01在不使用時通常放置于四周設(shè)置有支撐架03的支撐板02上，以使得掩膜版01的掩膜圖案懸空不與任何表面接觸，降低碰撞損傷的可能性，并在掩膜版01上方加設(shè)蓋板04，蓋板04與支撐板02組成密封空間以減少掩膜版04受到外界灰塵或微粒污染的可能性。

掩膜版01在使用前需要打開蓋板04做清潔度檢查，通過氣槍吹落去除掩膜版01表面灰塵或微粒后，重新蓋上蓋板04密封，由推車運送至工作臺后，由移動機械手將整個支撐板02和蓋板04組成的密閉盒體抓取并放入曝光機內(nèi)的密閉空間中，根據(jù)曝光機中設(shè)定的程序在曝光機內(nèi)取出掩膜版01并使用進(jìn)行掩膜曝光。

由于掩膜版01下表面與支撐板02之間的空間較小，氣槍無法去除支撐板02上沉積的灰塵或微粒，在曝光機內(nèi)的密閉空間中拿取掩膜版01時，可能導(dǎo)致沉積在支撐板02上的灰塵或微粒在氣流的帶動下落在掩膜版01上，從而影響到待加工基板的掩膜曝光圖案的精確性。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實施例提供一種掩膜版清潔裝置，能夠去除掩膜版和支撐板上的灰塵或其他細(xì)小微粒。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明實施例的一方面提供一種掩膜版清潔裝置，用于對待清潔掩膜版以及放置待清潔掩膜版的支撐板進(jìn)行清潔，包括相對設(shè)置的第一面板和第二面板，第一面板與第二面板之間具有間隙，用于將待清潔掩膜版設(shè)置于第一面板與第二面板之間，且將第二面板設(shè)置于待清潔掩膜版與支撐板之間進(jìn)行清潔操作；在第一面板靠近第二面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；至少在第二面板背離第一面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；在掩膜版清潔裝置上還設(shè)置有與出氣口相連接的氣源。

優(yōu)選的，在第二面板背離第一面板的一側(cè)以及第二面板靠近第一面板的一側(cè)均設(shè)置有多個出氣口。

進(jìn)一步的，本發(fā)明的掩膜版清潔裝置還包括限位部，限位部為條狀，限位部的固定端固定連接在掩膜版清潔裝置上，限位端設(shè)置在第二面板靠近支撐板的一側(cè)，用于在的掩膜版清潔裝置放入清潔工位后與支撐板側(cè)面相抵靠。

進(jìn)一步的，本發(fā)明的掩膜版清潔裝置還包括固定部，固定部與限位部的限位端相連且與限位部相互垂直，固定部的上表面與支撐板的下表面位于同一水平面上，固定部用于在的掩膜版清潔裝置放入清潔工位后與支撐板的下表面卡接固定。

優(yōu)選的，限位部和固定部為一體結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的，第二面板靠近支撐板的一面設(shè)置有輔助運動件，輔助運動件用于在將掩膜版清潔裝置放入清潔工位時，減小第二面板與支撐板之間相對移動的摩擦阻力。

進(jìn)一步的，輔助運動件包括多個滾動件。

進(jìn)一步的，滾動件包括滾動軸以及穿插在滾動軸上的滾柱，滾動軸的中心線與第二面板的下表面平行且與第二面板放入清潔工位的運動方向垂直。

優(yōu)選的，滾動件包括安裝槽和設(shè)置在安裝槽內(nèi)的滾珠，安裝槽的開口尺寸小于滾珠的直徑。

進(jìn)一步的，當(dāng)支撐板靠近待清潔掩膜版的一側(cè)設(shè)置有與掩膜版清潔裝置放入清潔工位的方向平行的軌道時，輔助運動件包括設(shè)置在第二面板靠近支撐板一側(cè)的與軌道位置對應(yīng)的滑塊；或者，當(dāng)支撐板靠近待清潔掩膜版的一側(cè)設(shè)置有滑塊時，輔助運動件包括設(shè)置在第二面板靠近支撐板一側(cè)的與滑塊位置對應(yīng)的軌道，軌道的方向與掩膜版清潔裝置放入清潔工位的方向平行。

本發(fā)明提供一種掩膜版清潔裝置，用于對待清潔掩膜版以及放置待清潔掩膜版的支撐板進(jìn)行清潔，包括相對設(shè)置的第一面板和第二面板，第一面板與第二面板之間具有間隙，用于將待清潔掩膜版設(shè)置于第一面板與第二面板之間，且將第二面板設(shè)置于清潔掩膜版與支撐板之間進(jìn)行清潔操作；在第一面板靠近第二面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；至少在第二面板背離第一面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；在掩膜版清潔裝置上還設(shè)置有與出氣口相連接的氣源。清潔操作時，待清潔的掩膜版位于第一面板下方，第一面板靠近第二面板的一側(cè)設(shè)置的多個出氣口向待清潔的掩膜版的上表面吹送氣體以去除待清潔的掩膜版的上表面的灰塵或微粒。同時，支撐板位于第二面板的下方，在第二面板背離第一面板的一側(cè)設(shè)置的多個出氣口向支撐板的上表面吹送氣體，以去除支撐板的上表面的灰塵或微粒，提高掩膜版的表面清潔度，提升掩膜版的品質(zhì)，提高制作的基板的良品率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明提供的一種掩膜版的存放狀態(tài)圖；

圖2為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置在第二面板的上表面也設(shè)置有出氣口的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置設(shè)置有限位部的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置設(shè)置有固定部的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置設(shè)置有輔助運動件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置的輔助運動件為滑塊的俯視圖；

圖8為本發(fā)明提供的一種掩膜版清潔裝置的俯視圖；

圖9為圖8中第二面板的仰視圖；

圖10為本發(fā)明提供的另一種掩膜版清潔裝置的俯視圖；

圖11為圖10中第二面板的仰視圖。

附圖標(biāo)記：

01-掩膜版；011-透明基板；012-掩膜圖案；013-透明薄膜層；02-支撐板；03-支撐架；04蓋板；11-第一面板；12-第二面板；13-氣源；131-第一控制閥；132-第二控制閥；14-限位部；15-固定部；16-輔助運動件；161-滾動件；1611-滾動軸；1612-滾柱；1613-安裝槽；1614-滾珠；162-軌道；163-滑塊；a-第一面板與第二面板之間的間隙；b-出氣口；L-兩側(cè)支撐架的間距；W-第二面板的寬度。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實施例提供一種掩膜版清潔裝置，如圖2所示，用于對待清潔的掩膜版01以及放置掩膜版01的支撐板02進(jìn)行清潔，包括相對設(shè)置的第一面板11和第二面板12，第一面板11與第二面板12之間具有間隙a，使用本發(fā)明的掩膜版清潔裝置對待清潔的掩膜版01以及放置掩膜版01的支撐板02進(jìn)行清潔操作之前，首先將掩膜版清潔裝置沿待清潔的掩膜版01的一側(cè)緩慢插入，將待清潔的掩膜版01設(shè)置于第一面板11與第二面板12之間，且將第二面板12設(shè)置于待清潔的掩膜版01與支撐板02之間，然后進(jìn)行清潔操作；在第一面板11靠近第二面板12的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口b；至少在第二面板12背離第一面板11的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口b；在掩膜版清潔裝置上還設(shè)置有與出氣口b相連接的氣源13。

需要說明的是，第一，第一面板11與第二面板12之間具有的間隙a，用于本發(fā)明的掩膜版清潔裝置在清潔工位時，第一面板11位于待清潔的掩膜版01的上表面之上，與待清潔的掩膜版01的上表面保持一定的距離，同時，第二面板12插入待清潔的掩膜版01和支撐板02之間且第二面板12的上表面和下表面分別與待清潔的掩膜版01下表面以及支撐板02的上表面之間保持一定的距離，以使得第一面板和第二面板12上設(shè)置的多個出氣口b與待清潔位置之間具有能夠保證氣體流動的空間。使第一面板11與第二面板12之間保持間隙a的距離，至少可以通過以下兩種方式實現(xiàn)。例如，如圖2所示，通過連接件將第一面板11與第二面板12相連接，或者，如圖4所示，也可以是第一面板11與第二面板12為連為一體的U型結(jié)構(gòu)。

第二，至少在第二面板12背離第一面板11的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口b指的是，可以為如圖2所示，僅在第二面板12背離第一面板11的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口b，用于向支撐板02吹送氣體，此外，還包括在第二面板12背離第一面板11的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口b的同時，在第二面板12的其他側(cè)面也設(shè)置有出氣口b，例如，如圖3所示，在第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)也設(shè)置有多個出氣口b，能夠在第二面板12背離第一面板11的一側(cè)的多個出氣口b向支撐板02上表面吹送氣體除塵的同時，向掩膜版01的下表面吹送氣體除塵，以提高清潔效率，又例如，在第二面板12的左、右側(cè)面設(shè)置有多個出氣口b，用于向外吹送氣體，以引導(dǎo)第二面板12靠近第一面板11以及背離第一面板11的側(cè)面上的出氣口b吹出的氣體向第二面板12以外的區(qū)域流動，避免由于氣流渦旋的作用，將吹起的灰塵或微粒再次落入掩膜版01和支撐板02的表面。

此外，在掩膜版清潔裝置上還設(shè)置有與出氣口b相連接的氣源13，本發(fā)明中對于氣源13的設(shè)置位置和數(shù)量不做具體限制，氣源13可以設(shè)置為一個，如圖2所示，通過管道分別向第一面板11的多個出氣口b和第二面板12的多個出氣口b輸送氣體，也可以為第一面板11和第二面板12分別與氣源13連接。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”、“左”、“右”“水平”等指示的方位或位置關(guān)系為基于掩膜版01在支撐板02上放置的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

本發(fā)明提供一種掩膜版清潔裝置，用于對待清潔掩膜版以及放置待清潔掩膜版的支撐板進(jìn)行清潔，包括相對設(shè)置的第一面板和第二面板，第一面板與第二面板之間具有間隙，用于將待清潔掩膜版設(shè)置于第一面板與第二面板之間，且將第二面板設(shè)置于清潔掩膜版與支撐板之間進(jìn)行清潔操作；在第一面板靠近第二面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；至少在第二面板背離第一面板的一側(cè)設(shè)置有多個出氣口；在掩膜版清潔裝置上還設(shè)置有與出氣口相連接的氣源。清潔操作時，待清潔的掩膜版位于第一面板下方，第一面板靠近第二面板的一側(cè)設(shè)置的多個出氣口向待清潔的掩膜版的上表面吹送氣體以去除待清潔的掩膜版的上表面的灰塵或微粒。同時，支撐板位于第二面板的下方，在第二面板背離第一面板的一側(cè)設(shè)置的多個出氣口向支撐板的上表面吹送氣體，以去除支撐板的上表面的灰塵或微粒，提高掩膜版的表面清潔度，提升掩膜版的品質(zhì)，提高制作的基板的良品率。

隨著顯示技術(shù)領(lǐng)域的不斷發(fā)展，顯示面板根據(jù)不同的客戶需求也越來越多樣化，對于PPI(Pixels Per Inch,每英寸內(nèi)擁有的像素數(shù)目)較高的顯示面板的制作，就需要使用構(gòu)圖圖案為納米級的精細(xì)掩膜版。對于此類構(gòu)圖圖案精細(xì)的掩膜版01，如圖2所示，其構(gòu)圖圖案形成于掩膜圖案012上，為了保護(hù)掩膜圖案012，通常將掩膜圖案012貼附于透明基板011的下表面，避免灰塵或微粒從上方掉落入掩膜圖案012內(nèi)部，而且由于透明基板011通常為具有一定厚度的硬質(zhì)板，能夠有效的保護(hù)掩膜圖案012的上表面不受到碰撞或因外力造成損傷，為了保護(hù)掩膜圖案012的下表面，避免與空氣接觸發(fā)生氧化或造成腐蝕損害，在貼附后的掩膜圖案012下表面貼附透明薄膜層013，透明薄膜層013同時也能夠防止灰塵或微粒由掩膜圖案012的下表面掉落入掩膜圖案012內(nèi)部。

將本發(fā)明的在第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)以及背離第一面板11的一側(cè)均設(shè)置有多個出氣孔b的結(jié)構(gòu)應(yīng)用于對構(gòu)圖圖案精細(xì)的掩膜版01進(jìn)行清潔工作時，由于設(shè)置于掩膜圖案012下表面上的透明薄膜層013的層厚較薄，通過第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)設(shè)置的出氣口b向精細(xì)的掩膜版01下表面吹氣的氣流速度較大，可能會將透明薄膜層013吹破，從而導(dǎo)致掩膜圖案012的下表面直接與外界空氣接觸，造成掩膜圖案012腐蝕或使灰塵或微粒進(jìn)入掩膜圖案012內(nèi)部，導(dǎo)致掩膜版01污染無法使用；或者由于其流的作用使掩膜圖案012在透明基板011上發(fā)生位置的移動甚至脫落。

當(dāng)使用上述在第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)以及背離第一面板11的一側(cè)均設(shè)置有多個出氣口的掩膜版清潔裝置結(jié)構(gòu)對精細(xì)化的掩膜版01進(jìn)行清潔操作時，優(yōu)選的，如圖3所示，第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)的多個出氣口b的進(jìn)氣位置處設(shè)置有第一控制閥131，控制由第二面板12靠近第一面板11的一側(cè)也設(shè)置有多個出氣口b輸出氣體的流速；第二面板12背離第一面板11的一側(cè)的多個出氣口b的進(jìn)氣位置處設(shè)置有第二控制閥132，控制由第二面板12背離第一面板11的一側(cè)的多個出氣口b輸出氣體的流速。

這樣一來，如圖3所示，當(dāng)?shù)诙姘?2靠近第一面板11的一側(cè)也設(shè)置有多個出氣口b時，能夠通過第一控制閥131單獨控制吹向掩膜版01下表面的氣流流速，將向掩膜版01下表面吹送的氣流流速調(diào)整的較小，避免吹破設(shè)置于掩膜圖案012下表面上的透明薄膜層013，或者使掩膜圖案012在氣流的吹動下在透明基板01上出現(xiàn)位置的移動偏移甚至因貼附不牢固而掉落。第二控制閥132設(shè)置為正常的能夠吹除灰塵或微粒的氣流速度，一方面對掩膜版01以及支撐板02進(jìn)行清潔，另一方面也能夠避免氣流過大時，由于氣流的渦旋作用使得氣流向上翻卷，對掩膜版01下表面的用于保護(hù)掩膜圖案012的透明薄膜層013造成破損。此外，向第一面板11靠近第二面板12一側(cè)設(shè)置的多個出氣口b的進(jìn)氣位置處也可以設(shè)置相應(yīng)的控制閥(圖中未示出)，且圖中氣源13未示出，設(shè)置于三個不同表面的多個出氣口b可以共用一個氣源13，也可以分別單獨連接氣源13，此處不做具體限定。

進(jìn)一步的，本發(fā)明中所述的第一面板11以及第二面板12上的多個出氣口b均為均勻分布，例如，可以為如圖9所示的呈矩陣形式分布，以提高本發(fā)明的掩膜版清潔裝置向掩膜版01以及支撐板02的表面吹送氣體的均勻性，提高灰塵或微粒的去除效果，本發(fā)明中出氣口b的形狀不做具體限定，可以為如圖9所示的圓形，也可以為其他形狀。

進(jìn)一步的，如圖4所示，本發(fā)明的掩膜版清潔裝置還包括限位部14，限位部14為條狀，限位部14的固定端固定連接在掩膜版清潔裝置上，限位端設(shè)置在第二面板12靠近支撐板02的一側(cè)，用于在的掩膜版清潔裝置放入清潔工位后與支撐板02側(cè)面相抵靠。

需要說明的是，設(shè)置限位部14用于在掩膜版清潔裝置放入清潔工位時，對掩膜版清潔裝置的放入位置進(jìn)行限定，避免放入位置過于深入而導(dǎo)致第一面板11和第二面板12的連接位置與掩膜版01發(fā)生碰撞，導(dǎo)致掩膜版01損壞。

如圖4所示，限位部14的固定端可以設(shè)置在第二面板12的下表面上，或者也可以設(shè)置在第一面板11和第二面板12的連接位置，此處不做具體限定，限位部14的限位端向下伸出，伸出的長度至少保證超出支撐板02上表面以下。這樣一來，在掩膜版清潔裝置向清潔工位內(nèi)放入時，限位部14也逐漸向支撐板02的側(cè)面靠近，直至移動到限位部14與支撐板02的側(cè)面相抵靠的位置，即達(dá)到預(yù)定的清潔工位，此時掩膜版清潔裝置受到限位部14與支撐板02相抵的力不能再繼續(xù)向前移動，避免放入位置過深而于掩膜版01發(fā)生碰撞。

如圖4所示，由于第一面板11下表面上的多個出氣口b以及第二面板12下表面上的多個出氣口b均為向下吹送氣體(如圖4中箭頭所示的方向)，出氣口b吹出的氣體沖擊在掩膜版01上表面和支撐板02的上表面并向后反射，氣流反射的作用力會推動第一面板11和第二面板12向上移動，由于掩膜版01與支撐板02之間的間距較小，第二面板12向上移動的范圍稍大就可能會碰撞損壞掩膜版01下表面的掩膜圖案012。

在此基礎(chǔ)上，進(jìn)一步的，如圖5所示，本發(fā)明的掩膜版清潔裝置還包括固定部15，固定部15與限位部14的限位端相連且與限位部14相互垂直，固定部15的上表面與支撐板02的下表面位于同一水平面上，固定部15用于在的掩膜版清潔裝置放入清潔工位后與支撐板02的下表面卡接固定。

由于掩膜版01以及放置掩膜版01的支撐板02在使用前放置在如圖5所示的人工叉車上并由人工叉車推送至工作位置，當(dāng)需要使用本發(fā)明的掩膜版清潔裝置進(jìn)行清潔時，將叉車底部的滾輪剎住，并將掩膜版清潔裝置放入清潔工位進(jìn)行清潔操作即可，由于支撐板02設(shè)置在叉車上，支撐板02與地面之間有一定的距離空間，因此能夠?qū)崿F(xiàn)將固定部15放入支撐板02下表面并與支撐板02的下表面卡接固定。

這樣一來，在掩膜版清潔裝置向清潔工位內(nèi)放入時，設(shè)置在限位部14限位端上的固定部15即逐漸伸入支撐板02的下表面并與支撐板02的下表面卡接。在掩膜版清潔裝置對掩膜版01和支撐板02進(jìn)行清潔時，由于固定部15與支撐板02的下表面卡接固定，使得第一面板11和第二面板12的位置固定，氣流反射的作用力無法推動第二面板12向上移動，對掩膜版02下表面的掩膜圖案012起到保護(hù)的作用。

此外，由于固定部15需要承受氣流反射推動第一面板11和第二面板12向上移動的力，因此，根據(jù)氣流反射推動力的大小，固定部15可以為條狀或板狀，固定部15伸入支撐板02下表面的距離也可以根據(jù)氣流反射推動力的大小具體設(shè)置，若氣流流速較大，氣流反射推動力也較大，則將固定部15設(shè)置為板狀，且伸入支撐板02下表面的距離設(shè)置的較長，以保證固定的穩(wěn)定性。

為了節(jié)省成本，優(yōu)選的，如圖6所示，限位部14和固定部15為一體結(jié)構(gòu)。

此外，固定部15也可以單獨設(shè)置在掩膜版清潔裝置的其他側(cè)面，不設(shè)置在限位部14的限位端之下，本發(fā)明對此不做具體限定。

在將本發(fā)明的掩膜版清潔裝置放入清潔工位時，若直接將第二面板12插入掩膜版01和支撐板02之間，由于掩膜版01和支撐板02之間的空隙較小，人工很難控制插入的平穩(wěn)性，插入時稍有不慎極可能碰撞到掩膜版01下表面的掩膜圖案012，而將第二面板12放置在支撐板02上逐漸推入清潔工位，能夠避免碰撞掩膜圖案012，但是第二面板12的下表面與支撐板02的上表面之間摩擦阻力較大，反復(fù)使用會增加第二面板12和支撐板02的表面磨損。

為了解決上述問題優(yōu)選的，如圖6所示，第二面板12靠近支撐板02的一面設(shè)置有輔助運動件16，輔助運動件16用于在將掩膜版清潔裝置放入清潔工位時，減小第二面板12與支撐板02之間相對移動的摩擦阻力。

以下對輔助運動件16的形狀、設(shè)置位置以及工作過程進(jìn)行具體的說明。

例如，如圖7所示(圖7為本發(fā)明的掩膜版清潔裝置的俯視圖，其中，為了便于顯示清楚，第一面板11和掩膜版01未示出)，當(dāng)支撐板02靠近待清潔的掩膜版01的一側(cè)設(shè)置有與掩膜版清潔裝置放入清潔工位的方向平行的軌道162時，輔助運動件16包括設(shè)置在第二面板12靠近支撐板02一側(cè)的與軌道162位置對應(yīng)的滑塊163。

這樣一來，如圖7所示，設(shè)置在第二面板12靠近支撐板02一側(cè)的滑塊163放入掩膜版01對應(yīng)位置的軌道162，當(dāng)掩膜版清潔裝置沿圖中箭頭所示的方向放入清潔工位時，滑塊163在軌道162內(nèi)滑動，減小了第二面板12與支撐板02之間相對移動的摩擦阻力。

或者，當(dāng)支撐板02靠近待清潔的掩膜版01的一側(cè)設(shè)置有滑塊163時，輔助運動件16包括設(shè)置在第二面板12靠近支撐板02一側(cè)的與滑塊163位置對應(yīng)的軌道162，軌道162的方向與掩膜版清潔裝置放入清潔工位的方向平行。

以上已經(jīng)對滑塊163與軌道162之間的相對移動方式做了具體的介紹，此處不再贅述。

其中，軌道162以及與軌道162對應(yīng)的滑塊163的設(shè)置數(shù)量在本發(fā)明中不做具體限制，至少為如圖7中所示的兩組，能夠支撐第二面板12的穩(wěn)定移動即可。

又例如，如圖6所示，輔助運動件16為多個滾動件161。

這樣一來，將第二面板12放置在支撐板02上后，將掩膜版清潔裝置逐漸推入清潔工位的過程中，多個滾動件161在支撐板02上滾動，將滑動摩擦轉(zhuǎn)變?yōu)闈L動摩擦，減小了第二面板12與支撐板02之間相對移動的摩擦阻力，降低了第二面板12和支撐板02的表面磨損損耗。

本發(fā)明中對于第一面板11和第二面板12與掩膜版01之間的尺寸關(guān)系未作限定，以下通過具體舉例對掩膜版清潔裝置的清潔工作方式進(jìn)行說明。

例如，本示例中為第二面板12的尺寸略小于支撐板02上的兩支撐架03間距，第一面板11與掩膜版01尺寸相同。

如圖8所示(圖8為本發(fā)明的掩膜版清潔裝置的俯視圖，其中，為了便于顯示清楚，第一面板11未示出)，本示例中的，第二面板12的寬度W為小于兩支撐架03間距L的盡可能大的尺寸，使得能夠第二面板12放入兩支撐架03之間并移動至清潔工位即可，第一面板11(圖中未示出)的寬度與掩膜版01的寬度相同。

由于第一面板11與掩膜版01大小相同，第二面板12的寬度也為能夠放入兩支撐架03之間的最大寬度，因此，當(dāng)本示例的掩膜版清潔裝置放入清潔工位后即可不再移動，第一面板11下表面的多個出氣口b能夠?qū)φ麄€掩膜版01的上表面均勻吹送氣體，去除整個掩膜版01的上表面的灰塵或微粒。因為通常支撐架03均為沿掩膜版01的邊緣放置對掩膜版01提供支撐，所以第二面板12下表面的多個出氣口b吹出的氣流也可以認(rèn)為能夠覆蓋整個支撐板02的上表面，以去除整個支撐板02的上表面的灰塵或微粒。

在出氣口b吹出氣體對掩膜版01及支撐板02進(jìn)行清潔的過程中，在掩膜版01周圍會產(chǎn)生氣流流動，第一面板11與掩膜版01大小相同還能夠?qū)η鍧嵾^程中的掩膜版01上表面起到保護(hù)作用，避免由于氣流流動將周邊空氣中的灰塵或微粒掉落至掩膜版01的上表面，導(dǎo)致掩膜版01表面的二次污染。

如圖9所示(圖9為圖8中第二面板12的仰視圖)，位于第二面板12靠近支撐板02的一面的滾動件161包括滾動軸1611以及穿插在滾動軸1611上的滾柱1612，滾動軸1611的中心線與第二面板12的下表面平行且與第二面板12放入清潔工位的運動方向(如圖7中箭頭所示的方向)垂直。

這樣一來，在將掩膜版清潔裝置放入清潔工位的過程中，首先將第二面板12放入兩支撐架03之間，并調(diào)整第二面板12的運動方向與裝置放入清潔工位的運動方向相同。然后推動掩膜版清潔裝置向清潔工位內(nèi)移動，滾柱1612在滾動軸1611上滑動，滾柱1612與支撐板02之間為滾動摩擦。

清潔完成后，將本示例的掩膜版清潔裝置沿放入清潔工位的反方向退出，迅速蓋合蓋板04，將掩膜版01密封入支撐板02與蓋板04組成的封閉盒體內(nèi)，避免再次污染。

又例如，本示例中為第二面板12的寬度為掩膜版01寬度的1/5～1/4，第一面板11與第二面板12尺寸相同。

如圖10所示(圖10為本發(fā)明的掩膜版清潔裝置的俯視圖，其中，為了便于顯示清楚，第一面板11和掩膜版01未示出)，本示例中的，第一面板11(圖中未示出)與第二面板12的大小相同，第一面板11的寬度W約為掩膜版01寬度的1/5～1/4，這樣一來，能夠方便的將第二面板12放入掩膜版01與支撐板02之間，然后推動掩膜版清潔裝置向內(nèi)移動至清潔工位的位置。

由于第一面板11與第二面板12的寬度W僅為掩膜版01寬度的1/5～1/4，在向掩膜版01和支撐板02表面吹送氣流清除灰塵和微粒時，不能覆蓋整個掩膜版01和支撐板02表面。因此，當(dāng)本示例的掩膜版清潔裝置在清潔工位進(jìn)行清潔操作時，需要推動第一面板11與第二面板12沿寬度方向水平往復(fù)移動，以循環(huán)的對整個掩膜版01和支撐板02表面的灰塵和微粒進(jìn)行吹除。

此外，本示例的掩膜版清潔裝置由于第一面板11與第二面板12的寬度較小，節(jié)省了材料成本，且裝置自身重量減輕，使用時移動方便。

對于本示例的掩膜版清潔裝置，由于在清潔操作時需要第一面板11與第二面板12沿寬度方向水平往復(fù)移動，因此，如圖11所示(圖11為圖10中第二面板12的仰視圖)，本示例中設(shè)置在第二面板12下表面的滾動件161包括安裝槽1613和設(shè)置在安裝槽1613內(nèi)的滾珠1614，安裝槽1613的開口尺寸小于滾珠1614的直徑。

這樣一來，由于滾珠1614在安裝槽1613內(nèi)能夠沿任意方向滾動，在將掩膜版清潔裝置放入清潔工位的過程中，滾珠1614在安裝槽1613內(nèi)沿裝置放入清潔工位的運動方向滾動。在清潔工位對掩膜版01及支撐板02進(jìn)行清潔操作時，推動裝置沿第一面板11與第二面板12的寬度方向水平往復(fù)移動。安裝槽1613的開口尺寸小于滾珠1614的直徑，能夠保證滾珠1614始終在安裝槽1613內(nèi)滾動，不會脫出。

由于本示例的掩膜版清潔裝置中的其他連接關(guān)系及工作方式在上一示例中已經(jīng)進(jìn)行了詳細(xì)的描述，此處不再贅述。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。