技術(shù)特征：

1.一種抗蝕劑剝離液組合物，其包含乙醇胺、下述化學(xué)式1所表示的酰胺和在苯環(huán)具有兩個以上取代基的苯并三唑系防腐蝕劑：

化學(xué)式1

式中，R₁和R₂各自獨立地為甲基或乙基。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液組合物，其中，所述化學(xué)式1所表示的酰胺是選自由下述化學(xué)式2～4組成的組中的一種以上的化合物：

化學(xué)式2

化學(xué)式3

化學(xué)式4

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液組合物，其中，所述防腐蝕劑為下述化學(xué)式5所表示的化合物：

化學(xué)式5

式中，R₁和R₂各自獨立地為鹵素原子、甲基、-NH₂、-NHCOR₃、-OH、-OR₄、-COOR₅、-CONHR₆，R₃～R₆各自獨立地為碳原子數(shù)1～12的烷基。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液組合物，其中，所述防腐蝕劑為選自由下述化學(xué)式6～10所表示的化合物組成的組中的一種以上：

化學(xué)式6

化學(xué)式7

化學(xué)式8

化學(xué)式9

化學(xué)式10

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑剝離液組合物，其進一步包含二元醇系溶劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的抗蝕劑剝離液組合物，其包含乙醇胺0.1～10重量％、在苯環(huán)具有兩個以上取代基的苯并三唑系防腐蝕劑0.01～5重量％、以及化學(xué)式1所表示的酰胺和二元醇系溶劑合計85～99重量％。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的抗蝕劑剝離液組合物，其包含乙醇胺0.1～10重量％、在苯環(huán)具有兩個以上取代基的苯并三唑系防腐蝕劑0.01～5重量％、化學(xué)式1所表示的酰胺15～60重量％和二元醇系溶劑25～75重量％。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項所述的抗蝕劑剝離液組合物，其用于剝離形成有金屬配線的基板的抗蝕劑，所述金屬配線包含選自由鋁、銅和鉬組成的組中的金屬。

9.一種抗蝕劑的剝離方法，其中，用權(quán)利要求1～7中任一項所述的剝離液組合物對蒸鍍有導(dǎo)電性金屬膜的基板的蝕刻工序后殘留的抗蝕劑進行剝離。

10.一種圖像顯示裝置的制造方法，其包括權(quán)利要求9所述的抗蝕劑剝離步驟。