本發(fā)明涉及顯示器制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種曝光方法。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代CRT顯示器，廣泛的應(yīng)用于液晶電視、手機、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

通常液晶顯示面板由彩膜基板(CF，Color Filter)、薄膜晶體管基板(TFT，Thin Film Transistor)、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封膠框(Sealant)組成，其成型工藝一般包括：前段陣列(Array)制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板與CF基板貼合)及后段模組組裝制程(驅(qū)動IC與印刷電路板壓合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的運動；中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶；后段模組組裝制程主要是驅(qū)動IC壓合與印刷電路板的整合，進而驅(qū)動液晶分子轉(zhuǎn)動，顯示圖像。

在液晶顯示器的Array制程等平板顯示器的制程過程中，經(jīng)常會用到曝光制程。通常曝光制程的具體過程為，先在涂有光刻膠的基板上方放置光罩，然后利用曝光機對基板進行曝光，具體的，曝光機通過開啟超高壓水銀燈發(fā)出UV紫外光線，將光罩上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的基板表面上，基于光罩的圖案，光刻膠會有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用顯影液對光刻膠進行顯影，即可去除光刻膠被曝光的部分，保留光刻膠未被曝光的部分，或者去除光刻膠未被曝光的部分，保留光刻膠被曝光的部分，從而使光刻膠形成所需的圖形。

隨著光罩尺寸變大，光罩形變量也不斷增大，曝光制程的位置精度控制的難度也越來越大，尤其是對于光罩在高溫狀態(tài)下產(chǎn)生的形變沒有進行修復(fù)，導(dǎo)致曝光后產(chǎn)品的重合精度(Overlay，OVL)不達標，進而導(dǎo)致產(chǎn)品報廢。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光方法，能夠補正光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變，提升曝光效果，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種曝光方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一具有鏡頭的曝光機、一光罩、以及一待曝光的基板，所述光罩上設(shè)有第一對位標記，所述基板上設(shè)有對應(yīng)所述第一對位標記的第二對位標記；

步驟2、將所述光罩及基板放置到曝光機上并進行對位，通過曝光機的鏡頭測量基板上的第二對位標記與光罩上的第一對位標記的重合精度，根據(jù)重合精度判斷光罩是否發(fā)生形變，若重合精度不合格，則繼續(xù)進行步驟3，若重合精度合格，則直接進行步驟4；

步驟3、測量光罩的當(dāng)前溫度值，并計算光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值，并輸入曝光機，曝光機根據(jù)光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值來驅(qū)動鏡頭對光罩的形變進行補正；

補正時，在以光罩的中心點為原點的直角坐標系內(nèi)，首先根據(jù)光罩的各個點的原始坐標值計算得出各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量，再根據(jù)各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量驅(qū)動鏡頭以補正光罩的形變，所述各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量的計算公式為：

x’＝x/2×a×t；

y’＝y(tǒng)/2×a×t；

其中，x為光罩上的一點的預(yù)存在曝光機內(nèi)的原始坐標值的橫坐標值，y為光罩上的一點的預(yù)存在曝光機內(nèi)的原始坐標值的縱坐標值，x’為該點在當(dāng)前溫度下的沿x軸的偏移量，y’為該點在當(dāng)前溫度下的沿y軸的偏移量，a為光罩的熱膨脹系數(shù)，t為當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值；

步驟4、利用曝光機及光罩對所述基板進行曝光。

所述第一對位標記與第二對位標記均為十字形。

所述光罩的形狀為矩形。

所述光罩的長為945mm，寬為800mm。

所述光罩的熱膨脹系數(shù)為0.6×10^-6/℃。

所述步驟3中通過溫度傳感器測量所述光罩的當(dāng)前溫度值。

所述基板的形狀為矩形。

所述基板的長為1850mm，寬為1500mm。

所述預(yù)設(shè)的標準溫度值為23℃。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供了一種曝光方法，其通過測量光罩的當(dāng)前溫度值，并計算光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值，之后根據(jù)光罩形變量與光罩溫度變化的關(guān)系，利用光罩當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的溫度標準值的差值計算出光罩上各點的原始坐標值的偏移量，再根據(jù)光罩上各點的原始坐標值的偏移量驅(qū)動曝光機的鏡頭對光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變進行補正，能夠提升曝光效果，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

附圖說明

為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖中，

圖1為本發(fā)明的曝光方法的流程圖；

圖2為本發(fā)明的曝光方法中光罩的形變示意圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

請參閱圖1，本發(fā)明提供一種曝光方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一具有鏡頭的曝光機、一光罩、以及一待曝光的基板，所述光罩上設(shè)有第一對位標記，所述基板上設(shè)有對應(yīng)所述第一對位標記的第二對位標記。

優(yōu)選地，所述光罩的形狀為矩形，尺寸為長945mm，寬800mm，所述基板為玻璃基板，形狀為矩形，尺寸為長1850mm，寬1500mm。

具體地，所述第一對位標記與第二對位標記均為十字形。

步驟2、將所述光罩及基板放置到曝光機上并進行對位，通過曝光機的鏡頭測量基板上的第二對位標記與光罩上的第一對位標記的重合精度，根據(jù)重合精度判斷光罩是否發(fā)生形變，若重合精度不合格，則繼續(xù)進行步驟3，若重合精度合格，則直接進行步驟4。

步驟3、測量光罩的當(dāng)前溫度值，并計算光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值，并輸入曝光機，曝光機根據(jù)光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值來驅(qū)動鏡頭對光罩的形變進行補正；

補正時，在以光罩的中心點為原點的直角坐標系內(nèi)，首先根據(jù)光罩的各個點的原始坐標值計算得出各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量，再根據(jù)各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量驅(qū)動鏡頭以補正光罩的形變，所述各個點在當(dāng)前溫度下沿x軸和y軸的偏移量的計算公式為：

x’＝x/2×a×t；

y’＝y(tǒng)/2×a×t；

其中，x為光罩上的一點的預(yù)存在曝光機內(nèi)的原始坐標值的橫坐標值，y為光罩上的一點的預(yù)存在曝光機內(nèi)的原始坐標值的縱坐標值，x’為該點在當(dāng)前溫度下的沿x軸的偏移量，y’為該點在當(dāng)前溫度下的沿y軸的偏移量，a為光罩的熱膨脹系數(shù)，t為當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值。

具體地，所述步驟3中通過溫度傳感器測量所述光罩的當(dāng)前溫度值，所述預(yù)設(shè)的標準溫度值即為光罩不產(chǎn)生形變的溫度值，優(yōu)選地，所述預(yù)設(shè)的標準溫度值為23℃。

舉例說明，請參閱圖2，若所述光罩的熱膨脹系數(shù)a為0.6×10^-6/℃，光罩上一點的原始坐標為(200，100)，則該點在溫度提升1℃(即t等于1℃)后，其根據(jù)上述公式計算出的該點在當(dāng)前溫度下的沿x軸的偏移量為0.00006，該點在當(dāng)前溫度下的沿y軸的偏移量為0.00003，并據(jù)此驅(qū)動鏡頭，對光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變進行補正。

進一步地，曝光機的鏡頭的驅(qū)動方式包括：在XY方向偏移(Shift-XY)、圖形放大(Scaling)、正交化(Orthogonalith)、及旋轉(zhuǎn)(Rotation)，能夠?qū)ζ毓鈭D案局部進行調(diào)整，進而對光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變進行補正。

可以理解的是，光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值可以是正值也可以負值，若當(dāng)前溫度值溫度相對于標準溫度值上升，則所述光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值為正值，若當(dāng)前溫度值溫度相對于標準溫度值下降，則所述光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值為負值。

步驟4、利用曝光機及光罩對所述基板進行曝光。

值得一提的是，通過建立光罩形變量與光罩溫度變化的模型，再根據(jù)此模型補正光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變，進而提升曝光效果，操作時，只需要通過傳感器測量出光罩的當(dāng)前溫度值，再計算出光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值，并將差值輸入曝光機，曝光機即可自動補正光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變。

綜上所述，本發(fā)明提供了一種曝光方法，其通過測量光罩的當(dāng)前溫度值，并計算光罩的當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的標準溫度值的差值，之后根據(jù)光罩形變量與光罩溫度變化的關(guān)系，利用光罩當(dāng)前溫度值與預(yù)設(shè)的溫度標準值的差值計算出光罩上各點的原始坐標值的偏移量，再根據(jù)光罩上各點的原始坐標值的偏移量驅(qū)動曝光機的鏡頭對光罩因溫度變化而產(chǎn)生的形變進行補正，能夠提升曝光效果，保證產(chǎn)品質(zhì)量。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。