本發(fā)明屬于光刻
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體涉及一種曝光基臺及其制備方法、曝光機(jī)。
背景技術(shù)：
：光刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于TFT-LCD及LED電子顯示行業(yè)，隨著科技發(fā)展，大尺寸玻璃基板對光刻技術(shù)要求越來越高。其中，曝光基臺的平整度及合理設(shè)計至關(guān)重要，關(guān)系到顯示裝置成品畫質(zhì)的優(yōu)劣。現(xiàn)有曝光機(jī)基臺表面一般進(jìn)行了陽極氧化處理(Anodizing)，其表面形成有用于分區(qū)的多個支撐部(或稱浮雕)，浮雕的作用是：玻璃基板在基臺上受到的吸附力分區(qū)控制，以使玻璃基板受力均勻；保證其平坦度，以減少玻璃基板變形；同時也減小了玻璃基板與基臺之間的接觸面積，避免二者接觸面積過大在接觸處形成真空區(qū)而導(dǎo)致玻璃基板難搬用等問題。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問題：如圖1所示，現(xiàn)有的基臺本體1為金屬材質(zhì)，光滑的金屬表面有一層反光層2，反光層2上的浮雕圖案3與平坦的反光層2的反光效果迥異，導(dǎo)致曝光后，浮雕圖案3在經(jīng)過曝光工藝后，常常會導(dǎo)致在基板4的光刻膠5上形成相應(yīng)的色差圖案(Stagemura)，特別是基臺表面磨損后，基臺平整度產(chǎn)生差異，色差圖案將更加嚴(yán)重(色差產(chǎn)生原理如圖1所示)。色差圖案不良常常導(dǎo)致顯示產(chǎn)品畫面品質(zhì)差，良率偏低，特別是大尺寸產(chǎn)品不良現(xiàn)象更加明顯，且此不良難以從工藝條件方面改善克服。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明針對現(xiàn)有的曝光基臺的浮雕圖案會在玻璃基板的光刻膠形成色差圖案，導(dǎo)致顯示產(chǎn)品畫面品質(zhì)差，良率低的問題，提供一種曝光基臺及其制備方法、曝光機(jī)。解決本發(fā)明技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種曝光基臺，包括：基臺本體；設(shè)于所述基臺本體上第一膜層；設(shè)于所述第一膜層上的多個支撐部，用于與基板接觸并支撐基板；其中，所述第一膜層和支撐部均由低反射率材料構(gòu)成。優(yōu)選的是，所述低反射率材料的反射率為5％-40％。更優(yōu)選的，所述低反射率材料的反射率為5％-8％。優(yōu)選的是，所述第一膜層由吸光樹脂材料構(gòu)成，所述支撐部為透明樹脂材料。優(yōu)選的是，所述第一膜層吸光率為75％-91％。優(yōu)選的是，所述第一膜層的厚度為4-7μm。優(yōu)選的是，在垂直于所述第一膜層的方向上所述支撐部的尺寸為10-12μm。優(yōu)選的是，所述第一膜層的原料包括：聚酰亞胺預(yù)聚物、環(huán)氧樹脂，溶劑，以及紫外光吸收劑。優(yōu)選的是，所述聚酰亞胺預(yù)聚物的分子量為800-1200，所述環(huán)氧樹脂的環(huán)氧值為0.41-0.54eq/100g，所述聚酰亞胺預(yù)聚物、環(huán)氧樹脂、紫外光吸收劑(或稱抗紫外劑)、溶劑的質(zhì)量比為(13-18):(2-3)(0.5-1.5):(75-80)。優(yōu)選的是，所述紫外光吸收劑包括單苯甲酸間苯二酚酯、鄰羥基苯甲酸苯酯、2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三氮唑、2，4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮中的任意一種或幾種。優(yōu)選的是，所述第一膜層的原料還包括表面活性劑、抗老化劑、耐磨劑、溶劑中的任意一種或幾種。優(yōu)選的是，所述聚酰亞胺預(yù)聚物、表面活性劑、抗老化劑、耐磨劑的質(zhì)量比為(13-18):(0.05-1):(0.04-0.05):(1-2)。優(yōu)選的是，所述抗老化劑包括亞磷酸酯、(1，2，2，6，6-五甲哌啶基)亞磷酸酯、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶中的任意一種或幾種。優(yōu)選的是，所述第一膜層的原料的粘度為2.1-2.5mPa.s。優(yōu)選的是，所述支撐部的原料包括：聚酰亞胺預(yù)聚物、氨基甲酸酯，以及引發(fā)劑。優(yōu)選的是，所述聚酰亞胺預(yù)聚物、氨基甲酸酯，以及引發(fā)劑的質(zhì)量比為(13-18):(2-3):(0.1-0.15)。本發(fā)明還提供一種曝光基臺的制備方法，包括：在基臺本體上形成第一膜層的步驟；在所述第一膜層上形成多個支撐部的步驟；其中，所述第一膜層和所述支撐部均由低反射率材料構(gòu)成。優(yōu)選的是，在所述基臺本體上形成第一膜層的步驟是將所述第一膜層的原料涂覆在所述基臺本體上后加熱固化得到所述第一膜層。優(yōu)選的是，所述在第一膜層上形成多個支撐部的步驟包括：將用于制備所述支撐部的原料涂覆在所述第一膜層上得到第二膜層；利用光刻工藝以使所述第二膜層形成具有多個支撐部的圖案。優(yōu)選的是，還包括將所述支撐部和所述第一膜層定型的步驟。優(yōu)選的是，所述將所述支撐部和所述第一膜層定型的步驟是將壓板覆蓋至所述支撐部上加熱所述基臺本體以消除所述支撐部和所述第一膜層的形變。本發(fā)明還提供一種曝光機(jī)，包括上述的曝光機(jī)臺，所述第一膜層未設(shè)置所述支撐部的位置處設(shè)有吸附孔。本發(fā)明的曝光基臺的本體上設(shè)有第一膜層，第一膜層上設(shè)有多個支撐部，當(dāng)對放置在支撐部上的基板進(jìn)行曝光時，第一膜層和支撐部均不會反射透過玻璃基板的多余紫外光，不會導(dǎo)致顯示產(chǎn)品形成色差圖案，提升產(chǎn)品畫質(zhì)質(zhì)量，降低不良率，節(jié)約成本。本發(fā)明的曝光機(jī)適用于曝光各種玻璃基板，尤其適用于曝光大尺寸顯示產(chǎn)品的玻璃基板。附圖說明圖1為現(xiàn)有的曝光基臺的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明的實(shí)施例1、2的曝光基臺的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明的實(shí)施例3-5的曝光基臺的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明的實(shí)施例3-5的曝光基臺的制備方法流程圖；圖5為本發(fā)明的實(shí)施例3-5的曝光基臺俯視示意圖；其中，附圖標(biāo)記為：1、基臺本體；2、反光層；3、浮雕圖案；4、基板；5、光刻膠；6、第一膜層；7、支撐部；8、吸附孔。具體實(shí)施方式為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。實(shí)施例1：本實(shí)施例提供一種曝光基臺，如圖2所示，包括：基臺本體1；設(shè)于所述基臺本體1上的第一膜層6；設(shè)于所述第一膜層6上用于與基板4接觸并支撐基板4的多個支撐部7。其中，所述第一膜層6和支撐部7均由低反射率材料構(gòu)成。本實(shí)施例的基臺本體1上設(shè)有第一膜層6，第一膜層6上設(shè)有多個支撐部7，當(dāng)對放置在支撐部7上的基板4進(jìn)行曝光時，第一膜層6和支撐部7均不會反射透過基板4的多余紫外光，不會導(dǎo)致顯示產(chǎn)品形成色差圖案，提升產(chǎn)品畫質(zhì)質(zhì)量，降低不良率，節(jié)約成本。實(shí)施例2：本實(shí)施例提供一種曝光基臺，如圖2所示，包括：基臺本體1；設(shè)于所述基臺本體1上厚4-7μm的由吸光樹脂材料構(gòu)成的第一膜層6；設(shè)于所述第一膜層6的至少部分位置上的由透明樹脂材料構(gòu)成多個支撐部7。其中，由透明樹脂材料構(gòu)成多個支撐部7即為浮雕圖案，用于與基板4接觸并支撐基板4。透明樹脂材料層的厚度為10-12μm。本實(shí)施例的基臺本體1上設(shè)有第一膜層6，第一膜層6上設(shè)有多個支撐部7，當(dāng)對放置在支撐部7上的基板4進(jìn)行曝光時，第一膜層6和支撐部7均不會反射透過基板4的多余紫外光，不會導(dǎo)致顯示產(chǎn)品形成色差圖案，提升產(chǎn)品畫質(zhì)質(zhì)量，降低不良率，節(jié)約成本。實(shí)施例3-5：本實(shí)施例提供一種實(shí)施例2的曝光基臺的制備方法，如圖3、圖4、圖5所示，包括以下步驟：S01、將第一膜層6的原料混合并涂覆在基臺本體1上后加熱固化得到第一膜層6。具體的，涂覆前需對基臺本體1進(jìn)行前處理，經(jīng)過UV光照射，超純水清洗，干燥后，通過狹縫涂覆的方式，控制涂覆機(jī)吐膠量，將混合好的第一膜層6的原料涂覆在基臺本體1上；涂覆完成后，在室溫下，放置7～10天，使溶劑基本揮發(fā)；最后緩慢加熱(10℃/小時)至200℃，保持30min，使第一膜層6完全固化，保證第一膜層6厚5～6um。第一膜層6各原料的質(zhì)量份數(shù)見表1：表1第一膜層各原料的質(zhì)量份數(shù)其中，實(shí)施例3-5中第一膜層6原料中聚酰亞胺預(yù)聚物的分子量分別為800、1000、1200；環(huán)氧樹脂的環(huán)氧值分別為0.41eq/100g、0.5eq/100g、0.54eq/100g。第一膜層6的原料混合后的粘度分別為2.1mPa.s、2.3mPa.s、2.5mPa.s。需要說明的是，飽和聚酰亞胺預(yù)聚物、單苯甲酸間苯二酚酯、亞磷酸酯可以保證第一膜層6的材料具有紫外吸收能力，白炭黑的作用是提高第一膜層6的耐磨性能，原料的粘度控制在2.1-2.5mPa.s之間可以保證材料良好的涂覆性能。其中，抗紫外劑還可以用鄰羥基苯甲酸苯酯、2-(2-羥基-5-甲基苯基)苯并三氮唑、2，4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮等代替?？估匣瘎┨娲钒?1，2，2，6，6-五甲哌啶基)亞磷酸酯、4-苯甲酰氧基-2，2，6，6-四甲基哌啶中的任意一種或幾種。S02、將支撐部7的原料混合后涂覆在第一膜層6上得到第二膜層；曝光以使第二膜層形成具有多個支撐部7的圖案。具體的，完成第一膜層6后，再經(jīng)過UV清洗干燥，涂覆混合好的支撐部7的原料?？刂仆扛矙C(jī)突出量，涂覆完成后，遮光室溫放置1天，100℃預(yù)烘90s后，經(jīng)過定制的具有分區(qū)圖案的掩膜板曝光。曝光完成后，使用0.05％的氫氧化鉀溶液均勻地沖洗表層，顯影未被曝光部分，形成具有分區(qū)圖案的多個支撐部7；然后用清水清洗表面，干燥后，加熱至200℃，保持20min。保證支撐部7的厚度(或稱高度)，即第二膜層的厚度在10～12um。其中，支撐部7的原料混合后為溶膠體系，使用前密封避光，0～5℃下保存，涂覆前回溫到室溫25℃下。實(shí)施例3-5中支撐部7的各原料的質(zhì)量份數(shù)見表2：表2支撐部的各原料的質(zhì)量份數(shù)可選的S03、將壓板覆蓋至支撐部7上加熱基臺本體以消除支撐部7和第一膜層6的形變。也就是說，為消除支撐部7和第一膜層6的聚合物材料的內(nèi)應(yīng)力，在支撐部上覆蓋上一層白玻璃，使基臺各處受到均勻壓力，保持溫度在90℃，10h。完成后移走白玻璃，此過程可使由聚合物膜層構(gòu)成的支撐部和第一膜層的塑形形變消失，保證實(shí)際使用時基臺各處的平坦度?？蛇x的S04、然后，使用雕刻刀將位于基臺本體1上吸附孔8位置上的第一膜層去除，經(jīng)清洗干燥后，得到最終的曝光基臺。其中，圖4中的支撐部7僅僅是示意圖，在此不限定支撐部7的具體形狀，可以理解的是，當(dāng)其實(shí)際應(yīng)用于曝光大尺寸的玻璃基板時，如圖5俯視圖所示，支撐部7圖案即為形成的浮雕圖案，可用于基臺分區(qū)。其中，實(shí)施例3-5的曝光基臺在不同波長的光照下，第一膜層6的反射率以及支撐部7的透過率見表3。表3實(shí)施例3-5的曝光基臺光照測試結(jié)果實(shí)施例3實(shí)施例4實(shí)施例5實(shí)施例3實(shí)施例4實(shí)施例5波長/nm290300310320350400第一膜層反射率/％877665支撐部透過率/％758181859091顯然，上述各實(shí)施例的具體實(shí)施方式還可進(jìn)行許多變化；例如：各原料的具體質(zhì)量分?jǐn)?shù)可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整，具體工藝可以根據(jù)需要進(jìn)行改變，以使第一膜層的反射率至5％-40％。實(shí)施例6：本實(shí)施例提供了一種曝光機(jī)，包括上述實(shí)施例的曝光機(jī)臺，其中，所述第一膜層未設(shè)置支撐部的至少部分位置處設(shè)有吸附孔，用于吸附玻璃基板。可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。當(dāng)前第1頁1 2 3