1.一種測量設(shè)備，包括：
光學(xué)系統(tǒng)，用以將照射輻射提供至周期性結(jié)構(gòu)上的光斑中，且用以接收由所述周期性結(jié)構(gòu)重新導(dǎo)向的輻射，所述光學(xué)系統(tǒng)包括：
第一光闌，用以阻擋來自所述周期性結(jié)構(gòu)的零階輻射且允許非零階輻射穿過；和
第二光闌，用以阻擋穿過所述第一光闌的零階輻射且允許所述非零階輻射穿過；以及
輻射檢測器，在所述光學(xué)系統(tǒng)的下游，并用以接收所述非零階輻射。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量設(shè)備，其中所述第一光闌包括反射鏡。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測量設(shè)備，還包括用以將所述照射輻射提供至所述反射鏡的輻射輸入件，所述反射鏡被配置以朝向所述周期性結(jié)構(gòu)上的所述光斑提供所述照射輻射。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第一光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是所述棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是板的一部分、在所述板中或在所述板上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的測量設(shè)備，其中所述板被安裝于鉸鏈上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是由框架可釋放地支撐的支撐臂結(jié)構(gòu)的一部分、在所述支撐臂結(jié)構(gòu)中或在所述支撐臂結(jié)構(gòu)上。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是不透明特征。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌是散射或反射特征。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述第二光闌可移動至被重新導(dǎo)向的輻射的路徑中和從被重新導(dǎo)向的輻射的路徑中移出。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項所述的測量設(shè)備，其中所述檢測器被配置以由所接收的非零階輻射來確定對準(zhǔn)。
14.一種光刻設(shè)備，包括：
圖案形成子系統(tǒng)，被配置以將圖案轉(zhuǎn)印至襯底；
測量子系統(tǒng)，被配置以測量所述襯底相對于所述圖案形成子系統(tǒng)的位置，
其中所述圖案形成子系統(tǒng)被布置以使用由所述測量子系統(tǒng)測量的所述位置而將所述圖案施加于所述襯底上的所需位置處，且其中所述測量子系統(tǒng)包括根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項所述的測量設(shè)備。
15.一種測量方法，所述方法包括：
將輻射提供至周期性結(jié)構(gòu)上的光斑中；
接收由所述周期性結(jié)構(gòu)重新導(dǎo)向的輻射，被重新導(dǎo)向的輻射包括零階輻射和非零階輻射；
使用第一光闌阻擋被重新導(dǎo)向的輻射的零階輻射，同時允許非零階輻射通過所述第一光闌；
使用第二光闌阻擋通過所述第一光闌的零階輻射，同時允許非零階輻射通過所述第二光闌；和
在所述第一光闌和所述第二光闌下游的輻射檢測器處接收所述非零階輻射。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述第一光闌包括反射鏡，且所述方法進一步包括將照射輻射提供至所述反射鏡，所述反射鏡朝向所述周期性結(jié)構(gòu)上的所述光斑提供所述照射輻射。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的方法，其中所述第一光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述第二光闌是所述棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
19.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的方法，其中所述第二光闌是棱鏡的一部分、在所述棱鏡中或在所述棱鏡上。
20.根據(jù)權(quán)利要求12至16中任一項所述的方法，進一步包括將所述第二光闌移動至被重新導(dǎo)向的輻射的路徑中和從被重新導(dǎo)向的輻射的路徑中移出。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中所述第二光闌是安裝于鉸鏈上的板的一部分、在所述板中或在所述板上，且其中移動所述第二光闌包括圍繞所述鉸鏈旋轉(zhuǎn)所述板。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的方法，其中所述第二光闌是由框架可釋放地支撐的支撐臂結(jié)構(gòu)的一部分、在所述支撐臂結(jié)構(gòu)中或在所述支撐臂結(jié)構(gòu)上。
23.根據(jù)權(quán)利要求15至22中任一項所述的方法，其中所述第二光闌是散射或反射特征。
24.一種制造器件的方法，其中使用光刻過程將器件圖案施加至襯底，所述方法包括通過參考形成于所述襯底上的周期性結(jié)構(gòu)的所測量位置來定位所施加的圖案，所測量位置是根據(jù)權(quán)利要求15至23中任一項所述的方法而獲得。