1.一種包括具有特征為在第一方向上的第一間距的多個(gè)重復(fù)元件的周期性結(jié)構(gòu)的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中所述元件沿垂直于所述第一方向的第二方向以第二間距為周期且在所述第二方向上的特征為具有所述第二間距的交替的對(duì)焦點(diǎn)敏感及對(duì)焦點(diǎn)不敏感的圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中：
第一對(duì)焦點(diǎn)不敏感的圖案經(jīng)配置以在產(chǎn)生之后產(chǎn)出第一臨界尺寸，且
第二對(duì)焦點(diǎn)敏感的圖案經(jīng)配置以在產(chǎn)生之后產(chǎn)出第二臨界尺寸，僅在滿足指定焦點(diǎn)要求時(shí)，所述第二臨界尺寸才等于所述第一臨界尺寸。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中所述第一間距接近于產(chǎn)品間距。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中所述第二間距是所述第一間距的4到6倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中所述第二臨界尺寸是所述第一臨界尺寸的1/2到1倍。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中所述第二對(duì)焦點(diǎn)敏感的圖案以次分辨率間距分段。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的目標(biāo)設(shè)計(jì)，其中在所述所產(chǎn)生目標(biāo)設(shè)計(jì)的散射術(shù)測量之后，所述第一間距經(jīng)配置以產(chǎn)出零衍射級(jí)信號(hào)，且所述第二間距經(jīng)配置以產(chǎn)出零衍射級(jí)信號(hào)以及±一衍射級(jí)信號(hào)。
8.一種方法，其包括：
設(shè)計(jì)周期性目標(biāo)以具有在第一方向上的第一間距以及具有沿具有交替對(duì)焦點(diǎn)敏感及對(duì)焦點(diǎn)不敏感的圖案的垂直方向的第二間距的元件，
產(chǎn)生所述經(jīng)設(shè)計(jì)目標(biāo)，及
通過測量所述所產(chǎn)生的對(duì)焦點(diǎn)敏感的圖案而確認(rèn)工具的焦點(diǎn)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括設(shè)計(jì)所述對(duì)焦點(diǎn)不敏感的圖案以在產(chǎn)生之后具有第一臨界尺寸，及設(shè)計(jì)所述對(duì)焦點(diǎn)敏感的圖案以在產(chǎn)生之后具有第二臨界尺寸，僅在滿足指定焦點(diǎn)要求時(shí)，所述第二臨界尺寸才等于所述第一臨界尺寸。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中所述目標(biāo)經(jīng)配置以由散射術(shù)測量，其中所述第一間距經(jīng)配置以產(chǎn)出零級(jí)信號(hào)，且所述第二間距經(jīng)配置以產(chǎn)出零級(jí)信號(hào)及至少一個(gè)一級(jí)信號(hào)。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括從具有不同臨界尺寸及/或間距的所述經(jīng)設(shè)計(jì)目標(biāo)制備焦點(diǎn)曝光矩陣FEM晶片。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其進(jìn)一步包括從經(jīng)測量目標(biāo)信號(hào)與從所述FEM晶片測量的多個(gè)信號(hào)的比較導(dǎo)出焦點(diǎn)參數(shù)。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括從具有不同臨界尺寸及/或間距的多個(gè)目標(biāo)的散射術(shù)測量導(dǎo)出模型。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其進(jìn)一步包括根據(jù)所述模型從經(jīng)測量目標(biāo)信號(hào)導(dǎo)出焦點(diǎn)參數(shù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括以次分辨率間距分段所述對(duì)焦點(diǎn)敏感的圖案。
16.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其進(jìn)一步包括將所述第二間距設(shè)計(jì)為所述第一間距的4到6倍，且將所述第二臨界尺寸設(shè)計(jì)為所述第一臨界尺寸的1/2到1倍。