技術編號：11851087
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。使用散射術計量的焦點測量相關申請案的交叉參考本申請案主張2014年3月31日申請的第61/973,151號美國臨時專利申請案的權益，所述臨時申請案的全文以引用的方式全部并入本文中。技術領域本發(fā)明涉及計量的領域，且更特定來說，本發(fā)明涉及使用散射術計量的焦點測量。背景技術光刻工具是用以將所要圖案印刷到襯底上的機器。所述工具用以將圖案從掩模轉印到印刷于晶片上的個別集成電路層。轉印通常經由成像到感光層(稱為抗蝕劑)上而實施。隨著圖案元件的目標臨界尺寸(CD)縮小，成像工藝窗(processwindow)...
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