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一種發(fā)光裝置及投影系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):12785525閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種發(fā)光裝置,其特征在于,包括第一光源陣列、第二光源陣列、合光單元陣列;

所述第一光源陣列包括至少一排第一光源組,所述第一光源組包括至少一個(gè)第一光源,所述第一光源用于發(fā)射第一光;

所述第二光源陣列包括至少一排第二光源組,所述第二光源組包括至少一個(gè)第二光源,所述第二光源用于發(fā)射第二光;

所述第二光源陣列和所述第一光源陣列相互平行面對(duì)設(shè)置,且一個(gè)第一光源和一個(gè)第二光源對(duì)應(yīng)組成一個(gè)光源對(duì),每個(gè)光源對(duì)中的第一光源和第二光源發(fā)出的光束之間具有預(yù)定距離的錯(cuò)位;

所述合光單元陣列設(shè)置在所述第一光源陣列與所述第二光源陣列之間,所述合光單元陣列包括至少一個(gè)合光單元,每個(gè)光源對(duì)與預(yù)定的一個(gè)合光單元對(duì)應(yīng);所述合光單元包括反射裝置和透反裝置,所述反射裝置設(shè)置在與其對(duì)應(yīng)的第一光源發(fā)射的光束的光路上,用于對(duì)入射的第一光進(jìn)行反射;所述透反裝置設(shè)置在經(jīng)反射裝置反射后的第一光的光路上,同時(shí)也位于與其對(duì)應(yīng)的第二光源發(fā)射的光束的光路上,用于對(duì)入射的第一光進(jìn)行透射并對(duì)入射的第二光進(jìn)行反射;所述反射裝置和所述透反裝置相對(duì)于第一光和第二光具有預(yù)定的入射角度以使得從所述透反裝置透射的第一光和從所述透反裝置反射的第二光都沿預(yù)定的合光方向傳播且第一光和第二光所形成的光斑至少有部分重合,從而輸出第一光和第二光的合光。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,

所述反射裝置最靠近所述第二光源陣列的邊緣為反射裝置下邊緣;在所述反射裝置上與所述反射裝置下邊緣處于同一端的邊緣為反射裝置上邊緣;

所述透反裝置最靠近所述第二光源陣列的邊緣為透反裝置下邊緣;在所述透反裝置上與所述透反裝置下邊緣處于同一端的邊緣為透反裝置上邊緣;

入射到所述透反裝置的第一光的光軸到所述反射裝置上邊緣的距離為第一參考距離;

被所述透反裝置透射的第一光與被所述透反裝置反射的第二光至少部分重合得到的合光為第二參考光;所述第二參考光的光軸到下一個(gè)合光單元的反射裝置和/或透反裝置的下邊緣的距離為第二參考距離。

3.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,

所述第二參考距離的值等于所述第二參考光的半徑值。

4.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,

所述第一參考距離的值等于被所述反射裝置反射的第一光的半徑值。

5.如權(quán)利要求2所述的裝置,其特征在于,

被所述透反裝置透射的第一光的光軸與被所述透反裝置反射的第二光的光軸重合,從而得到第二參考光。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于,

被所述透反裝置透射的第一光的光束半徑、被所述透反裝置反射的第二光的光束半徑以及第二參考光的光束半徑相等;

相鄰合光單元之間的錯(cuò)位距離使得所述第一參考距離、所述第二參考距離的值等于所述第二參考光的光束半徑值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于,所述第一光源用于發(fā)射第一偏振態(tài)的第一光,所述第二光源用于發(fā)射第二偏振態(tài)的第二光;

所述透反裝置包括偏振片,所述偏振片用于透射第一偏振態(tài)的第一光并反射第二偏振態(tài)的第二光。

8.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,

在所述第一光源組中,相鄰兩第一光源之間的間距大于第一光/第二光的光束直徑值;

在所述第二光源組中,相鄰兩第二光源之間的間距大于第一光/第二光的光束直徑值。

9.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,

所述第一光源陣列包括按照排和列排布的多個(gè)第一光源,所述第二光源陣列包括按照排和列排布的多個(gè)第二光源;

將光束發(fā)射至同一合光單元的一個(gè)第一光源和一個(gè)第二光源對(duì)應(yīng)組成一個(gè)光源對(duì),每個(gè)光源對(duì)中的第一光源和第二光源發(fā)出的光束在行和列上都具有預(yù)定距離的錯(cuò)位;

一個(gè)合光單元與同一列的光源對(duì)相對(duì)應(yīng)。

10.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的裝置,其特征在于,

所述第一光源陣列/所述第二光源陣列與所述合光單元陣列之間還設(shè)置有半波片;

所述半波片用于改變所述第一光源陣列/所述第二光源陣列發(fā)出的第一光/第二光的偏振態(tài),從而使得第一光/第二光的窄邊對(duì)應(yīng)所述反射裝置/透反裝置的窄邊。

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