技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提出一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及對(duì)準(zhǔn)方法，該對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括：掩模版，提供投影曝光圖案和對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；投影物鏡焦面測(cè)量標(biāo)記，設(shè)置于所述掩模版上；投影物鏡，對(duì)掩模版上的曝光圖案、標(biāo)記成像到硅片方像方焦面；工件臺(tái)，承載有同軸鏡頭、基準(zhǔn)板和硅片，其中同軸鏡頭對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記、投影物鏡焦面測(cè)量標(biāo)記和調(diào)焦標(biāo)記進(jìn)行成像，基準(zhǔn)板承載有調(diào)焦標(biāo)記和參考標(biāo)記，并提供水平向和垂向測(cè)量基準(zhǔn)，硅片承載有硅片對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)，對(duì)硅片表面調(diào)平，控制硅片上表面與硅片焦面重合；離軸對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，對(duì)硅片圖案對(duì)準(zhǔn)。本發(fā)明旨在為調(diào)焦調(diào)平、對(duì)準(zhǔn)、焦面探測(cè)建立統(tǒng)一的測(cè)量基準(zhǔn)，提高垂向、水平向測(cè)量分系統(tǒng)對(duì)溫度變化等情況的適應(yīng)能力。

技術(shù)研發(fā)人員：于大維;杜榮
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機(jī)械工程有限公司
文檔號(hào)碼：201510859907
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.30
技術(shù)公布日：2017.06.09