技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種測校裝置及測校方法，該測校裝置包括：照明組件，包括光源、照明鏡頭和空間光調(diào)制器，所述照明組件用于形成不同模式的照明光束；投影照明系統(tǒng)，用于將所述照明光束投射到工件的對準(zhǔn)標(biāo)記上；調(diào)焦調(diào)平功能系統(tǒng)，用于測量工件的離焦傾斜量并反饋至曝光系統(tǒng)的工件臺；對準(zhǔn)功能系統(tǒng)，用于對測量工件的水平位置偏移量并反饋至曝光系統(tǒng)的工件臺；所述調(diào)焦調(diào)平功能系統(tǒng)與所述對準(zhǔn)功能系統(tǒng)共用部分光路。本發(fā)明可以節(jié)省光刻機的調(diào)焦調(diào)平流程的時間，提高對準(zhǔn)精度，并且對準(zhǔn)過程和調(diào)焦調(diào)平過程之間的相互校準(zhǔn)，可以提高整個的調(diào)焦調(diào)平和對準(zhǔn)的測量精度，最終提高光刻機的曝光精度，提高曝光工藝的產(chǎn)率。

技術(shù)研發(fā)人員：陳飛彪;秦璋;藍(lán)科;唐平玉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海微電子裝備有限公司
文檔號碼：201510856637
技術(shù)研發(fā)日：2015.11.30
技術(shù)公布日：2017.06.09