技術(shù)編號(hào)：12594112
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及曝光領(lǐng)域，特別涉及一種測校裝置及測校方法。背景技術(shù)投影光刻機(jī)或稱投影光刻設(shè)備，是將掩模上的圖案通過投影物鏡投影到工件表面的裝置。在投影光刻設(shè)備中，必須有自動(dòng)調(diào)焦調(diào)平裝置和對(duì)準(zhǔn)裝置指引工件臺(tái)將工件表面精確地移動(dòng)到指定的曝光位置。目前實(shí)現(xiàn)調(diào)焦調(diào)平的傳感器主要是基于光電式三角測量的調(diào)焦調(diào)平傳感器，實(shí)現(xiàn)水平位置對(duì)準(zhǔn)的裝置主要是基于機(jī)器視覺的機(jī)器視覺對(duì)準(zhǔn)傳感器。基于CCD圖像傳感器的光電探測方案比較成熟，是基于光電式三角測量的調(diào)焦調(diào)平技術(shù)方案中的一種，其依據(jù)標(biāo)記光斑投影在被測物面上的位置與其被反...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。